溅射薄膜制备技术课件

1、第三章溅射镀膜,本章重点溅射的定义及原理溅射的特性及机理溅射与蒸发的比较溅射技术性问题,第一节基本概念,1溅射镀膜的定义：高能离子在电场作用下高速轰击阴极靶，经过能量交换与转移，靶材粒子飞离出来， 淀积在基板上形成薄膜。,溅,射,离子轰击固。

2、第四章手性药物的制备技术,概述,外消旋体拆分,前手性原料制备手性药物,利用手性源制备手性药物,内容,1234概述外消旋体拆分前手性原料制备手性药物利用手,临床药物天然和半合成药物化学合成药物非手性6种手性517种非,在分子水平上,生物系统是。

3、第二章纳米薄膜材料的制备,纳米薄膜的分类,薄膜是一种物质形态,其中,无机薄膜的开发与应用更是日新月异,十分引人注目,已研制出厚度仅有,的超薄膜制品,根据组成,分类单质元素薄膜化合物薄膜复合材料薄膜,按传统分类方法,分类无机材料薄膜,又可分为。

4、功能材料,第七讲功能薄膜材料,第一节薄膜的定义及其特性第二节薄膜材料的分类第三节薄膜的形成过程第四节薄膜的结构特征与缺陷,第一节薄膜的定义及其特性,什么是,薄膜,thinfilm,多,薄,的膜才算薄膜,薄膜有时与类似的词汇,涂层,coati。

5、薄膜制备的真空技术基础,1,1薄膜制备的真空技术基础,1,1气体分子运动论的基本概念1,2气体的流动状态和真空抽速1,3真空泵简介1,4真空的测量,薄膜制备的真空技术基础,2,1,1气体分子运动论的基本概念,固体,液体,气体,薄膜制备的真空。

6、t课件PPT课件,1,第 十章 多晶硅薄膜,多晶硅薄膜材料：指在玻璃陶瓷廉价硅等低成本衬底上，通过化学气相沉积等技术，制备成一定厚度的多晶硅薄膜。根据多晶硅晶粒的大小，部分多晶硅薄膜又可称为微晶硅薄膜ucSi，其晶粒大小在1030nm左右或。

7、腾医弦徒瞄胖漆氰查每仙涯老催手揪烫梭庞凌冬泣港砧七芭搬幕挝咏括慎第四讲薄膜制备方法,图文,ppt第四讲薄膜制备方法,图文,ppt,婪勋颁挂藉哆殷逢坡场泣激制触森鲸棉汽项务廖埠酿刘极庭踪臼侦蒂炔映第四讲薄膜制备方法,图文,ppt第四讲薄膜制备。

8、第8章薄膜材料与薄膜技术3,薄膜与高新技术,材料,信息技术与能源称为现代人类文明的三大支柱,国民经济的各部门和高技术领域的发展都不可避免地受到材料发展的制约或推动,新材料的发展水平成为了衡量国家技术水平和综合实力的重要标志,何谓,新材料,简。

9、先进材料制备技术,化材学院李涓,研究生课程,LOGO,1薄膜材料的制备,1,1薄膜的形成机理1,2物理气相沉积1,3化学气相沉积1,4化学溶液镀膜法1,5液相外延制膜法1,6膜厚的测量与监控,先进材料制备技术,LOGO,1,1薄膜的形成机理。

10、薄膜材料与薄膜技术,王成新,薄膜材料的简单分类,薄膜材料,涂层或厚膜,薄膜,1um,材料保护涂层,材料装饰涂层,光电子学薄膜,微电子学薄膜,其它功能薄膜,1um,力,热,磁,生物等,薄膜材料的制备技术,薄膜材料的制备技术,机械或化学方法,真。

11、纳米薄膜,薄膜是一种物质形态,其膜材十分广泛,单质元素,化合物或复合物,无机材料或有机材料均可制作薄膜,薄膜与块状物质一样,可以是非晶态的,多晶态的或单晶态的,近20年来,薄膜科学发展迅速,在制备技术,分析方法,结构观察和形成机理等方面的研。

12、第四章 无机薄膜材料与制备技术,1,t课件,4.1 薄膜及其特性,一 薄膜的定义及其特性 二 薄膜材料的分类 三 薄膜的结构特征与缺陷四 薄膜和基片,2,t课件,一 薄膜的定义及其特性,什么是薄膜thin film，多薄的膜才算薄膜薄膜有时。

13、第1章薄膜制备的真空技术基础,检位院棕达宛敢稽填闯唉烂阐虎挽童蹋甘侮侠苯汝米社介滴肪鸥科跟做咏第一章薄膜制备的真空技术基础第一章薄膜制备的真空技术基础,1,真空的定义,真空泛指压力低于一个大气压的任何气态空间,1,1真空的基本知识,2,真空。

14、7,薄膜制备技术,7,1薄膜材料基础,7,1,1薄膜的概念与分类,1,薄膜材料的概念,采用一定方法,使处于某种状态的一种或几种物质,原材料,的基团以物理或化学方式附着于衬底材料表面,在衬底材料表面形成一层新的物质,这层新物质就是薄膜,简而言。

15、第三章薄膜制备技术,第三章薄膜制备技术,气相法,液相法,化学溶液镀膜法,化学镀,电镀,溶胶,凝胶,金属有机物分解,液相外延,水热法,喷雾热解,喷雾水解,膜及自组装,物理气相沉积,化学气相沉积,常压,低压,金属有机物,等离子体,光,热丝,真空。

16、7,薄膜制备技术,7,1薄膜材料基础,7,1,1薄膜的概念与分类,1,薄膜材料的概念,采用一定方法,使处于某种状态的一种或几种物质,原材料,的基团以物理或化学方式附着于衬底材料表面,在衬底材料表面形成一层新的物质,这层新物质就是薄膜,简而言。

17、3.1 溅射基本原理3.2溅射主要参数3.3 溅射沉积装置及工艺3.4 离子成膜技术3.5 溅射技术的应用,第三章 薄膜制备技术溅射法,溅射：荷能粒子轰击固体表面，固体表面原子或分 子获得入射粒子所携带的部分能量，从而使其射出的现象。185。

18、第三章,溅射镀膜,本章重点溅射的定义及原理溅射的特性及机理溅射与蒸发的比较溅射技术性问题,转漠宇澎霞舔状殷眠讲怕衷斑萄混伤撕入霉绚翠异箍稻障堑帖帝蝶刀础摹第三章溅射薄膜制备技术第三章溅射薄膜制备技术,第一节,基本概念,1,溅射镀膜的定义,高。

19、第三章,溅射镀膜,本章重点溅射的定义及原理溅射的特性及机理溅射与蒸发的比较溅射技术性问题,第一节,基本概念,1,溅射镀膜的定义,高能离子在电场作用下高速轰击阴极,靶,经过能量交换与转移,靶材粒子飞离出来,淀积在基板上形成薄膜,溅,射,离子轰。

20、第三章,溅射镀膜,本章重点溅射的定义及原理溅射的特性及机理溅射与蒸发的比较溅射技术性问题,第一节,基本概念,1,溅射镀膜的定义,高能离子在电场作用下高速轰击阴极,靶,经过能量交换与转移,靶材粒子飞离出来,淀积在基板上形成薄膜,溅,射,离子轰。