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1、,API682-2004(第三版)冲洗布置和辅助系统图解（冲洗方案）,page:01,Plan 01,page:02,Plan 01,page:03,Plan 02,page:04,Plan 02,page:05,Plan 11&Plan 12,page:06,Plan 11,PLAN11出口自冲洗介质由泵的出口经管线进入机械密封实施冲洗。适用情况：1.介质本身须清洁；2.介质温度不高于110；3.泵进出口间的压差不能大于10Bar，大于10Bar则需设节流阀。,page:07,Plan 13,page:08,Plan 13,PLAN13入口自冲洗介质由入口经管线进入机封实现液体的循环流动。适
2、用情况：1.泵进出口压力差大于10Bar；2.清洁介质；3.介质温度不高于110。,page:09,Plan 14,page:10,Plan 14,page:11,Plan 21,page:12,Plan 21,PLAN21出口冷却自冲洗介质由泵的出口经冷却器降温后，再进入机械密封，实现对密封的冷却。适用情况：1.介质温度高于110；2.清洁介质。,page:13,Plan 23,page:14,Plan 23,page:15,Plan 23安装示意图,page:16,Plan 31,page:17,Plan 31,page:18,Plan 32,page:19,Plan 32,page:20
3、,Plan 41,page:21,Plan 41,page:22,Plan 51,page:23,Plan 52,page:24,Plan 52,page:25,Plan 52,PLAN52不加压冷却方式利用压力小于工艺流体压力但不低于大气压力的阻隔流体，注入密封室中。由于隔流体压力小于工艺流体压力，少量工艺流体泄漏至阻隔流体中，被阻隔流体出密封室，到密封系统或放空系统中进行处理，从而避免工艺流体的直接排放大气和环境的污染。技术要求:1.低压阻隔流体防止渗漏，但阻隔液压力不得低于0.07MPa；2.阻隔流体须清洁，润滑，且和介质相溶；3.阻隔流体的流向应与轴的旋向相同。适应场合:低沸点、易汽化
4、的介质、危险品；不允许介质被污染的制药行业。,page:26,Plan 53A,page:27,Plan 53A,page:28,Plan 53A安装示意图,page:29,Plan 53B,page:30,Plan 53B,page:31,Plan 53C,page:32,Plan 53C,page:33,Plan 53C,page:34,Plan 53A、B、C,page:35,Plan 53A、B、C,PLAN53加压冷却方式利用压力大于工艺流体和大气压力的阻隔流体注入密封室中，由于阻隔流体压力大于工艺流体压力，防止了工艺流体向阻隔流体的泄漏，从而有效地防止工艺流对大气和环境的污染。技术
5、要求:1.阻隔流体压力至少比密封腔压力高0.10.2MPa；2.阻隔流体须清洁，润滑，且和介质相溶；3.阻隔流体的流向应与轴的旋向相同。适应场合:易结晶或固化的介质；易聚合介质；常温含颗粒的介质。,page:36,Plan 54,page:37,Plan 54,PLAN54加压冷却方式利用加压泵给阻隔流体加压，压力比工艺流体压高0.10.2MPa。一方面，提高阻隔流体的循环速度，加快对密封面的冷却；另一方面，阻止工艺流体通过内侧密封向阻隔流体系统的泄漏，避免工艺流体对大气和环境的污染。技术要求:1.阻隔流体压力比密封腔内工艺流体压力高0.10.2MPa；2.阻隔流体须清洁，润滑，且和介质相溶；3.阻隔流体的流向应与轴的旋向相同；适应场合:高温含颗粒的介质；热流体；低温介质。,page:38,Plan 54,page:39,Plan 61,page:40,Plan 61,page:41,Plan 61,page:42,Plan 62,page:43,Plan 62,page:44,Plan 65,page:45,Plan 65,page:46,Plan 71、72、74、75、76,Plan 71、72、74、75、76 通常应用于干气密封,/Thanks,谢谢,2012/12/15,
