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1、制程控制系统设计,设计处教育训练资料,Confidential, unpublished property of L&K. Do not duplicate or distribute L&K Engineering Co., Ltd. 2006,大纲,制程控制系统概述 CDA控制系统 GN2控制系统 PCW控制系统 PV控制系统,制程控制系统, 概述 无尘室制程系统主要包含:CDA系统、GN2系统、PCW系统、PV系统; 制程控制系统就是对每一个系统进行自动控制。,制程控制系统, CDA系统,空压机,空压机,干燥机,干燥机,tank,过滤器,过滤器,空压机,TO 使用点,tank,制程控制系
2、统, CDA系统主要参数:1、排气量2、排气压力3、排气含油量4、排气含尘量5、排气露点,制程控制系统,流量计,露点温度,压力传感器,微尘粒子计数器,差压开关,差压开关,1、AUTO/MANUL2、RUNNING STATUS3、FAULT4、REMOTE ON/OFF, CDA系统自控设计,制程控制系统,VFD:1、AUTO/MANUL2、RUNNING STATUS3、FAULT4、REMOTE ON/OFF, CDA系统自控设计,1、AUTO/MANUL2、RUNNING STATUS3、FAULT4、REMOTE ON/OFF,通过通讯接口,通常为MODBUS通讯接口:1、AUTO/M
3、ANUL2、RUNNING STATUS3、FAULT4、REMOTE ON/OFF,制程控制系统, GN2系统,制程控制系统, CDA系统主要参数:1、排气量2、排气压力3、排气露点,制程控制系统, GN2系统自控设计,流量计,露点温度,压力传感器,1、AUTO/MANUL2、RUNNING STATUS3、FAULT4、REMOTE ON/OFF,通过通讯接口,通常为MODBUS通讯接口:1、AUTO/MANUL2、RUNNING STATUS3、FAULT4、REMOTE ON/OFF,制程控制系统, PCW系统,制程控制系统, PCW系统主要参数:1、出水温度2、出水压力3、回水温度4
4、、回水压力,制程控制系统, PCW控制设计主要分二部分:1、水箱控制2、加压控制3、过滤控制4、冷却控制,制程控制系统, PCW系统自控设计-水箱控制,液位传感器控制补水,导电计控制排水,制程控制系统, PCW系统自控设计-加压、过滤、冷却控制,露点温度,压力传感器,1、AUTO/MANUL2、RUNNING STATUS3、FAULT4、REMOTE ON/OFF,差压开关,控制板换冰水阀,VFD:1、A/M2、RS3、FAULT4、ON/OFF,制程控制系统, PV系统,真空机,真空机,储气罐5m,用气点,排气,排气,CHWS,CHWR,水气分离器,水冷却器,真空泵浦(转子),马达,控制电
5、盘,真空使用端,泵浦入口,泵浦出口,排气,冷却水进水,冷却出水,水进入冷却器,水冷却出口进入泵浦,水,气进入分离器,自来水补水,自来水排水,自来水补水,制程控制系统, PV系统自控设计,真空机,真空机,储气罐5m,用气点,排气,排气,冰水温度,压力传感器,1、AUTO/MANUL2、RUNNING STATUS3、FAULT4、REMOTE ON/OFF,CHWS,CHWR,简报结束,谢谢,Confidential, unpublished property of L&K. Do not duplicate or distribute L&K Engineering Co., Ltd. 2006,