电工半导体培训(1).ppt

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1、第一章 半导体器件,半导体器件是近代电子学的重要组成部分.体积小、重量轻、使用寿命长、输入功率小、功率转换效率高等优点而得到广泛的应用。,1.1 半导体的基本知识,自然界中很容易导电的物质称为导体,金属一般都是导体。,有的物质几乎不导电,称为绝缘体,如橡皮、陶瓷、塑料和石英。,另有一类物质的导电特性处于导体和绝缘体之间,称为半导体,如锗、硅、砷化镓和一些硫化物、氧化物等。半导体的电阻率为10-3109 cm。,一、半导体及其特性,1、什么是半导体,现代电子学中,用的最多的半导体是硅和锗,它们的最外层电子(价电子)都是四个。,电子器件所用的半导体具有晶体结构,因此把半导体也称为晶体。,2、半导体

2、的导电特性,1)热敏性 与温度有关。温度升高,导电能力增强。2)光敏性 与光照强弱有关。光照强,导电能力增强3)掺杂性 加入适当杂质,导电能力显著增强。3、常用半导体材料1)元素半导体 如:硅、锗2)化合物半导体 如:砷化镓3)掺杂或制成其他化合物半导体的材料 如;硼、磷、铟、锑,1、本征半导体,化学成分纯净的半导体晶体。制造半导体器件的半导体材料的纯度要达到99.9999999%,常称为“九个9”。,1)内部结构,一、半导体物质的内部结构和导电机理,本征半导体的共价键结构,束缚电子,如硅晶体中,原子之间靠的很近,分属于每个原子的价电子受到相邻原子的影响,而使价电子为两个原子所共有,每个原子与

3、其相临的原子之间形成共价键,共用一对价电子。在高度纯净的硅晶体中,所有外层电子均用于构成共价键,没有多余的自由电子,只有通过很强的力才能使电子脱离晶体束缚。,本征半导体的共价键结构,束缚电子,在绝对温度T=0K时,所有的价电子都被共价键紧紧束缚在共价键中,不会成为自由电子,因此本征半导体的导电能力很弱,接近绝缘体。,2)本征半导体的导电机理,在绝对0度(T=0K)和没有外界激发时,价电子完全被共价键束缚着,本征半导体中没有可以运动的带电粒子,它的导电能力为0,相当于绝缘体。,在常温下,由于热激发,使一些价电子获得足够的能量而脱离共价键的束缚,成为自由电子,同时共价键上留下一个空位,称为空穴。,

4、电子空穴对的产生,这一现象称为本征激发,也称热激发。,当温度升高或受到光的照射时,束缚电子能量增高,有的电子可以挣脱原子核的束缚,而参与导电,成为自由电子。,自由电子,空穴,自由电子产生的同时,在其原来的共价键中就出现了一个空位,称为空穴。,可见本征激发同时产生电子空穴对。外加能量越高(温度越高),产生的电子空穴对越多。,与本征激发相反的现象复合,在一定温度下,本征激发和复合同时进行,达到动态平衡。电子空穴对的浓度一定。,常温300K时:,电子空穴对,自由电子 带负电荷 电子流,总电流,空穴 带正电荷 空穴流,本征半导体的导电性取决于外加能量:温度变化,导电性变化;光照变化,导电性变化。,两种

5、导电方式,总结,复合:激发:激发和复合成对产生成对消失载流子:自由电子和空穴本征半导体的导电能力取决于载流子的浓度。温度越高,载流子的浓度越高。温度是影响半导体性能的一个重要的外部因素,这是半导体的一大特点。漂移运动:载流子在电场力的作用下的定向运动自由电子向电源正极移动,空穴向负极移动。虽然电子、空穴的运动方向相反,但在外电路中形成电流却一致。,2 杂质半导体,在本征半导体中掺入某些微量的杂质,就会使半导体的导电性能发生显著变化。,其原因是掺杂半导体的某种载流子浓度大大增加。,使自由电子浓度大大增加的杂质半导体称为N型半导体(电子半导体),使空穴浓度大大增加的杂质半导体称为P型半导体(空穴半

6、导体)。,1)N型半导体,在硅或锗晶体中掺入少量的五价元素磷(或锑),晶体点阵中的某些半导体原子被杂质取代,磷原子的最外层有五个价电子,其中四个与相临的半导体原子形成共价键,必定多出一个电子,这个电子几乎不受束缚,很容易被激发而成为自由电子,这样磷原子就成了不能移动的带正电的离子。每个磷原子给出一个电子,称为施主原子。,硅原子,磷原子,多余电子,N型半导体,多余电子,磷原子,硅原子,多数载流子自由电子,少数载流子 空穴,施主离子,自由电子,电子空穴对,N型半导体,N型半导体中的载流子是什么?,1、由施主原子提供的电子,浓度与施主原子相同。,2、本征半导体中成对产生的电子和空穴。,因为掺杂浓度远

