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1、,光刻胶与周边材料(一)倍晶,内容1.光刻工艺介绍光刻材料光刻胶(g,h,-线PR,化学增幅CA型光刻胶)表面防反射膜(TARC)底部防反射膜(BARC)3.解像度改进材料及防倒塌材料光刻胶显影后处理材料(AZ Relac,T0 K Saphire)Rinse材料倍晶,光刻胶及其重要性用于半导体芯片,液晶显示器,OLED制造,芯片封装等彩胶示意图硅片上的A厂F光刻胶3D芯片(NAND)示意图中国芯片进口金额超过石油进口中国已成为液晶显示器制造全球最大急需光刻胶关键原材料及光刻胶的国产化芯片断面图倍晶,芯片有多层工艺凵凵回1B2812如极三星芯片铜制程多道工艺的反复成膜-光刻胶制回路-蚀刻-除胶
2、-清洗-沉积膜一研磨倍晶,正型光刻胶和负型光刻胶台湾叫光阻。是主要用来加工基板用的感光材料光照部分部分产生化学及物理变化与未照到部位有差别,通过显影后产生有胶和无胶部分。第一步任务完成需要基板蚀刻时,有胶部分由于胶的保护而留下来。所以叫光刻胶(对光有反应,可用于蚀刻保护的胶光罩曝光 Metal(Cr,Mo,SiNx etc.基板(Substrate显影蚀刻除胶m負型光刻胶正型光刻胶光照部分留下来光照部分除去倍晶,液晶显示偏光板偏光板(Kuraray等)力一4儿夕基板滤光片(彩胶黑胶日本韩围,台湾)明電極共通福To等(靶材)膜配向膜(JSR,Nissan,瑞士液晶(日本,Merck,韩国等)配向
3、膜透明電極透明电极(用到光刻胶蚀刻基板TFT(光刻胶等使用偏光板導光板光源使用化学品光刻胶,彩胶,显影液,蚀刻剂,去胶液,清洗剂配向膜(聚鲦亚胺等倍晶,液晶显示滤光片(彩胶,黑胶)Color filterNew applicationpatterningMVA ProtrusionReflective ElectrodeTFT(光刻胶等使用)TF T arraypatterning偏光板(Kuraray等倍晶,LCd and oled:生产用关键材料开发.Photo space.BackColor Filtor substratColor-Filtercathodeer dielectricT
4、FT-Array SubstratePolarizerBonding PADPixel Electrode(ITO)torage Capacitorganic inse substrate,OrganicInsulat倍晶,光刻胶工艺需要整个高纯材料产业链支持酚醛树脂g-hi无机气体成膜材料PHS 248nm树脂亚克力193n聚酰亚胺P正胶PAc(焦性没食子酸由来中国五倍子光敏剂光酸光酸(高纯合成)光刻胶高纯溶剂PGME,PGMEA,EL,g-GBL铰链型树脂,光酸,添加剂溶剂负胶光聚合型彩胶合树脂,光引发剂,添加剂,溶剂倍晶,代表性DNQ光刻胶Gallon Bottle組成比例感光劑PAC5%Photo Active Compoundzer酚醛樹脂20%Nowak溶劑(75%)75%添加劑)数pm数倍晶,
