计算机组成原理8-存储器.ppt

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1、存储系统,需解决的主要问题:,(1)存储器如何存储信息?(2)在实际应用中如何用存储芯片组成具有一定容量的存储器?,存储容量 Sm=W.L(位或字节)Sm 是存储器容量,W是字数,L是位数,访问时间Ta:指从向存储器发出指令开始,到从存储器中读出信息为止所需的时间。访问周期Tm:又称“存储周期”、“读周期”、“写周期”或“读写周期”。它是指连续两次访问存储器的最小时间间隔。一般情况下,Tm=Ta。存储器频宽Bm:是指连续访问存储器时,存储器所能提供的数据传输率。单位为字节/每秒。延迟时间T1:指访问数据时的起始延迟时间。,存储器性能参数,若一个块中有k个字,则传送这一块数据的时间是:,T=T1

2、+k*Bm,存储器的分类,1.按存储器在系统中的作用分类,(1)主存,(内存),主要存放CPU当前使用的程序和数据。,速度快,容量有限,(2)辅存,(外存),存放大量的后备程序和数据。,速度较慢,容量大,(3)高速缓存,存放CPU在当前一小段时间内多次使用的程序和数据。,速度很快,容量小,2.按存储介质分类,(1)半导体存储器,利用双稳态触发器存储信息,速度快,,信息易失,非破坏性读出和破坏性读出,(只读存储器除外)。,作主存、高速缓存。,(3)光盘存储器,利用光斑的有无表示信息。容量很大,作外存。非破坏性读出,长期保存信息,速度慢。,3.按存取方式分类,随机存取:,可按地址访问存储器中的任一

3、单元,,(1)随机存取存储器,访问时间与单元地址无关。,(2)顺序存取存储器(SAM),访问时读/写部件按顺序查找目标地址,访问时间与数据位置有关。(磁带),(3)直接存取存储器(DAM),访问时读/写部件先直接指向一个小区域,再在该区域内顺序查找。访问时间与数据位置有关。,主存储器的组成,DB,MDR,存储阵列,读/写放大电路 写驱动电路,译码器,MAR,RDWR,AB,n,0,2n-1,主存储器的组成,AB 地址总线DB 数据总线RD/WR 读写控制线 低电平有效MAR 内存地址寄存器MDR 内存数据寄存器 又叫MBR译码器:将具有一定含义的二进制码辨别出来,并转换成控制信号。,半导体存储

4、器,存储信息原理,静态存储器SRAM,动态存储器DRAM,(双极型、静态MOS型):,依靠双稳态电路内部交叉反馈的机制存储信息。功耗较大,速度快,作Cache。,(动态MOS型):,依靠电容存储电荷的原理存储信息。功耗较小,容量大,速度较快,作主存。,1、T T L存储元 transistor-transistor logic,W Vcc W,双极型存储器的存储元电路,TTL原理:用两个双射极晶体管交叉反馈,构成双稳态电路。图中,T1,T2交叉反馈,构成双稳态电路,发射极接字线Z,如果字线Z为低电平,可读/写,如果字线Z为高电平,则数据保持。W和W是位线,数据通过W和W读出或写入。定义:当T1

5、通导而T2截止时,存储信息为0,当T2通导而T1截止时,存储信息为1。缺点:管子多,功耗大,集成度低优点:速度快,非破坏性读出,TTL芯片举例,四个位平面的译码结构,行译码,列 译 码,A3A2,A1 A0,一个位平面的译码结构,电路结构图,W Vcc W,T3 T4,T5 A B T6,T1 T2,Z,MOS管说明:当C为高时,A和B电压相同。当C为低时,A和B电压无关,六管静态MOS存储元,等效电路,NMOS原理:T1与T3、T2与T4,分别是MOS反相器T3,T4 是负载管,这两个反相器交叉反馈,构成一个双稳态触 发器。T5,T6是控制门管,由字线控制它们的通断。当字线Z为高电平,T5,

