北航电子电路设计训练unit1概述.ppt

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1、电子电路设计训练,课程安排:模拟部分(1-8周)&数字部分(9-16周)模拟部分:8次课程,4次实验公共邮箱:Key:edaeda,电子电路设计训练,课程内容:1、集成电路及其产业发展2、Eda软件的发展历程3、Pspice语言4、Multisim软件的使用5、Cadence软件的使用6、若干设计实例,电子电路设计训练,先修课程:电路分析模拟电子技术基础 数字电子技术基础信号与系统,电子电路设计训练,考核方式:模拟和数字各占50分模拟部分:考试50%实验50%(完成实验35%+实验报告15%),View of EDA,张杰斌新主楼414,Simulating Part,Unit 1,IC的发展

2、带动EDA的进步,IC的生产由设计、制造、封装业组成,设计,封装,制造,集成电路发展历程,1950年:结型晶体管诞生;1951年:场效应晶体管发明;1958年:集成电路产生,开创了世界微电子学的历史;1962年:MOS场效应晶体管发明;1963年:首次提出CMOS技术,今天,95%以上的集成电路芯片都是基于CMOS工艺;,集成电路发展历程,1963年:首次提出CMOS技术,今天,95%以 上的集成电路芯片都是基于CMOS工艺;1966年:美国RCA公司研制出CMOS集成电路并研制出第一块门阵列(50门);1971年:Intel推出1kb动态随机存储器(DRAM),标志着大规模集成电路出现;19

3、78年:64kb DRAM诞生,不足0.5cm2的硅片上集成了14万个晶体管,标志着超大规模集成电路(VLSI)时代的来临;1988年:16M DRAM问世,1cm2大小的硅片上集成有3500万个晶体管,集成电路发展历程,1989年:486微处理器推出,25MHz,1m工艺,后来50MHz芯片采用 0.8m工艺;1993年:66MHz奔腾处理器推出,采用0.6工艺;1995年:Pentium Pro(高能奔腾,686级的CPU),133MHz,采用0.6-0.35工艺;1997年:300MHz奔腾问世,采用0.25工艺;1999年:奔腾问世,450MHz,采用0.25工艺,后采用0.18m工艺

4、;,集成电路发展历程,2000年:奔腾4问世,1.5GHz,0.18工艺;2001年:Intel 2001年下半年采用0.13工艺;2003年:奔腾4 E系列推出,采用90nm工艺;2005年:intel 酷睿2系列上市,采用65nm工艺;。2007年:基于全新45纳米High-K工艺的intel酷睿2 E7/E8/E9上市。2009年:intel酷睿i系列全新推出,采用的32nm工艺;2011年底,intel14nm制程工艺芯片已经完成设计;目前市场上性能最高的CPU是Intel 酷睿i7 995X 3.6GHz 主频,32nm工艺。2013年,intel的14nm工艺CPU已经流片成功,计

5、划两年内推出成熟产品。,摩尔定律,摩尔定律是由英特尔(Intel)创始人之一戈登摩尔(GordonMoore)提出来的。其内容为:集成电路上可容纳的晶体管数目,约每隔18个月便会增加一倍,性能也将提升一倍,而价格下降一半;或者说,每一美元所能买到的电脑性能,将每隔18个月翻两番。这一定律揭示了信息技术进步的速度。,世界集成电路发展,世界集成电路产业一直以3-4倍于国民经济增长速度发展。每年均增长17。,世界超大集成电路生产的主流工艺水平是直径为12英寸(300mm)硅晶圆片,光刻精度(特征尺寸)为0.13微米,已达到22nm、18英寸(450mm)水平。衡量集成电路产业技术水平的两个重要参数是

6、:晶圆直径 特征尺寸,世界最高水平的单片集成电路芯片上所容 纳的元器件数量已经超过80亿个。向SOC(System on Chip)发展,IC发展速度,世界IC市场,Intel(美)297.5;Toshiba112.1;NEC 110.8;Samsung 108.0;Texas Instrument 91.0;Motorola 80.0;STMicroelectronics(意法)79.5;Hitachi(日立)72.8;Infineon(德)67.2;MicroTE(美)63.1;SUM 1087.8亿美元2012年全球IC市场销售额突破 3000亿,2000年世界IC市场总销售额达到204

7、4亿,中国IC的发展,2002年,市场销售额4862.5亿元,2007年,市场销售额 5623.7亿元,主要芯片制造厂家,国内投资建设生产线,8英寸线有6条,14英寸的在建,中芯国际,上海宏力,上海华虹,上海先进半导体,无锡华晶上华,上海贝岭,北京首钢日电,绍兴华越,计算机类、消费类、网络通信类三大领域占中国集成电路市场的88.1%,集成电路生产主要流程,需求,设计,材料(单晶硅等),掩膜版,芯片制作,芯片检测,封装,测试,IC制造过程,光刻、注入、扩散、刻蚀,绝热层,炭加热部件,石英坩锅,熔融多晶硅,单晶硅,籽晶,CZ拉单晶炉,晶圆,图中从左到右分别是450mm(18英寸)、300mm(12

8、英寸)和200mm(8英寸)的晶圆,其中只有8寸为晶圆实物,18寸和12寸皆为比例模型。,掺杂离子束,离子注入机,X j,结深,离子注入掺杂,硅片,掩蔽层,掩蔽层,扩散掺杂,扩散杂质,掩蔽层,掩蔽层,硅片,封装,Bipolar Device,增强型n沟道MOSFET,MOSFET,Inverted layer,channel,CMOS,反相器,ASIC Application Specific Integrated Circuit,模拟与数字电路的仿真 模拟:SPICE;PSPICE 数字:VHDL;Verilog HDL,Full-Custom;Semi-Custom半定制:厂家提供半成品母

9、片(Gate Array;Standard Cell),FPGA(Field Programmable Gate Array),仿真语言(硬件描述语言HDL)Spice 晶体管/门级语言;VHDL、Verilog 行为级语言;可描述复杂的数字器件的逻辑行为,具有模数混合仿真模拟用SPICE算法,数字用HDL Protel 里的Sim模块;Workbench里的Multisim,PLD,70年代推出,采用熔丝编程,阵列结构80年代Lattice推出GAL(通用阵列逻辑generic array logic),采用E2PROM工艺85年Xilinx推出FPGA(现场可编程门阵列field prog

10、rammable gate array),采用单元结构CPLD(复杂可编程逻辑器件Complex Programmable Logic Device)由Altera推出,EDA平台,下载,设计处理(综合、优化、布局、布线),功能仿真,时序仿真,在线测试,电路输入(原理、HDL、波形),Top-Down设计,系统级描述,功能级描述,功能仿真,门级描述,时序仿真,EDA工具,由公司自己推出:Altera的MAXPLUS,Xilinx的Foundation,Lattice的ispDesignEXPERT由第三方推出:Cadence,Synplify,Viewlogic,EWB,SystemView,

11、Protel中国华大推出Panda2000,Aether,EDA软件之争,形成CADENCE,SYNOPSYS 两强相争CADENCE强项在布局布线,SYNOPSYS 强项在逻辑综合,仿真SNOPSYS开发physical compiler基于布线的逻辑综合软件CADENCE开发PKS的一体化EDA软件从逻辑综合到布局布线,EWDElectronics Workbench,加拿大Interactive Image Technologies公司90年代推出EWB用于电子线路设计与仿真虚拟平台可进行电路设计、电路分析、测试、验证、纠错、创新等。,工作窗口,电路描述,工作窗口,元件库,仪器库,THANKS,

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