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1、“模拟电子技术”特点,处理对象:模拟信号处理目的:放大、稳定、滤波、产生信号分析方法:工程分析方法(抓住主要因素,忽略次要因素)难点:交流、直流叠加,工程分析方法学习方法:认真听讲、多做练习,主要内容,半导体器件基础二极管的工作原理、分析方法三极管的工作原理、分析方法场效应管的工作原理、分析方法,基本放大电路差分放大电路集成运算放大电路负反馈放大电路功率放大电路,器 件,电 路,学习方法:,基本内容的处理原则:,电子器件管外部特性基本电路路学习重点应用电路用广泛了解,原则:三者结合,管为路用,以路为主,第14章 半导体二极管和三极管,14.3 半导体二极管,14.4 稳压二极管及其他特殊二极管
2、,14.5 半导体三极管,14.2 PN结,14.1 半导体的导电特性,第14章 半导体二极管和三极管,本章要求:一、理解PN结的单向导电性,三极管的电流分配和 电流放大作用;二、了解二极管、稳压管和三极管的基本构造、工 作原理和特性曲线,理解主要参数的意义;三、会分析含有二极管的电路。,学会用工程观点分析问题,就是根据实际情况,对器件的数学模型和电路的工作条件进行合理的近似,以便用简便的分析方法获得具有实际意义的结果。 对电路进行分析计算时,只要能满足技术指标,就不要过分追究精确的数值。 器件是非线性的、特性有分散性、RC 的值有误差、工程上允许一定的误差、采用合理估算的方法。,对于元器件,
3、重点放在特性、参数、技术指标和正确使用方法,不要过分追究其内部机理。讨论器件的目的在于应用。,导体、半导体和绝缘体,一、导体 自然界中很容易导电的物质称为导体, 金属一般都是导体。,二、绝缘体 有的物质几乎不导电,称为绝缘体,如橡皮、陶瓷、塑料和石英。,三、半导体 另有一类物质的导电特性处于导体和绝缘体之间,称为半导体,如锗、硅、砷化镓和一些硫化物、氧化物等。,半导体的导电机理不同于其它物质,所以它具有不同于其它物质的特点。例如:,当受外界热和光的作用时,它的导电能 力明显变化。,往纯净的半导体中掺入某些杂质,会使 它的导电能力明显改变。,半导体是导电性能介于导体和绝缘体之间的物体。在一定条件
4、下可导电。 半导体的电阻率为10-3109 cm。典型的半导体有硅Si和锗Ge以及砷化镓GaAs等。,14.1 半导体的导电特性,半导体的导电特性:,(可做成温度敏感元件,如热敏电阻)。,掺杂性:往纯净的半导体中掺入某些杂质,导电 能力明显改变(可做成各种不同用途的半导 体器件,如二极管、三极管和晶闸管等)。,光敏性:当受到光照时,导电能力明显变化 (可做 成各种光敏元件,如光敏电阻、光敏二极 管、光敏三极管等)。,热敏性:当环境温度升高时,导电能力显著增强,14.1.1 本征半导体,完全纯净的、具有晶体结构的半导体,称为本征半导体。,晶体中原子的排列方式,硅单晶中的共价健结构,共价健,共价键
5、中的两个电子,称为价电子。,价电子,价电子在获得一定能量(温度升高或受光照)后,即可挣脱原子核的束缚,成为自由电子(带负电),同时共价键中留下一个空位,称为空穴(带正电)。,本征半导体的导电机理,这一现象称为本征激发。,空穴,温度愈高,晶体中产生的自由电子便愈多。,自由电子,在外电场的作用下,空穴吸引相邻原子的价电子来填补,而在该原子中出现一个空穴,其结果相当于空穴的运动(相当于正电荷的移动)。,本征半导体的导电机理,当半导体两端加上外电压时,在半导体中将出现两部分电流 (1)自由电子作定向运动 电子电流 (2)价电子递补空穴 空穴电流,注意: (1) 本征半导体中载流子数目极少, 其导电性能
6、很差; (2) 温度愈高, 载流子的数目愈多,半导体的导电性能也就愈好。所以,温度对半导体器件性能影响很大。,自由电子和空穴都称为载流子。 自由电子和空穴成对地产生的同时,又不断复合。在一定温度下,载流子的产生和复合达到动态平衡,半导体中载流子便维持一定的数目。,14.1.2 N型半导体和 P 型半导体,掺杂后自由电子数目大量增加,自由电子导电成为这种半导体的主要导电方式,称为电子半导体或N型半导体。,掺入五价元素,多余电子,磷原子,在常温下即可变为自由电子,失去一个电子变为正离子,在本征半导体中掺入微量的杂质(某种元素),形成杂质半导体。,在N 型半导体中自由电子是多数载流子,空穴是少数载流
