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1、机密等级机密中恒（唐山）曹妃甸科技有限公司Controlled Document（受控）Confidential levelConfidentialDocument Title(文件名称) :去磷硅工艺文件Document Number(文件编号):ZH(C)-GY-03-BZ01Revision(文件版本):A0Revise Date(修订日期):5/19/2010Prepared by(撰写者):那雪梅、石瑞先Create by which Unit(制定单位) :工艺部 Rev.:A0目录1.目的42.适用范围43.职责44. 去磷硅工艺44.1工艺目的44.2 工艺原理44.3 工艺参
2、数45. 工艺过程控制55.1 职责55.2 控制项及指标：56. 异常处理66.1 原因66.2 处理流程67. 操作流程68. 去磷硅作业规范78.1插片78.2配液88.3上料88.4过程监控88.5下料99注意事项9Amendment RecordsItem:Date:Revision:Page:Change Description:Changed by:15/19/2010A0AllNew release那雪梅 Rev.:A01.目的确保去磷硅工艺处于受控和稳定的状态。2.适用范围适用于本公司去磷硅工序的工艺控制。3.职责本文件由工艺部负责制定，更新和修订，由工艺主管监督并保证如实执
3、行，工艺部具体执行。本文件必须经过工艺部的签字认可并备案，方可交付执行。4. 去磷硅工艺4.1工艺目的经过磷扩散后的硅片，表面会形成一层含磷元素的SiO2层，必须通过酸腐蚀将此层磷硅玻璃去除掉，以达到改善镀膜效果和防止电池片性能参数下降的目的。4.2 工艺原理该工序保证在扩散工序过程中硅片表面形成的磷硅玻璃层能理想去除，呈现出良好的表面疏水性。其反应方程式如下： 4.3 工艺参数4.3.1 本工艺方案适用于中联科伟达公司生产的去PSG设备；4.3.2 本工艺方案适用于125mm单晶电池片生产；4.3.3 时间工艺参数HF清洗快排清洗(QDR)慢提拉(OF)烘干(DRY)烘干温度()120150
4、2040120300360701104.3.4 工艺参考配方步号步名称步时间(s)温度()备注1HF清洗1402QDR203OF1室温硅片表面无粘水现象4DRY3001005. 工艺过程控制5.1 职责 工艺过程的监测和记录、工艺异常的及时汇报由当班质检员负责，工艺异常的及时解决由当班工艺员负责。5.2 控制项及指标：5.2.1 流程5.2.1.1检查并记录每次加工的工艺recipe，保证其参数设置符合4.3.3中的规定。如不符合，必须立即通知当班工段长停止该管的生产任务，同时报告当班质检组长、工艺员。事件处理完毕，由质检员给出处理报告，当班工艺员、工段长签字后，方可重新投片生产。 5.2.1
5、.2规范穿着净化服，戴手套和口罩，保持片盒、夹具和小花篮的清洁，禁止不带手套接触硅片，避免硅片受到污染；5.2.2 工艺控制目标分项目标值检测仪器检测方法备注四槽温度100目测目测显示器上温度显示值在100附近硅片粘水情况无粘水目测目测OF槽硅片出水呈光亮状态齿痕印无齿痕印目测看四个卡齿处齿痕印是否严重5.2.3反应及处理流程当班质检员通过检测发现工艺控制目标未达标，应立即通知生产车间的工序长停止该设备的生产任务，同时报告当班质检组长、工艺员。由当班工艺员判断事件的严重性，必要时负责召集当班设备工程师、质检员、操作相关人员进行问题跟踪、设备排查、工艺试验；由当班工艺员给出事件处理意见及汇总报告
6、。事件处理完毕，必须经当班设备工程师、工艺员、质检员、工段长四方认可并会签后，才能复产。大的工艺事故必须经设备部、工艺部、质检部、生产部的等离子刻蚀负责人会签认可后才能复产。6. 异常处理本工段只会产生返工片。去磷硅返工片指的是去磷硅清洗不干净（表现为慢提拉时硅片表面粘水严重）或硅片表面水纹、齿痕印非常严重的。6.1 原因HF酸浓度较低或酸槽、QDR槽、OF槽溶液及槽体及小花篮比较脏6.2 处理流程及时换酸、换水，擦洗酸槽及小花篮，必要时在OF槽加HCL清洗槽体7. 操作流程不合格合格插片配液质检异常处理流转到镀膜工序上料过程监控下料8. 去磷硅作业规范8.1插片插花篮：插花篮前保证硅片已冷却
7、好，保证吸笔洁净。将等刻传来的盒盖打开，然后将片盒竖放，靠在小花篮上，用食指轻轻堵住吸笔的吸气孔。吸笔头平行于片子并轻放到片子的上部位将片子吸起插入花篮中，插花篮时从左向右插，插时先看上外侧孔，再看内上侧孔，再看内下侧孔松开食指将硅片竖直的放下。插完一篮后检查两硅片是否插在同一齿中，将花篮转180检查是否有插错的地方，及时更改。 （注意，若双扩将片子干净的一面朝向U型口，若单扩扩散面较脏时作为 返工片处理） 8.2配液8.2.1配液穿戴：配液员在配液前必须戴上滤酸面具（并检查面具的气密性）、橡胶手套和防护围裙。8.2.2配液顺序：1号槽放一半的DI水 加入药液 将槽里的水加满8.2.3工艺槽配
8、方：HF：8LDI Water：注满8.2.4换液：每班结束将工艺槽中溶液排干净，并用DI水冲洗干净和用无尘布擦洗干净。8.2.5工艺槽清洁标准：无明显沾污、用PH试纸测试不显酸性8.3上料8.3.1操作人员配戴新的丁腈手套，将插完片的小花篮轻轻放置到大花篮内，放好四个小花篮后用双手将大花篮轻轻放置在上料台的传送带上，篮筐一定要摆正，并且不允许接触身体其他任何部位。8.3.2确认烘干槽温度已经达到设置温度并确认补好液之后，按下启动键，设备开始自动生产。8.4过程监控生产人员在生产操作过程中时刻观察酸洗机状况，内容包括： 工艺槽是否洁净 工艺槽是否有残留的碎片 上料台是否洁净 烘干槽温度是否稳定
9、在设置温度附近 慢提拉时硅片表面是否粘水如果洁净度达不到生产要求时，要及时清洗槽体及换液，如果问题严重时及时向本班工段长反映。8.5下料 操作人员配戴新的丁腈手套，用双手将大花篮轻轻地从下料台的传送带上取出，然后把小花篮从大花篮上卸下，每批分开放置。并及时对下料台及桌面进行探试以保证清洁。根据生产情况认真如实填写产品质量报表和流程单。9注意事项9.1如发现绒面不合格，报告当班工段长，填写工艺异常记录单并由当班工艺员和工段长同时签字确认。9.2设备出现问题时，要立刻报告当班设备人员，填写故障记录单并由当班设备人员和工段长同时签字确认。9.3每批投片前要检查酸槽中的液位，不合适的要及时调整。9.4硅片盒和上料篮任何时候不能放在地上。9.5操作化学药品时，一定要带好防护面具和防护手套，操作化学药品之前和之后都确保化学药品储存罐的开口为密闭的，以防止泄露或沾污的危险发生。9.6地面或任何设备表面有化学药品沾污时及时清理防止危害。9.7去PSG清洗机的窗子在不必要时不要开，有需要开时要及时关上；机器运动时，不得把头、手伸进机器内，以防造成伤害事故。