7、大于本征半导体中载流子浓度,所以,自由电子浓度远大于空穴浓度。自由电子称为多数载流子(多子),空穴称为少数载流子(少子)。,2)P型半导体,在硅或锗晶体中掺入少量的三价元素,如硼(或铟),晶体点阵中的某些半导体原子被杂质取代,硼原子的最外层有三个价电子,与相临的半导体原子形成共价键时,产生一个空位。这个空位可能吸引束缚电子来填补,形成空穴使得硼原子成为不能移动的带负电的离子。由于硼原子接受电子,所以称为受主原子。,硼原子,空穴,硅原子,空穴,硼原子,硅原子,多数载流子 空穴,少数载流子自由电子,受主离子,空穴,电子空穴对,P型半导体,P型半导体中的载流子是自由电子和空穴,1、由受主原子提供的空

8、穴,浓度与受主原子相同。,2、本征半导体中成对产生的电子和空穴。,因为掺杂浓度远大于本征半导体中载流子浓度,所以,空穴浓度远大于自由电子浓度。空穴称为多数载流子(多子),自由电子称为少数载流子(少子)。,总 结,1、N型半导体中自由电子是多子,其中大部分是掺杂提供的电子,本征半导体中受激产生的电子只占少数。N型半导体中空穴是少子,少子的迁移也能形成电流,由于数量的关系,起导电作用的主要是多子。近似认为多子与杂质浓度相等。,2、P型半导体中空穴是多子,自由电子是少子。3、多子由掺杂浓度决定,少子由温度决定。,因多子浓度差,形成内电场,多子的扩散,空间电荷区,阻止多子扩散,促使少子漂移。,PN结合

9、,空间电荷区,多子扩散电流,少子漂移电流,耗尽层,三.PN结及其单向导电性,1.PN结的形成,动态平衡:,扩散电流 漂移电流,总电流0,2.PN结的单向导电性,(1)加正向电压(正偏)电源正极接P区,负极接N区,外电场的方向与内电场方向相反。外电场削弱内电场,耗尽层变窄,扩散运动漂移运动,多子扩散形成正向电流I F,(2)加反向电压电源正极接N区,负极接P区,外电场的方向与内电场方向相同。外电场加强内电场,耗尽层变宽,漂移运动扩散运动,少子漂移形成反向电流I R,在一定的温度下,由本征激发产生的少子浓度是一定的,故IR基本上与外加反压的大小无关,所以称为反向饱和电流。但IR与温度有关。,PN结

10、加正向电压时,具有较大的正向扩散电流,呈现低电阻,PN结导通;PN结加反向电压时,具有很小的反向漂移电流,呈现高电阻,PN结截止。由此可以得出结论:PN结具有单向导电性。,1、空间电荷区中没有载流子。,2、空间电荷区中内电场阻碍P中的空穴、N中的电子(都是多子)向对方运动(扩散运动)。,3、P中的自由电子和N中的空穴(都是少子),数量有限,因此由它们形成的电流很小。,请注意,在PN结的两端加上电压后,通过管子的电流I随管子两端电压V变化的曲线-伏安特性。,PN 结的单向导电性:正偏导通,呈小电阻,电流较大;反偏截止,电阻很大,电流近似为零。,PN结伏安特性,根据理论分析:,u 为PN结两端的电

11、压降,i 为流过PN结的电流,IS 为反向饱和电流,UT=kT/q 称为温度的电压当量,其中k为玻耳兹曼常数 1.381023q 为电子电荷量1.6109T 为热力学温度 对于室温(相当T=300 K)则有UT=26 mV。,当 u0 uUT时,当 u|U T|时,1.2 二极管,二极管的结构和分类,二极管的符号和型号,二极管的伏安特性,二极管的参数,二极管的温度特性,二极管的应用,一、二极管的结构和分类,在PN结上加上引线和外壳,就成为一个二极管。二极管按结构一般分有点接触型、面接触型,(1)点接触型二极管,PN结面积小,结电容小,用于检波和变频等高频电路。,1、结构,(3)平面型二极管,往

12、往用于集成电路制造工艺中。PN 结面积可大可小,用于高频整流和开关电路中。,(2)面接触型二极管,PN结面积大,用于工频大电流整流电路。,(b)面接触型,2、分类,1)按材料分:硅管和锗管2)按结构分:点接触和面接触3)按用途分:检波、整流4)按频率分:高频和低频,二、符号和型号,阳极、P型材料,阴极、N型材料,半导体二极管的型号,国家标准对半导体器件型号的命名举例如下:,图 二极管的伏安特性曲线,三、二极管的伏安特性,1、正向特性,硅二极管的死区电压Uth=0.5V左右,导通电压0.6V-0.8V。锗二极管的死区电压Uth=0.1V左右,导通电压0.2V-0.3V。,当0UUth时,正向电流