7、子。,14.1.2 N型半导体和 P 型半导体,掺杂后空穴数目大量增加,空穴导电成为这种半导体的主要导电方式,称为空穴半导体或 P型半导体。,掺入三价元素,在 P 型半导体中空穴是多数载流子,自由电子是少数载流子。,硼原子,接受一个电子变为负离子,空穴,无论N型或P型半导体都是中性的,对外不显电性。,1. 在杂质半导体中多子的数量与 (a. 掺杂浓度、b.温度)有关。,2. 在杂质半导体中少子的数量与 (a. 掺杂浓度、b.温度)有关。,3. 当温度升高时,少子的数量 (a. 减少、b. 不变、c. 增多)。,a,b,c,4. 在外加电压的作用下,P 型半导体中的电流主要是 ,N 型半导体中的
8、电流主要是 。 (a. 电子电流、b.空穴电流),b,a,14.2 PN结,14.2.1 PN结的形成,多子的扩散运动,少子的漂移运动,浓度差,P 型半导体,N 型半导体,内电场越强,漂移运动越强,而漂移使空间电荷区变薄。,扩散的结果使空间电荷区变宽。,空间电荷区也称 PN 结,扩散和漂移这一对相反的运动最终达到动态平衡,空间电荷区的厚度固定不变。,形成空间电荷区,14.2.2 PN结的单向导电性,1. PN 结加正向电压(正向偏置),PN 结变窄,P接正、N接负,IF,内电场被削弱,多子的扩散加强,形成较大的扩散电流。,PN 结加正向电压时,PN结变窄,正向电流较大,正向电阻较小,PN结处于
9、导通状态。,2. PN 结加反向电压(反向偏置),P接负、N接正,PN 结变宽,2. PN 结加反向电压(反向偏置),内电场被加强,少子的漂移加强,由于少子数量很少,形成很小的反向电流。,IR,P接负、N接正,温度越高少子的数目越多,反向电流将随温度增加。,PN 结加反向电压时,PN结变宽,反向电流较小,反向电阻较大,PN结处于截止状态。,14.3 半导体二极管,14.3.1 基本结构,(a) 点接触型,(b)面接触型,结面积小、结电容小、正向电流小。用于检波和变频等高频电路。,结面积大、正向电流大、结电容大,用于工频大电流整流电路。,(c) 平面型 用于集成电路制作工艺中。PN结结面积可大可
10、小,用于高频整流和开关电路中。,图 1 12 半导体二极管的结构和符号,14.3 半导体二极管,二极管的结构示意图,14.3.2 伏安特性,硅管0.5V,锗管0.1V。,反向击穿电压U(BR),导通压降,外加电压大于死区电压二极管才能导通。,外加电压大于反向击穿电压二极管被击穿,失去单向导电性。,正向特性,反向特性,特点:非线性,硅0.60.8V锗0.20.3V,死区电压,反向电流在一定电压范围内保持常数。,14.3.3 主要参数,1. 最大整流电流 IOM,二极管长期使用时,允许流过二极管的最大正向平均电流。,2. 反向工作峰值电压URWM,是保证二极管不被击穿而给出的反向峰值电压,一般是二
11、极管反向击穿电压UBR的一半或三分之二。二极管击穿后单向导电性被破坏,甚至过热而烧坏。,3. 反向峰值电流IRM,指二极管加最高反向工作电压时的反向电流。反向电流大,说明管子的单向导电性差,IRM受温度的影响,温度越高反向电流越大。硅管的反向电流较小,锗管的反向电流较大,为硅管的几十到几百倍。,二极管的单向导电性,1. 二极管加正向电压(正向偏置,阳极接正、阴极接负 )时, 二极管处于正向导通状态,二极管正向电阻较小,正向电流较大。,2. 二极管加反向电压(反向偏置,阳极接负、阴极接正 )时, 二极管处于反向截止状态,二极管反向电阻较大,反向电流很小。,3. 外加电压大于反向击穿电压二极管被击
12、穿,失去单向导电性。,4. 二极管的反向电流受温度的影响,温度愈高反向电流愈大。,二极管电路分析举例,定性分析:判断二极管的工作状态,导通截止,分析方法:将二极管断开,分析二极管两端电位的高低或所加电压UD的正负。,若 V阳 V阴或 UD为正( 正向偏置 ),二极管导通若 V阳 V阴或 UD为负( 反向偏置 ),二极管截止,若二极管是理想的,正向导通时正向管压降为零,反向截止时二极管相当于断开。,电路如图,求:UAB,V阳 =6 V V阴 =12 V V阳V阴 二极管导通若忽略管压降,二极管可看作短路,UAB = 6V否则, UAB低于6V一个管压降,为6.3或6.7V,例1:,取 B 点作参
