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1、激光化学刻蚀介绍,课程名称：激光加工技术主讲教师：王文权 单位：浙江工贸职业技术学院,1. 教学目标 了解激光微细加工中激光化学刻蚀技术的特点和应用。,2.1 激光化学刻蚀的概念和特点 激光化学刻蚀通常是指在一定气体氛围下用高强度激光照射硅表面，以达到极高的腐蚀速度，也称照相平板印刷。不同于溶液或电化学腐蚀，激光刻蚀对形状及轮廓适应性强，可制造形状复杂的微型机械。,2. 激光化学刻蚀技术介绍,有选择性地从衬底（硅片）表面去除不需要的材料，目的是在涂胶硅片上获得光刻图形对应的图形，受光刻胶保护的材料层不被腐蚀源所侵蚀,图1 光刻的原理示意图,图2 激光刻蚀的工艺步骤,2.2 激光化学刻蚀的典型工
2、艺,图3 激光刻蚀速率的说明,激光刻蚀速率的概念指刻蚀过程中去除硅表面材料的速度（T/t），单位：埃/分钟,2.3 激光化学刻蚀的图形转移要求（1）图形保真度高：掩膜版电路尽量不失真转移到衬底表面；,图4 刻蚀剖面薄膜侧壁的形状,各向异性剖面容易控制横、纵向刻蚀速率,各向同性剖面易产生钻蚀现象,刻蚀偏差指刻蚀完成后线宽或关键尺寸间距的变化，等于Wb-Wa,钻蚀与过刻蚀缺陷的形成,图5 常见刻蚀偏差说明示意图,（2）刻蚀材料的选择比高；,选择比是指同种刻蚀条件下，刻蚀剂对一种材料和另一种材料的刻蚀速率之比,图6 刻蚀材料的选择比说明图,（3) 刻蚀的均匀性和清洁性好。 刻蚀质量检查：确保电路图形转移不失真，特别是关键部位尺寸，多采用光发射分光仪法和激光干涉法。,2.4 激光化学刻蚀的检查,3. 小结 本次课介绍了激光化学刻蚀技术的原理和工艺过程。,4. 作业思考题 1）激光化学刻蚀的原理是什么？ 2）简要说明激光刻蚀的工艺过程？,
