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1、精密离子减薄仪Precision Ion Polishing System型号: 691主要功能: 主要用于陶瓷、半导体、金属等材料的透射电子显微镜(TEM)样品的制备。主要技术参数: 极限待机真空度：310-5Pa；轰击电压：0-6 keV； 离子枪转角：010o；样品台转速：16 rpm /min；试样厚度d 30m 工作原理：在高真空条件下，离子枪提供高能量的氩离子流，对样品表面以某一入射角度连续轰击，当氩离子流的轰击能量大于样品表层原子结合能时，样品表面原子发生溅射。连续不断的溅射，最后获得所需要的薄膜样品。操作注意事项：1必须经管理人员同意方可使用；2样品在离子减薄前要通过机械研磨或
2、凹坑，厚度要小于30m。3样品台一定要水平（沿X轴方向）放置到样品室中。4在离子减薄过程中，每个样品前60%的时间用10o角，中间20%的时间用7o角，最后20%的时间用4o角。5离子枪每工作1小时一定要停止15分钟，如果连续工作会烧坏离子枪。6离子束调节开关(Ion Beam Modulator)要在Double 状态，切忌在off 状态。主机示意图：1. 左枪电流; 2. 束能量(keV)/前级气压(Torr); 3.右枪电流; 4.左枪气流控制; 5.左枪气阀开关; 6.右枪气阀开关; 7.右枪气流控制; 8.真空表; 9.MDP指示灯; 10.前级气压指示灯; 11.DP测试按钮; 12.循环终止重设按钮; 13.主电源开关; 14.束状态指示灯; 15.离子束调节器开关;16.角度状态指示灯;17.气锁放气指示灯; 18.气锁防气开关; 19.离子枪电压控制; 20.计时器开关按钮; 21.计时器设置按钮; 22.剩余时间显示; 23.转速控制; 24.样品升降控制; 25.气锁抽气开关; 26.气锁真空指示灯