13、考点,断开二极管,分析二极管阳极和阴极的电位。,在这里,二极管起钳位作用。,忽略管压降,两个二极管的阴极接在一起取 B 点作参考点,断开二极管,分析二极管阳极和阴极的电位。,V1阳 =6 V,V2阳=0 V,V1阴 = V2阴= 12 VUD1 = 6V,UD2 =12V UD2 UD1 D2 优先导通, D1截止。若忽略管压降,二极管可看作短路,UAB = 0 V,例2:,D1承受反向电压为6 V,流过 D2 的电流为,求:UAB,在这里, D2 起钳位作用, D1起隔离作用。,ui 8V,二极管导通,可看作短路 uo = 8V ui 8V,二极管截止,可看作开路 uo = ui作业 P28
14、 14.3.1 14.3.2,已知: 二极管是理想的,试画出 uo 波形。,8V,例3:,二极管的用途: 整流、检波、限幅、钳位、开关、元件保护、温度补偿等。,参考点,二极管阴极电位为 8 V,按 PN 结结构分:有点接触型和面接触型二极管。点接触型管子中不允许通过较大的电流,因结电容小,可在高频下工作。面接触型二极管 PN 结的面积大,允许流过的电流大,但只能在较低频率下工作。,按用途划分:有整流二极管、检波二极管、稳压二极管、开关二极管、发光二极管、变容二极管等。,按半导体材料分:有硅二极管、锗二极管等。,二极管的类型,14.4 稳压二极管,1. 符号,UZ,IZ,IZM, UZ, IZ,
15、2. 伏安特性,稳压管正常工作时加反向电压,使用时要加限流电阻,稳压管反向击穿后,电流变化很大,但其两端电压变化很小,利用此特性,稳压管在电路中可起稳压作用。,3. 主要参数,(1) 稳定电压UZ 稳压管正常工作(反向击穿)时管子两端的电压。,(2) 电压温度系数 环境温度每变化1C引起稳压值变化的百分数。,(3) 动态电阻,(4) 稳定电流 IZ 、最大稳定电流 IZM,(5) 最大允许耗散功率 PZM = UZ IZM,rZ愈小,曲线愈陡,稳压性能愈好。,1.光电二极管,反向电流随光照强度的增加而上升。,符号,光电二极管,特殊二极管,2. 发光二极管,发光二极管是一种将电能转换为光能的半导
16、体器件,它包含了可见光、不可见光、激光等类型。,可见光发光二极管也称为LED,符号如图所示。发光颜色目前有红色、绿色、橙色、黄色等。发光二极管的电特性与普通二极管一样,伏安特性曲线也类似,同样具有单向导电性。但正向导通电压比普通二极管高,红色的导通电压在1.61.8V间,绿色的为2V左右。,发光二极管,14.5 半导体三极管,又称双极型三极管(BJT) 、晶体管,或简称为三极管。,(Bipolar Junction Transistor),三极管的外形如下图所示。,三极管有两种类型:NPN 和 PNP 型。主要以 NPN 型为例进行讨论。,14.5 半导体三极管,14.5.1 基本结构,基极,
17、发射极,集电极,NPN型,符号:,NPN型三极管,PNP型三极管,基区:最薄,掺杂浓度最低,发射区:掺杂浓度最高,发射结,集电结,结构特点:,集电区:面积最大,晶体管若实现放大,必须从晶体管内部结构和外部所加电源的极性来保证。,不具备放大作用,晶体管内部结构要求:,1)发射区高掺杂。,2)基区做得很薄。通常只有 几微米到几十微米,而且掺杂较少。,3)集电结面积大。,晶体管放大的外部条件:,外加电源的极性应使发射结处于正向偏置状态,而集电结处于反向偏置状态。,15. 5. 2 电流分配和放大原理,1. 三极管放大的外部条件,发射结正偏、集电结反偏,PNP发射结正偏 VBVE集电结反偏 VCVB,
18、从电位的角度看: NPN 发射结正偏 VBVE集电结反偏 VCVB 前提:EC EB,IB,IC,发射极是输入回路、输出回路的公共端,共发射极电路,测量晶体管特性的实验线路,EB,RB,三极管的三种组态,2. 各电极电流关系及电流放大作用,结论:,1)三电极电流关系 IE = IB + IC2) IC IB , IC IE 3) IC IB,把基极电流的微小变化能够引起集电极电流较大变化的特性称为晶体管的电流放大作用。 实质:用一个微小电流的变化去控制一个较大电流的变化,是CCCS器件。,3.三极管内部载流子的运动规律,基区空穴向发射区的扩散可忽略。,发射结正偏,发射区电子不断向基区扩散,形成
