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光刻机是制造芯片的关键设备之一。其主要作用是使用光学技术聘芯片设计图案转移到芯片表面进行加工，以达到制造芯片的目的。在光刻机制造芯片的过程中,主要分为光刻胶涂覆、曝光、显影、清洗等步骤。1、光刻胶涂覆光刻胶是一种光敏聚合物溶液，能够吸收光线并形成致密的聚合物结构，用于保护芯片表面。在光刻机制造芯片的过程中，首先需要将光刻胶涂粒到芯片表面。这个步骤需要用到光刻胶涂覆机，它会在芯片表面涂用一U光刻胶液体，确保整个芯片表面均匀地被覆盖上。2,曝光一旦芯片表面被光刻胶枝盖后，下一步就是曝光,，曝光是一种使用特定波长的光线将芯片的设计图案转移到涂粒到芯片表面的光刻胶上的过程。在曝光过程中，光阑会选择特定的光线通道，然后将光线聚集到一个窄孔中，形成高亮度的光源,3,显影曝光之后，再进行显影显影是将光刻胶中未曝光部分去除的过程。一般来说,图案部分被曝光后，光刻胶会发生化学反应，变成致密的聚合物结构：未曝光部分光刻胶中的化学成分仍然没有反应，可以通过显影液去除。曝光区域未曝光区域变化后酝出来，去掉未曝光区域的光刻胶，形成r光刻图案.4、清洗最后一步就是进行清洗。这个过程会将芯片表面的光刻胶清除掉，以形成芯片上的通孔、电线、晶体管等罂件。由于光刻股在显影之后暴露在空气中时变硬.因此需要使用强力去除剂将其除去.在清洗过程中需耍引入一些腐蚀液，以确保光刻胶的完全清除。
