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1、微细加工与MEMS技术,电子科技大学微电子与固体电子学院,张庆中,教材：微电子制造科学原理与工程技术，Stephen A.Campbell，电子工业出版社,主要参考书：微细加工技术，蒋欣荣，电子工业出版社 VLSI Technology,S.M.Sze半导体制造技术，Michael Quirk,Julian Serda，电子工业出版社,第 1 章 引论,1.1 主要内容 加工尺度：亚毫米 纳米量级。加工单位：微米 原子或分子线度量级（10 8 cm）。加工形式：分离加工、结合加工、变形加工。,微细加工技术的涉及面极广，具有“大科学”的性质，其发展将依赖于基础材料、器件物理、工艺原理、精密光学、
2、电子光学、离子光学、化学、计算机技术、超净和超纯技术、真空技术、自动控制、精密机械、冶金化工等方面的成果。微细加工技术的应用十分广泛，主要应用于集成电路以及微机电系统（MEMS）的制造。,加工尺度：微米 纳米。,1.2 微细加工技术在集成电路发展中的作用,一、集成电路发展简史 58年，锗 IC 59年，硅 IC 61年，SSI（10 100 个元件/芯片），RTL 62年，MOS IC，TTL，ECL 63年，CMOS IC 64年，线性 IC,65年，MSI（100 3000个元件/芯片）69年，CCD 70年，LSI（3000 10万个元件/芯片），1K DRAM 71年，8位 MPU I
3、C，4004 72年，4K DRAM，I2L IC 77年，VLSI（10万 300万个元件/芯片），64K DRAM，16位 MPU 80年，256K DRAM，2 m 84年，1M DRAM，1 m 85年，32 位 MPU，M 68020,86年，ULSI（300万 10亿个元件/芯片），4 M DRAM(8106,91 mm2,0.8 m,150 mm)，于 89 年开始商业化生产，95 年达到生产顶峰。主要工 艺技术：g 线（436 nm）步进光刻机、1:10 投影曝光、负性胶 正性胶、各向异性干法腐蚀、LOCOS 元件 隔离技术、LDD 结构、浅结注入、薄栅绝缘层、多晶 硅或难熔金
4、属硅化物、多层薄膜工艺等。,88年，16 M DRAM（3107,135 mm2,0.5 m,200 mm），于 92 年开始商业化生产，97 年达到生产顶峰。主要 工艺技术：i 线（365 nm）步进光刻机、选择 CVD 工艺、多晶硅化物、难熔金属硅化物多层布线、接触埋入、化学机械抛光（CMP）工艺等。,91年，64 M DRAM（1.4108,198 mm2,0.35 m,200 mm），于 94 年开始商业化生产，99 年达到生产顶峰。主要 工艺技术：i 线步进光刻机、相移掩模技术、低温平 面化工艺、全干法低损伤刻蚀、加大存储电容工艺、增强型隔离、RTP/RTA工艺、高性能浅结、CMP
5、工艺、生产现场粒子监控工艺等。,92年，256 M DRAM（5.6108,400 mm2,0.25 m,200 mm），于 98 年开始商业化生产，2002 年达到生产顶峰。主要工艺技术：准分子激光（248 nm）步进光刻机、相移掩模技术、无机真空兼容全干法光刻胶、0.1 m 浅结、低温工艺和全平坦化工艺、CVD Al、Cu 金属工艺、生产全面自动化等。,95年，GSI（10亿个元件/芯片），1 G DRAM（2.2109,700 mm2,0.18 m,200 mm），2000 年开始商业化生产，2004 年达到生产顶峰。主要工艺技术：X 射线光刻机、超浅结（0.05 m）、高介电常数铁电介
6、质工艺、SiC 异质结工艺、现场 真空连接工艺、实时控制工艺的全面自动化等。,97年，4 G DRAM（8.8109,986 mm2,0.13 m,300 mm），2003 年进入商业化生产。,02年，2 G、0.13 m，（商业化生产）,04年，4 G、0.09 m，（商业化生产）,06年，8 G、0.056 m，（商业化生产）,二、集成电路的发展规律 集成电路工业发展的一个重要规律即所谓 摩尔定律。Intel 公司的创始人之一戈登摩尔先生在 1965 年 4月19日发表于电子学杂志上的文章中提出，集成电路的能力将每年翻一番。1975 年，他对此提法做了修正，称集成电路的能力将每两年翻一番。