19、发射极电流IE。,进入P 区的电子少部分与基区的空穴复合,形成电流IBE ,多数扩散到集电结。,从基区扩散来的电子作为集电结的少子,漂移进入集电结而被收集,形成ICE。,集电结反偏,有少子形成的反向饱和电流ICBO。,3. 三极管内部载流子的运动规律,IC = ICE+ICBO ICE,IB = IBE- ICBO IBE,ICE 与 IBE 之比称为共发射极电流放大倍数,集射极穿透电流, 温度ICEO,(常用公式),若IB =0, 则 IC ICE0,15.5.3 特性曲线,即管子各电极电压与电流的关系曲线,是管子内部载流子运动的外部表现,反映了晶体管的性能,是分析放大电路的依据。,为什么要
20、研究特性曲线: 1)直观地分析管子的工作状态 2)合理地选择偏置电路的参数,设计性能良好的电路,重点讨论应用最广泛的共发射极接法的特性曲线,发射极是输入回路、输出回路的公共端,共发射极电路,输入回路,输出回路,测量晶体管特性的实验线路,1. 输入特性,特点:非线性,死区电压:硅管0.5V,锗管0.1V。,正常工作时发射结电压: NPN型硅管 UBE 0.60.7VPNP型锗管 UBE 0.2 0.3V,2. 输出特性,IB=0,20A,放大区,输出特性曲线通常分三个工作区:,(1) 放大区,在放大区有 IC= IB ,也称为线性区,具有恒流特性。,在放大区,发射结处于正向偏置、集电结处于反向偏
21、置,晶体管工作于放大状态。,(2)截止区,IB 0 以下区域为截止区,有 IC 0 。,在截止区发射结处于反向偏置,集电结处于反向偏置,晶体管工作于截止状态。,饱和区,截止区,(3)饱和区,当UCE UBE时,晶体管工作于饱和状态。 在饱和区,IB IC,发射结处于正向偏置,集电结也处于正偏。 深度饱和时, 硅管UCES 0.3V, 锗管UCES 0.1V。,15.5.4 主要参数,1. 电流放大系数,,直流电流放大系数,交流电流放大系数,当晶体管接成发射极电路时,,表示晶体管特性的数据称为晶体管的参数,晶体管的参数也是设计电路、选用晶体管的依据。,注意:,和 的含义不同,但在特性曲线近于平行
22、等距并且ICE0 较小的情况下,两者数值接近。,常用晶体管的 值在20 200之间。可用万用电表测得,例:在UCE= 6 V时, 在 Q1 点IB=40A, IC=1.5mA; 在 Q2 点IB=60 A, IC=2.3mA。,在以后的计算中,一般作近似处理: = 。,Q1,Q2,在 Q1 点,有,由 Q1 和Q2点,得,2.集-基极反向截止电流 ICBO,ICBO是由少数载流子的漂移运动所形成的电流,受温度的影响大。 温度ICBO,3.集-射极反向截止电流(穿透电流)ICEO,ICEO受温度的影响大。温度ICEO,所以IC也相应增加。三极管的温度特性较差。,4. 集电极最大允许电流 ICM,
23、5. 集-射极反向击穿电压U(BR)CEO,集电极电流 IC超过一定值,会导致三极管的值的下降,当值下降到正常值的三分之二时的集电极电流即为 ICM。IC超过ICM会使管子损坏?,当集射极之间的电压UCE 超过一定的数值时,三极管就会被击穿。手册上给出的数值是25C、基极开路时的击穿电压U(BR) CEO。,6. 集电极最大允许耗散功耗PCM,PCM取决于三极管允许的温升,消耗功率过大,温升过高会烧坏三极管。 PC PCM =IC UCE,硅管允许结温约为150C,锗管约为7090C。,ICUCE=PCM,安全工作区,由三个极限参数可画出三极管的安全工作区,集电极最大允许电流,集-射极反向击穿
24、电压,集电极最大允许耗散功耗,1、如何用万用表判断NPN、PNP管子,并确定e、c、b各极?,例 若测得放大电路中3个三极管的3个电极对地的电位分别如下,判断是硅管还是锗管,是NPN还是PNP?并确定e、b、c极?(1)U1=2.5V,U2=6V,U3=1.8V;(2)U1=-6V,U2=-3V,U3=-2.8V;(3)U1=-1.8V,U2=-2V,U3=0V;,解(1)1、3脚电位差为0.7V,故1、3脚间为发射结,1为b(基极),3为e(发射极)2脚为C(集电极),为硅管,又U2 U1 U3 ,该管为NPN。(2)PNP,锗管,2脚为b,1脚为c,3脚为e。(3)NPN,锗管,1脚为b,3脚为c,2脚为e。,晶体管参数与温度的关系,1、温度每增加10C,ICBO增大一倍。硅管优 于锗管。,2、温度每升高 1C,UBE将减小 (22.5)mV, 即晶体管具有负温度系数。,3、温度每升高 1C, 增加 0.5%1.0%。,