第6章磁记录材料ppt课件.ppt

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1、第6章 磁记录材料,本章将要介绍的主要内容：,磁记录概述；磁头及磁头材料；磁记录介质及介质材料；磁光记录材料；磁泡及磁泡材料,6.1 磁记录概述,我们已经进入信息社会？,“知识大爆炸”？,记忆靠人脑？,杭州电子科技大学,磁记录的起源标志性事件：人们一般认为磁记录是从1898年丹麦人普尔生(Valdemar Poulsen)发明钢丝录音机开始的。这是磁记录技术的开端！人们称他为“磁记录之父”,杭州电子科技大学,磁记录的起源,时间：1888年 早在普尔生发明磁性录音机十年前人物：美国人奥史密斯(0berlin Smith)事件：发表了关于磁性录音可能性的论文观点：史密斯认为将随时间变化的声音转换为

2、电流进而转换为磁性的变化而被记录，再以相反的过程重放是可行的意义：这一观点为今天的磁记录奠定了基础,杭州电子科技大学,时间：1898年 人物：普尔生 事件：发明钢丝录音机，即在钢丝上记录声音，再把它再生出来，并用听筒听所录的声音 意义：标志着磁记录技术的开端,杭州电子科技大学,磁记录的起源,时间：1900年 人物：普尔生 事件：在巴黎万国博览会上，展出“钢丝录音机”这一发明，轰动了整个博览会。后续：由于钢丝录音机发出的声音太小，后来他又发现使用一定的直流电流通过电磁铁可以得到较大的输出，于是在1907年他又发明了直流偏磁的录音方式,杭州电子科技大学,磁记录,1.模拟磁记录通过磁头把输入的电流信

3、号转化为变化的磁场来磁化磁介质，并通过磁头把磁介质上的磁信号转换成电信号输出（或把信号擦除）2.数字磁记录将数字代码信息以电流的形式输入到磁头线圈中，形成磁场后磁化磁介质，并以磁化状态的形式保存在磁记录介质上。通过磁头把磁介质上的磁信号转换成电信号，再还原成数字形式输出,6.1.1 磁记录的基本过程,记录信号时，录音磁头线圈上产生一个信号电流，该电流将电磁铁磁化，在气隙处产生溢出磁场。当磁带转动通过磁头气隙时，气隙处的溢出场将磁带磁化。磁带转动离开气隙后，磁化部分残留剩磁，该剩磁即为记录信号。放音时，从介质表面发散的磁通将进入放音磁头磁芯，从而在磁头线圈中产生感应电压，该电压正比于磁通的变化率

4、。虽然线圈中的感应电压不可能是记录信号的精确重复，但是经过适当的电路处理以后，就能重现记录信号。存放过程中，不允许外加的杂散磁场超过用于记录的磁场的强度，否则磁带中所记录的信息将出现错误。抹音时，抹音磁头可以产生一个大于记录磁场强度的磁场，就可以抹除原先记录的信息，抹除之后，记录介质又可准备记录新的信息。,6.1.2 模拟式磁记录,模拟式磁记录,偏磁信号本身并不反映在磁介质的记录信号上。通过磁头（电磁转换器）实现,模拟信号或脉冲信号反映在磁介质的记录信号上。通过电子管、晶体管等调制器来实现的；,无偏磁记录,信号转换成电流后，直接送入磁头线圈而记录在磁介质上,缺点：信号失真、能量转换效率差、信噪

5、比低等；,偏磁记录,直流偏磁,交流偏磁记录,调幅,调频,5.1.3数字式磁记录,数字式记录,数字记录采用on和off这两种有一定间隔的脉冲信号，主要采用“1”和“0”这两种数值的信号。数字信号记录有利用磁化方向记录和利用磁化反转记录两种方式，记录原理如下：,a.利用磁化方向进行记录,b.利用磁化反转进行记录,数字信号调制原理,磁头行走方向,数字信号,记录介质,记录电流,脉冲电压（再生）,两种磁化模式,大幅度提高记录密度,水平磁记录,环形磁头,运动方向,（a）,（b）,（c）,基体,磁性层,水平磁记录模式的记录和再生原理,垂直磁记录,使晶粒生长为柱状晶而引起的形状磁各向异性；界面磁各向异性；生长