13、为零,Uth称为死区电压或开启电压。,当U0即处于正向特性区域。正向区又分为两段:,当UUth时,开始出现正向电流,并按指数规律增长。,2、反向特性,当 U0时,即处于反向特性区域。反向区也分两个区域:,当UBRU0时,反向电流很小,且基本不随反向电压的变化而变化,此时的反向电流也称反向饱和电流IS。,当UUBR时,反向电流急剧增加,UBR称为反向击穿电压。,四、二极管的参数,(1)最大整流电流IF,二极管长期连续工作时,允许通过二极管的最大整流电流的平均值。,(2)反向击穿电压UBR,最大反向工作电压URM-,(3)反向电流IR,(4)正向压降UF,(5)动态电阻rd,硅二极管的反向电流一般

14、在纳安(nA)级;锗二极管在微安(A)级。,在规定的正向电流下,二极管的正向电压降。小电流硅二极管的正向压降在中等电流水平下,约0.60.8V;锗二极管约0.20.3V。,反映了二极管正向特性曲线斜率的倒数。显然,rd与工作电流的大小有关,即 rd=UF/IF,UD,rD是二极管特性曲线工作点Q附近电压的变化与电流的变化之比:,显然,rD是对Q附近的微小变化量的电阻。,五、二极管的温度特性,温度对二极管的性能有较大的影响,温度升高时,反向电流将呈指数规律增加,如硅二极管温度每增加8,反向电流将约增加一倍;锗二极管温度每增加12,反向电流大约增加一倍。,另外,温度升高时,二极管的正向压降将减小,

15、每增加1,正向压降UF(UD)大约减小2mV,即具有负的温度系数。,图 温度对二极管伏安特性曲线的影响,图示,例 1、画出硅二极管构成的桥式整流电路在ui=15sint(V)作用下输出 uO 的波形。,(按理想模型),六、二极管的应用,1.3 特殊二极管,稳压二极管是应用在反向击穿区的特殊硅二极管。稳压二极管的伏安特性曲线与硅二极管的伏安特性曲线完全一样,(b),一、稳压二级管 1、特性,(a),2、符号,(1)稳定电压UZ,(2)动态电阻rZ,在规定的稳压管反向工作电流IZ下,所对应的反向工作电压。,其概念与一般二极管的动态电阻相同,只不过稳压二极管的动态电阻是从它的反向特性上求取的。rZ愈

16、小,反映稳压管的击穿特性愈陡。rZ=UZ/IZ,3、主要参数,(3)最大耗散功率 PZM,稳压管的最大功率损耗取决于PN结的面积和散热等条件。反向工作时PN结的功率损耗为 PZ=UZ IZ,由 PZM和UZ可以决定IZmax。,(4)最大稳定工作电流 IZmax 和最小稳定工作 电流IZmin,稳压管的最大稳定工作电流取决于最大耗散功率,即PZmax=UZIZmax。而Izmin对应VZmin。若IZIZmin则不能稳压。,稳压二极管在工作时应反接,并串入一只电阻。电阻的作用一是起限流作用,以保护稳压管;其次是当输入电压或负载电流变化时,通过该电阻上电压降的变化,取出误差信号以调节稳压管的工作

17、电流,从而起到稳压作用。,(c),4、稳压管的应用,1、光电二极管,反向电流随光照强度的增加而上升。,二、其它特殊二极管,2、发光二极管,有正向电流流过时,发出一定波长范围的光,目前的发光管可以发出从红外到可见波段的光,它的电特性与一般二极管类似。常用作显示器件。,3、光电耦合器,光电耦合器由发光管(发光二极管)、受光管(光电二极管或光电三极管)组成,封装于一体。光电耦合器为单向传输器件,输入端加正向信号电压时,发光管发光,将光信号传送给受光管。受光管内阻减小,饱和导通,将接收到的光信号转换为电流从输出端输出,通过“电光电”的转换,实现输入输出电路上电气隔离,可消除噪音。,1.4 晶体三极管,

18、一、结构、符号和分类,发射极 E,基极 B,集电极 C,发射结,集电结,基区,发射区,集电区,emitter,base,collector,NPN 型,PNP 型,两个结、三个区、三个极,E的箭头方向为发射结加正向电压时电流的方向,基本结构与分类,1、,1)基区:最薄,掺杂浓度最低,3)集电区:面积较大,2)发射区:掺杂浓度最高,2、结构特点,3、分类:,1)按材料分:硅管、锗管,4)按功率分:小功率管 500 mW,2)按结构分:NPN、PNP,3)按使用频率分:低频管、高频管,大功率管 1 W,中功率管 0.5 1 W,半导体三极管图片,二、电流放大原理,1.三极管放大的条件,内部条件,发

