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1、研磨抛光常见错误光圈面形误差更多技术文章请登陆磨商网： 研磨抛光常见错误-光圈面形误差 低光圈 产 生 原 因 、砂挂光圈太细。 、研磨皿与镜片接触太松，镜片中心研磨太多。 、研磨皿直径太小。 、摆动幅度太大或串棒偏摆不对太大。 、负LAP皿太强或修理时间太长。 、治具上压力施加太大。 、倒角太锋利。 、球心调节太低。 克 服 方 法 砂挂时，严格控制h或用原器检查光圈，不可太细。 、修整研磨皿、使镜片与研磨皿吻合，要稍紧 、更换研磨皿，选择合适的直径 、减小摆动幅度，调整偏摆位置 、控制修磨时间，摆幅和压力要平稳适宜。 、放轻压力。 、CG倒角调整。 、调高球芯。 高光圈 产 生 原 因 、
2、砂挂光圈太粗 、研磨皿与镜片接触太紧，镜片边缘磨削多。 、研磨皿直径太大。 、摆动幅度太小，摆动偏心距太小。 、正LAP皿太强或用正皿修得太久。 、上冶具重心太高，加工时振动太大使镜片边缘磨削量大。 、冷却水大小或未进研磨皿中心。 克 服 方 法 、砂挂时严格控制h或用原器检查光圈，不可太粗。 、修整研磨皿面形，使镜片和皿吻合要好。 、选择或设计加工合适的研磨皿直径。 、加大摆幅和调整偏心距位移量，使之增加镜片中心部位的研磨量。 、重新校正LAP皿强度，修整研磨皿时选择合适的修理时间。 、在不影响夹持和上治具寿命的情况下，适当降低上治具高度。 、加大冷却水调偏摆动。 中凹(凹心或局部低) 产
3、生 原 因 、砂挂光圈太低，尚未磨到中心。 、镜片和研磨皿接触太松，中心研磨太多。 、研磨皿R值不合适，凸皿半径偏小，凹皿半径偏大。 、摆动幅度不合适，摆幅及偏角过大；研磨皿之回转中心因向心力小，聚集研磨粉。 、中心肉厚小之镜片压力施加过大。 、治具R值不对，中心悬空。 、摆动位置太靠近中心。 克 服 方 法 、控制砂挂光圈，加工时随时检测面形。 、修整研磨皿，使镜片与研磨皿有良好的吻合。 、更换或修整研磨皿，使曲率半径符合设计要求。 、调整摆动幅度，一般减小摆动幅度和偏心位移量或作对称摆动可减少或消除凹心理；毛刷去除中心部研磨粉。 、适当抬升串棒或将压力放低。 、修正治具。 、调偏摆动。 中
4、高(凹心或局部高) 产 生 原 因 、镜片和研磨皿接触太紧，没有磨到中心。 、研磨皿中心偏低，中心磨削量不足。 、摆动幅度太小或偏心位移量太小。 、研磨皿半径不合适，凸皿半径偏大，凹皿半径偏小。 、治具R值不合适，中心太高顶位镜片。 、摆动太靠皿边缘。 克服方法 修整研磨皿，使镜片和研磨皿有良好的匹配。 修整研磨皿面形，使研磨皿面形规则。 调整摆动幅度，使摆幅及偏心位移量大小适宜。 更换研磨皿，选择合适的曲率半径。 修正R值。 调正摆动。 垂边 产 生 原 因 、镜片边缘与皿接触太紧，致使镜片边缘被磨削太多。 、研磨皿面形不规则，研磨时松紧不一致。 、砂挂时边缘磨得太多，研磨时尚未完全消除。
5、、砂挂光圈偏粗，研磨由高光圈降低，尚未磨到边缘。 、研磨曲率半径不合适，凸皿半径偏大，凹皿半径偏小。 、研磨皿直径偏大。 、LAP皿正皿边缘太强。 克服方法 、修整或轻轻研刮研磨皿边缘，继续研磨，让镜片和皿要有良好的接触。 、修一下研磨皿，继续研磨，镜片面与皿要有良好的接触，且松紧一致。 、控制砂挂的面形，砂挂出现亚斯要立即修正不可流至研磨。 、砂挂光圈不可做得比研磨粗，要低略12本可。 、更换研磨皿，选择合适的曲率半径。 、根据镜片直径和曲率半径考虑研磨皿直径的大小。 、修均匀LAP皿。 亚斯 产 生 原 因 、研磨皿直径太小。 、研磨皿表面太光滑。 、研磨液太淡，研磨时发热太大。 、摆幅大
6、小不合适。 克服方法 、调整研磨皿，选择合适的直径。 、用LAP皿重新修整一下表面。 、调整研磨液浓度，研磨皿面上多开几条槽。 、适当加大摆幅。 椭圆 产 生 原 因 、研磨皿表面不规则，研磨时忽松忽紧，而使镜片转动不均匀。 、串棒太偏，摆动幅度相对于主轴转动中心不对称。 、主轴转速与摆幅速度的偶合，使镜片运动轨迹经常重合，而使镜片表面的磨削出现一定的方向性。 、研磨皿与镜片配合太紧。 、镜片与治具配合太紧，转动不灵活。 、治具垫纸叠在一起不均匀。 、砂挂NR椭未能磨过来。 克服方法 、用LAP皿修整研磨皿表面，研磨皿面形规则后再加工镜片。 、调整摆幅，使镜片与转动中心对称摆动。 、调整主轴转速或摆动速度，使原运动轨迹发生变化。 、修整研磨皿面形，使研磨皿与镜片有良好的配合。 、重配套环。 、更换垫纸。 、退砂挂返修。 变形 产 生 原 因 、研磨皿面形严重不规则。 、砂挂完品面形精度严重超出。 、研磨皿破处较多。 、上治具转动不灵活 克服方法 、将研磨皿表修整均匀。 、确保砂挂品面精度。 、更换新的研磨皿。 、更换研磨皿或上治具、确保上治具转灵活。