6、诱导磁各向异性；晶体磁各向异性；伸缩诱导磁各向异性；,为实现垂直磁化，磁体垂直磁各向异性K应满足：,实际上，上述各种磁各向异性机制是相互迭加而其作用的。,垂直磁记录头与介质材料,基板,基板,坡莫合金膜,Co-Cr合金,主磁极（坡莫合金膜）,铁氧体,励磁线圈,磁记录层,打底层,6.2 磁头与磁头材料,磁头是指能对磁介质进行信息记录、再生及读取功能的器件。,采用磁头与磁记录介质相组合的形式，通过磁头间隙产生的漏磁通使磁性膜磁化,高密度存储要求：,磁记录介质：高剩磁，高矫顽力，矩形比接近1；磁 头：高磁通密度，高磁导率,再生时获得足够大的输出,保持相对稳定的磁化状态,对记录介质进行有效地磁化,有效地

7、再生记录信号,典型磁头示例,6.2.1磁头的种类,磁性合金：坡莫合金、仙台斯特合金、Fe-Al合金和Fe-Al-B合金；铁氧体磁头：Mn-Zn铁氧体和Ni-Zn铁氧体；MIG磁头：铁氧体磁芯间隙中沉积一层软磁合金薄膜,工作缝隙小、磁场分布陡河磁迹宽度窄，故可提高记录速度和读出分辨率,利用磁电阻效应制成,电磁感应型磁头和GMR磁头,电磁感应磁头记录与再生原理,磁电阻磁头结构示意,6.2.2 磁头材料,6.3 磁记录介质及介质材料,日常生活中的磁记录媒体,6.3.1 磁记录介质应具备的特性,1）饱和磁通密度2）矩形比大3）矫顽力在磁头允许的范围内尽可能的大4）作为磁化反转的单位的体积应尽量小，大小

8、及分布均匀5）磁学特性分布均匀，随机偏差小6）表面光滑，耐磨损，耐环境性好7）磁学特性对于加压、加热等反应不敏感8）化学的、机械的耐久性优良9）不容易导电,高出力,高记录密 度,低噪声,高可靠性,基本要求,记录介质应具备的条件,6.3.2颗粒状涂布介质,对颗粒介质的要求,颗粒状介质最好是单畴的；颗粒的形状以针状为最佳；颗粒状介质信噪比与 成正比，N为单位体积内磁性颗粒数 样品开关场分布尽可能窄矫顽力在磁头允许的情况下足够高 居里温度必须比记录介质材料在使用、存贮和运输过程中的环境温度要高。,颗粒状涂布介质结构,涂布型磁带主要由带基和附着其上的磁性涂覆层构成,基板,Al2O3补强剂,涂布型磁盘结

9、构示例,常用磁盘分硬盘和软盘两大类：硬盘是在厚度为12mm的铝合金盘基上附着磁记录层软盘是在可挠性PET盘基上附着磁记录层,磁性粉,（1）-Fe2O3（2）包覆Co的-Fe2O3（3）CrO2（4）金属磁粉（5）氮化铁（6）钡铁氧体,矫顽力范围为2032kA/m,矫顽力范围为5570kA/m,矫顽力范围为3550kA/m,矫顽力可达51kA/m,矫顽力范围为100900kA/m,颗粒状介质的优缺点,（1）介质的磁性能由颗粒本身决定，其磁性能和非磁性能可独立改造和控制；（2）颗粒状涂布介质生产速度块，产量高，成本低；（3）可提供或可开发的颗粒选择范围宽，只是受到磁头材料的限制。,优点：,缺点：,

10、（1）磁性颗粒所占比重较小，使得涂层的磁性能和记录性能变差；（2）介质厚度较大；（3）磁性颗粒分散性难以控制，很难产具有理想记录特性的颗粒；（4）在涂布过程中用磁场对颗粒进行定向或打乱定向不是很有效。,6.3.3 薄膜介质,薄膜记录介质由基底、附加层、磁性层和保护层组成。在磁层和附加层之间也可增加一层缓冲层。保护层可以是单层的，也可以是多层的。在保护层上还可以增加一层润滑层,基底和附加层,要求薄膜与基底之间有很强的粘结力，因此必须保持基底清洁度和材料的兼容性,为了使磁盘表面形貌均匀，基底必须有很好的抛光,对于硬盘来说，基底的硬度很重要，因此需要添加非磁性附加层来提高硬度,附加层除了可提高硬度外

11、，还可以减少缺陷,磁性层,磁性层制备方法很多，有电镀法、真空蒸镀法、溅射法等，可根据不同的介质灵活采用。,真空蒸镀,溅射,溅射镀膜,A,B,岛状生长模式,工艺控制因素：入射原子速度、能量；基板温度,影响形核及成膜的因素：表面扩散；停滞时间；再蒸发；体扩散,Co的单方向生长模式,基板,为了获得高矫顽力，薄膜通常选用高各向异性的Co基合金,水平磁记录盘片结构示意,垂直磁记录盘片结构示意,保护层,保护层应尽可能薄、不粗糙、耐磨，同时应不使磁头磨损，还应尽可能具有强的抗腐蚀性,保护层材料应该是比较硬的、化学性质不活泼的、能与磁性层很好粘结但与磁头不粘结的材料，同时应有高的抗张强度，并且不易碎裂,常用的