19、射区掺杂浓度高,基区薄且掺杂浓度低,集电结面积大,外部条件,发射结正偏集电结反偏,2.满足放大条件的三种电路,共发射极,共集电极,共基极,3.三极管内部载流子的传输过程,1)发射区向基区注入多子电子,形成发射极电流 IE。,I CN,多数向 BC 结方向扩散形成 ICN。,IE,少数与空穴复合,形成 IBN。,I BN,基区空穴来源,基极电源提供(IB),集电区少子漂移(ICBO),I CBO,IB,IBN IB+ICBO,即:,IB=IBN ICBO,2)电子在基区扩散与复合电子到达基区后,(基区空穴运动因浓度低而忽略),I CN,IE,I BN,I CBO,IB,3)集电区收集扩散过 来的

20、载流子形成集 电极电流 IC,IC,I C=ICN+ICBO,三、三极管的电流控制作用,当管子制成后,发射区载流子浓度、基区宽度、集电结面积等确定,故电流的比例关系确定,即:,IB=I BN ICBO,IC=ICN+ICBO,穿透电流,1、电流分配关系,IE=ICN+IBN=IC+IB,2、电流的放大作用,直流放大系数,IE=IC+IB,定义:,为交流放大系数,一般的,,当EBIBIcRcIc,(IB=EB/RB),四、晶体三极管的特性曲线,、输入特性,输入回路,输出回路,与二极管特性相似,时,特性基本重合(电流分配关系确定),特性右移(因集电结开始吸引电子),导通电压 UBE(on),硅管:

21、(0.6 0.8)V,锗管:(0.2 0.3)V,取 0.7 V,取 0.2 V,、输出特性,)截止区:IB 0 IC=ICEO 0 条件:两个结反偏,截止区,ICEO,特点:分三个区,2)放大区:,放大区,截止区,条件:发射结正偏 集电结反偏特点:水平、等间隔,ICEO,3)饱和区:,uCE u BE,uCB=uCE u BE 0,条件:两个结正偏,特点:IC IB,临界饱和时:uCE=uBE,深度饱和时:,0.3 V(硅管),UCE(SAT)=,0.1 V(锗管),放大区,截止区,饱和区,ICEO,Ic的大小取决于Ec和Rc,,五、温度对特性曲线的影响,1.温度升高,输入特性曲线向左移。,

22、温度每升高 1C,UBE(2 2.5)mV。,温度每升高 10C,ICBO 约增大 1 倍。,T2 T1,2.温度升高,输出特性曲线向上移。,温度每升高 1C,(0.5 1)%。,输出特性曲线间距增大。,O,六、晶体三极管的主要参数,、电流放大系数,1)共发射极电流放大系数,直流电流放大系数,交流电流放大系数,一般为几十 几百,Q,2.共基极电流放大系数,1 一般在 0.98 以上。,Q,二、极间反向饱和电流,CB 极间反向饱和电流 ICBO,决定了 晶体管工作的温度稳定性,CE 极间反向饱和电流 ICEO,受温度影响大,、极限参数,1)ICM 集电极最大允许电流,超过时 值明显降低。,2)P

23、CM 集电极最大允许功率损耗,PC=iC uCE。,U(BR)CBO 发射极开路时 C、B 极间反向击穿电压。,3)U(BR)CEO 基极开路时 C、E 极间反向击穿电压。,U(BR)EBO 集电极极开路时 E、B 极间反向击穿电压。,U(BR)CBO,U(BR)CEO,U(BR)EBO,七、晶体管电路的基本问题和分析方法,三种工作状态,放大,I C=IB,发射结正偏集电结反偏,饱和,I C IB,两个结正偏,ICS=IBS 集电结零偏,临界,截止,IB 0,IC=0,两个结反偏,判断导通还是截止:,UBE U(th)则导通,以 NPN为 例:,UBE U(th)则截止,例:有两个晶体管分别接在放大电路中,今测得它们管脚的电位(对“地”)分别如下表所示。晶体管 晶体管管脚 1 2 3 管脚 1 2 3电位/V 4 3.4 9 电位/V-6-2.3-2试判断晶体管类型,并确定三个电极。,解 NPN型:集电极电位最高,发射极电位最低,UBE0;PNP型;发射极电位最高,集电极电位最低,UBE0硅管:基极电位与发射极电位大约相差0.6V或0.7V;锗管:基极电位与发射极电位大约相差0.2V或0.3V由此可知:晶体管:NPN型,1B,2E,3C晶体管:PNP型,1C,2B,3E,

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