6、T6导通,可读/写,如果字线Z 为低电平,则T5,T6截止,数据保持。定义:当T1通导而T2截止时,存储信息为0,当T2通导而T1截止时,存储信息为1。优点:功耗低缺点:速度稍慢,非破坏性读出,六管静态MOS存储元,六管静态MOS存储元,读写过程1)写入:字线Z加高电平“0”:W加低,W加高;“1”:W加高,W加低2)保持:字线Z加低电平3)读出:对W和W充电至高电平(可随放电降低),然 后将字线Z加高电平,六管静态MOS存储器,六管改为四管,集成度提高。芯片举例 Intel 2114 1K x 4,18脚,1 2 3 4 5 6 7 8 9,18 17 16 15 14 13 12 11 1

7、0,Vcc A7 A8 A9 I/O1 I/O2 I/O3 I/O4 WE,A6 A5 A4 A3 A0 A1 A2 CS GND,2114 1K x 4,六管静态MOS存储器,读写时序 为了让芯片正确工作,必须按时序提供正确的地址、控制、数据信号。1)读周期,地址信号:,控制信号:CS,数据信号:Dout,六管静态MOS存储器,2)写周期,地址信号:,控制信号:CS WE,数据信号:Dout Din,单管动态MOS存储元,结构图,定义:电容C充电至高电平,为1,电容C放电至低电平,为0,单管动态MOS存储元,读写过程1)写入:字线Z加高电平,使V通导“0”:W加低;“1”:W加高2)保持:字

8、线Z加低电平,无放电回路,有泄漏电流,C的信息可保存几毫秒,或保持无电荷状态。3)读出:对W充电至高电平(可随放电降低),然 后将字线Z加高电平,动态存储器芯片举例,Intel 2164,64K需16位地址解决方案:8根地址线分时复用,行选 RAS和列选 CAS 就代替了CS信号。,存储器的各芯片同时刷新,每个芯片内是按行刷新,刷新一行的时间是一个刷新周期。集中刷新方式 有“死”时间,R/W,R/W,R/W,刷新,刷新,2ms,动态存储器的刷新,动态存储器的刷新,分散刷新方式 刷新次数过多,R/W,R/W,刷新,刷新,存取周期,异步刷新方式 克服前两种的缺点,R/W,R/W,刷新,15.6 u

9、 s,R/W,R/W,刷新,15.6 u s,R/W,ROM 指一般情况下只能读出、不能写入的存储器 1、掩模型只读存储器(MROM),地址译码驱动器,Vcc,A1,A9,数 据 缓 冲 器,D0 D1 D7,0,1,1023,读出放大器,0 1 7,0 0 1,1 0 1,1 1 0,011023,A0,半导体只读存储器,半导体只读存储器,上页MROM结构图的说明:1)MROM的存储元可由二极管、双极型晶体管或MOS管等构成,厂家生产时按用户要求做好,用户不能修改。2)上图是采用MOS管的1024*8位的MROM,单译码,1024行,每行8位。译码器行选择线选中为高电平,一行8管,如果某管导

10、通,则对应位为0,否则为1。输出为D0,D1 D7。3)特点:信息一次写入后不能修改,灵活性差。信息固定不变,可靠性高。生产周期长,适合定型批量生产。,半导体只读存储器,2、可编程只读存储器(PROM)1)为克服MROM的缺点,设计了一种出厂时全0,用户可修改1次的ROM。2)有两种产品:结破坏型:行列交点处制作一对彼此反向的二极管,平 时不通,为0;若加高电平,击穿1只二极管,则写1。熔丝型:行列交点处连接一段熔丝,连通为0,若加高电平熔断,则写1。3)以熔丝型为例:见下图,单译码,4字*4位,每个字实际上是一个多发射极管,每个发射极通过熔丝与位线相连。,半导体只读存储器,可编程只读存储器(

11、PROM)结构图:,半导体只读存储器,4、电可擦除可编程只读存储器(EEPROM)将EPROM改为用电来擦写。而且一次不需全部擦除,可以只改写某个单元。思考:可读,可写。能不能代替RAM?,1。反复擦写会击穿浮空门附近的绝缘层。编程次数有限(10万)2。写 操作时间是10us左右,擦除操作是10ms.和CPU速度不匹配。,3、可擦除(紫外线)可编程只读存储器(EPROM)基本存储器电路,半导体只读存储器,5、FLASH MEMORY1)闪存是一种快擦写存储器,非易失性,可以在线 擦除和重写。2)集成度高、高可靠性、抗振动、价格低3)结构和EEPROM相似4)可作存储卡,硅盘。,半导体只读存储器,6、各种ROM的比较,

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