12、保护层材料有硬质碳，除此之外，保护层材料还有TiC、TiN、SiC、CrC3、Al2O3等,典型磁记录介质示例,常用的磁记录介质有磁带、磁盘和磁卡等,磁带是在基板上，沉积磁性层并构成复合材料膜层结构,磁带断面结构,磁盘,磁性层,基板（如PET等）,磁性层,基板（如PET等）,Ti膜,倾斜蒸镀可挠性软盘,准二层膜垂直记录可挠性软盘,软盘是在可挠性PET盘上附着磁记录层,磁盘由在圆盘状盘基表面附着磁记录介质层构成。常用磁盘分为硬盘和软盘两类：,硬盘,基板（铝合金）,基板（铝合金）,硬盘是在厚度为12mm的铝合金基盘上附着磁记录层,电镀磁性膜硬盘,垂直磁性膜硬盘,磁盘制备工艺,基盘制作（坯料）,如A

13、l-5%Mg合金熔炼、铸造，压延，圆板冲切，加压退火,内外径切削，两面研磨,电镀Ni，研磨，洗净,磁性膜溅射，碳膜溅射，润滑液,镜面研削，研磨，铬酸盐光泽处理，洗净,磁性膜涂布（磁性粉、粘接剂、添加剂），树脂硬化，润滑膜,凹凸检查，磁性检查，膜缺陷检查,薄膜型,涂布型,磁卡,磁卡方便信息的存储、读出，使用方便、安全、快捷，保密性好,磁性条纹类型,基体,基体,附着磁性条纹,磁性层,附着磁性条纹卡,全磁性涂布卡,俯视图,侧视图,磁卡构造,基体（PET188250m）,中心部分（PVC，0.56mm）,磁卡制备工艺流程,6.4 磁光记录材料,磁光记录实际上是光辅助式磁记录,本节主要讲述下面内容：6.

14、4.1磁光效应6.4.2磁光记录和读出原理6.4.3磁光记录介质材料,6.4.1 磁光效应,赛曼效应,法拉第效应和科顿-莫顿,对发光物质施加磁场，光谱发生分裂无应用,异常光线,正常光线,法拉第效应,科顿-莫顿效应,克尔效应,当光入射到被磁化物质，或入射到外磁场作用下的物质表面时，其反射光的偏振面发生旋转的现象称为克尔效应,克尔效应的应用,利用极向克尔效应进行磁光记录的原理,非记录点,记录点,记录位,极向克尔效应是目前应用最为广泛的一种克尔效应，当具有直线偏振的激光入射到磁记录介质的表面时，反射光的偏振面因磁性膜的磁化作用而旋转 或 角度。,6.4.2磁光记录和读出原理,磁光记录原理,基本原理是

15、利用热磁效应来改变微小区域的磁化矢量取向,记录时，用聚焦激光局部照射希望记录的部位，该处温度升高，矫顽力下降，在该处施加反向磁场，使该部位磁化发生翻转，从而实现磁记录。,两种记录方式,（a）居里温度写入方式,（b）补偿温度写入方式,磁光记录中两种不同的写入方式,磁光记录分居里温度（TC）写入和补偿温度（Tcomp）写入,两种记录方式共同的特点：记录温度TL下的矫顽力HCL比室温Tr下的矫顽力HCr要低得多,磁光记录读出原理,激光功率低于记录时功率,光盘记录、再生、擦除原理汇总,大体分为三类：再生专用型（便携音响用光盘(CD)等）；一次写入型（文书文件，录像文件等）；可擦除重写型,再生专用型,形

16、成沟槽,一次写入型,开孔,合金层1,合金层2,光强度小,光强度大,基板,相互扩散,内部变形,可擦除重写型,记录：光磁记录再生：克尔效应消除：高温+磁场,记录：高温+急冷再生：光强变化消除：低温徐冷,6.4.3 磁光记录介质材料,本节讲述的主要内容：,磁光记录介质的基本性能要求 Mn-Bi多晶膜 稀土-过渡族元素非晶态薄膜 石榴石氧化物薄膜 Pt/Co超晶格和Pt-Co合金薄膜,磁光记录介质基本性能要求,垂直磁化，要求：为了产生良好的记录开关特性，要求矩形比等于或接近于1；居里温度适中，否则记录用半导体激光器的功率必须很大；稳定的最小记录位尺寸d可粗略地表示为：，因此要求材料的矫顽力要足够大 另