7、摩尔定律最近的表述：在价格不变的情况下，集成电路芯片上的晶体管数量每 18 个月翻一番，即每 3 年乘以 4。,集成电路工业发展的另一些规律 建立一个芯片厂的造价也是每 3 年乘以 4；线条宽度每 6 年下降一半；芯片上每个器件的价格每年下降 30%40%；晶片直径的变化：60年：0.5 英寸，65年：1 英寸，70年：2 英寸，75年：3 英寸，80年：4 英寸，90年：6 英寸，95年：8 英寸（200 mm），2000年：12 英寸（300 mm）。,美国 1997 2012 年半导体技术发展规划,三、集成电路的发展展望 目标：集成度、可靠性、速度、功耗、成本 努力方向：线宽、晶片直径、
8、设计技术,可以看出，专家们认为，在未来一段时期内，IC 的发展仍将遵循摩尔定律，即集成度每 3 年乘以 4，而线宽则是每 6年下降一半。,硅技术过去一直是，而且在未来的一段时期内也还将是微电子技术的主体。目前硅器件与集成电路占了 2000多亿美元的半导体市场的 95%以上。,大规模集成电路发展的几个趋势:1、单片系统集成（SOC）2、整硅片集成（WSI）3、半定制电路的设计方法 4、微机电系统（MEMS）5、真空微电子技术,四、集成电路发展面临的问题,1、基本限制 如热力学限制。由于热扰动的影响，数字逻辑系统的开关能量至少应满足 ES 4kT=1.6510-20 J。当沟道长度为 0.1 m
9、时，开关能量约为 510-18 J。在亚微米范围，从热力学的角度暂时不会遇到麻烦。又如加工尺度限制，显然原子尺寸是最小可加工单位，现在的最小加工单位通常大于这个数值。,2、器件与工艺限制,3、材料限制 硅材料较低的迁移率将是影响 IC 发展的一个重要障碍。,4、其他限制 包括电路限制、测试限制、互连限制、管脚数量限制、散热限制、内部寄生耦合限制等。,1.3 集成电路制造的基本工艺流程,器件设计 芯片制造 封装测试,电路设计,材料制备,Process Flow of Annealed Wafer,CrystalGrowth,Slicing,Graphite Heater,Si Melt,Si C
10、rystal,Polishing,Wafering,High Temp.Annealing,Furnace,Annealed Wafer,Defect FreeSurface byAnnealing,(Surface Improvement）,Surface DefectMap,Polished Wafer,横向加工：图形的产生与转移（又称为光刻，包括曝光、显影、刻蚀等）纵向加工：掺杂（扩散、离子注入）、薄膜制备（热氧化、蒸发、溅射、CVD 等）,芯片制造,涂光刻胶（正）,选择曝光,热氧化,SiO2,一、PN 结的制造工艺流程,N,去胶,掺杂,显影（第 1 次图形转移）,刻蚀（第 2 次图形转
11、移）,N,P,镀铝膜,光刻铝电极,CVD 淀积 SiO2 膜,光刻接触孔,二、典型的双极型集成电路工艺流程 衬底制备 热氧化 隐埋层光刻 隐埋层扩散 外延淀积 热氧化 隔离光刻 隔离扩散 热氧化 基区光刻 基区扩散 再分布及氧化 发射区光刻（背面掺金）发射区扩散 氧化 接触孔光刻 铝淀积 反刻铝 铝合金 淀积钝化层 压焊区光刻 中测,衬底制备、热氧化、第 1 次光刻、隐埋层扩散,杂质选择原则：杂质固溶度大，以使集电极串联电阻降低；高温时在硅中的扩散系数要小，以减小外延时埋层杂质上推到外延层的距离；与硅衬底的晶格匹配好，以减小应力。最理想的隐埋层杂质为 As。,对于模拟电路，可选外延层电阻率ep
12、i=0.5 5.cm，厚度 Tepi=7 17 m。,外延层淀积、热氧化,对于数字电路，可选外延层电阻率epi=0.2.cm，厚度Tepi=3 7 m；,第 2 次光刻、隔离扩散 在硅衬底上形成孤立的外延层岛，实现各元件间的电绝缘。,热氧化、第 3 次光刻、基区扩散 形成 NPN 管的基区及扩散电阻。,热氧化、第 4 次光刻、发射区扩散 包括集电极接触孔光刻与 N+扩散，以减小接触电阻。,氧化、第 5 次光刻（接触孔光刻）,铝淀积、第 6 次光刻、铝合金,钝化：可采用等离子增强化学汽相淀积（PECVD）Si3N4 钝化膜，一般淀积温度 300。第 7 次光刻（开压焊孔）引线压焊、封装及测试,从上述芯片制造工艺过程可以看到，共进行了 7 次光刻，需要 7 块掩膜版。典型的集成电路制造工艺需要 15 20 块不同的掩膜版，某些 BiCMOS 工艺更需要 28 块掩膜版。此外，还要涉及到氧化、外延、离子注入或扩散、化学汽相淀积、金属化和钝化等工艺。掌握了这些工艺技术，就掌握了制造集成电路的基本技术。,S,G,D,三、MOSFET 集成电路 N 沟道硅栅 MOSFET 剖面图,P,N,N,CMOS 结构剖面图,