17、外还要求低噪声，化学结构等稳定，便于大面积均匀成膜，具有很强的市场竞争性等,Mn-Bi多晶膜,六方晶体Mn-Bi是最早研究的磁光记录介质，晶体的c轴垂直于膜面（KU0），矫顽力大（160kA/m320kA/m）。Mn-Bi在晶体结构上有两个相，即低温相和高温淬火相。低温相居里温度较高，TC=360。当加热至居里温度以上时，部分转变为顺磁相，从而导致磁矩下降。高温顺磁相急冷至室温（淬火）时，晶体将保持高温相的结构。高温相的居里温度低，TC=180，对磁光记录有利，但由于MS低，相应的F也低，读出信号变小。,稀土-过渡族元素非晶态薄膜,非晶态的优点是可获得成分连续变化的合金体系，这样可大范围调节记

18、录介质的磁光性能，因此对设计理想的磁光记录介质有利。,非晶态R-TM合金中，当R为轻稀土类时，磁矩基本上是相互平行的（铁磁性）；R为重稀土类时，磁矩为反平行的（亚铁磁性）。因此，重稀土-过渡族金属合金，可以使整体磁化强度MS较小。同时，单原子各向异性大的Tb、Dy和Co感生的非晶薄膜的各向异性能也大。因此，Tb-Fe-Co非晶态薄膜成为磁光盘中使用最为普遍的合金成分。,Tb-Fe-Co非晶膜有以下优点：（1）在近红外区（例如光波长为800m）能长期使用；（2）可容易地获得垂直磁化膜；（3）为非晶态结构，可避免晶界等造成的再生噪声；（4）居里温度TC为200，与现在半导体激光功率可良好对应,石榴

19、石氧化物薄膜,石榴石氧化物在短波长时有很大的磁光效应，波长为510nm时的法拉第效应达7.5/m，非常利于用作磁光存储介质。,RE-TM非晶态薄膜虽成功用于第一代磁光盘，但由于以下原因难以在记录密度上有更大的突破：首先，稀土抗氧化能力差，对需永久保护的文档是一个安全隐患；其次，RE-TM靶材的制作和回收困难，不利于降低盘片制作成本,1958年发现YIG单晶能传递红光和近红外光，且法拉第旋转角较大；1963年用它的单晶作成磁光调节器；70年代初，液相外延石榴石单晶薄膜成功地用于磁泡器件；80年代初期石榴石薄膜的磁光盘研究成了热门话题；利用石榴石氧化物记录介质的高度抗氧化性和抗辐照性，其可用于特殊

20、用途，如军事、航空、航天等。,薄膜各向异性和磁光效应,主要考虑石榴石薄膜各向异性常数KU和磁光效应特性 其各向异性主要源于感生应力：其中：,磁光效应主要来自电子自旋-轨道相互作用，其能量大小为：,Pt/Co超晶格和Pt-Co合金薄膜,Pt/Co超晶格在波长400nm下，K0.3，其磁和磁光性能已达到实际使用的要求；另外，Pt/Co超晶格的反射率高，其磁光品质因子在短波长范围内优于RE-TM薄膜，是下一代超高密度的磁光存储介质。一般认为，其有效单轴各向异性来源于：Pt/Co超晶格一般采用溅射成膜的方法制备,CoPt合金薄膜也具有强的垂直各向异性、高的矫顽力和大的极向克尔旋转，是下一代短波长磁光记

21、录的后备材料,6.5磁泡及磁泡材料,6.5.1磁泡材料应具备的条件,磁泡材料应具备如下条件：（1）材料应能垂直磁化，要求：（2）磁泡的直径要小，磁学特性与温度相关性要小。磁泡的最小直径取决于材料自身的磁学特性：（3）磁泡的迁移率要比较大。为提高磁泡的迁移率，材料的K不宜过大。同时，若材料的K值过大，还会导致磁泡直径大，不利于高密度记录，因此必须探求最佳磁学特性的范围,6.5.2磁泡材料,磁泡材料主要有单晶石榴石外延薄膜和非晶态合金薄膜两种类型,单晶石榴石外延膜 是目前使用的磁泡材料，研究内容主要包括：寻找小泡径材料，提高畴壁迁移率，改善温度系数等。目前常用的材料有：(EuEr)3(FeGa)5

22、O12，(EuY)3(FeGa)5O12，(SmY)3(FeGa)5O12，(YSmLuCa)3(FeGe)5O12等。,非晶态磁泡材料，泡径约在0.085m之间，畴壁迁移率为61.5376.9cm/sA/m。因此非常适合制造高密度，高操作速度的磁泡存贮器。因为是非晶态，所以制作薄膜时无需单晶基片，并省去了单晶生长、切割、研磨、抛光等大量繁琐的工艺，同时降低了成本。然而非晶态磁泡材料有温度性能差的明显缺点，所以很难用来制作磁泡器件,6.5.3磁泡器件的制作,GGG单晶生长,基片定向、切割、研磨、抛光,液相外延稀土石榴石磁泡薄膜,材料性能测试,芯片制备,中测及划片,装架及焊接,器件封装,器件测量

23、,制备磁泡器件的工艺流程,磁性外延膜制备方法,磁性外延膜的制备方法主要有化学气相沉积和液相外延法,高频加热线圈,化学气相沉积（CVD）外延法,液相外延法,杭州电子科技大学,1.发展历程 1956年，美国IBM公司研制成的IBM350型硬磁盘存储器 1968年，美国IBM公司提出“温彻斯特/Winchester”技术，其要点是 将磁盘、磁头及其寻道机构等组装成一个组合体；增加封闭防尘结构，与外界环境隔绝；采用体积小、质量轻、负荷小的新型磁头；盘片表面涂润滑剂，实行接触起停“温盘”是现代绝大多数硬盘的原型,硬盘,杭州电子科技大学,存储容量大 随机存取速度快 性价比高，价格较便宜 可靠性高,硬盘特点

24、,杭州电子科技大学,硬盘的结构,杭州电子科技大学,硬盘通常由重叠的一组盘片构成，每个盘面都被划分为数目相等的磁道，并从外缘的“0”开始编号，具有相同编号的磁道形成一个圆柱，称之为磁盘的柱面磁盘的柱面数与一个盘面上的磁道数是相等的每个盘面都有自己的磁头，因此盘面数等于总的磁头数,硬盘结构,杭州电子科技大学,读/写过程从查找操作开始驱动机构根据柱面地址把磁头向目标磁道移动，并定位在目标磁道上等待有关信息区段旋转到磁头下，进行读/写操作,硬盘工作原理,杭州电子科技大学,硬盘的性能指标,1、转 速 转速是硬盘所有指标中除了容量以外最引人注目的性能参数 单位：以r/min为单位,杭州电子科技大学,2、存

25、储容量道密度：沿磁盘半径方向单位长度上的磁道数称为道密度Dt 位密度：沿圆周单位长度上的信息比特数称为位密度Db面密度：位密度和道密度的乘积，即Dn=Dt*Db Dn越大表明一个盘片上能存储的信息量就越大,杭州电子科技大学,3、平均寻道时间 指的是磁头到达目标数据所在磁道的平均时间，它直接影响硬盘的随机数据传输速度4、缓存 硬盘缓存的目的是为了解决系统前后级读写速度不匹配的问题，以提高硬盘的读写速度5、传输速度 指硬盘读写数据的速度，单位为兆字节每秒（MB/s），包括内部数据传输率和外部数据传输率内部传输率主要依赖于硬盘的旋转速度外部传输率与硬盘接口类型和硬盘缓存的大小有关,杭州电子科技大学,

26、硬盘技术发展趋势,1、更高的主轴电动机转速 2、“超级数字信号处理器”的应用 3、高速缓存技术 4、提高单碟容量 5、硬盘内多盘片封装技术 6、OAW 技术（光学辅助温式技术）,杭州电子科技大学,硬盘的保养,硬盘是微机系统中最常用、最重要的存储设备之一，也是故障机率较高的设备之一 来自硬盘本身的故障一般都很小，主要是人为因素或使用不当造成的，甚至是不恰当的维护措施所致 硬盘在使用中必须加以正确的维护，否则会出现故障、使用寿命缩短，甚至造成数据丢失，给工作和生活带来不便和不可挽回的损失,杭州电子科技大学,1、防 震,防震原因 硬盘工作时磁头在盘片表面的浮动高度只有几微米；不工作时，磁头与盘片是接

27、触的 硬盘在进行读写操作时，一旦发生较大的震动，就可能造成磁头与数据区相撞击，导致盘片数据区损坏或划盘，甚至丢失硬盘内的文件信息 防震措施 在硬盘工作时或关机后，主轴电机尚未停机之前，严禁搬运电脑或移动硬盘，以免磁头与盘片产生撞击而擦伤盘片表面的磁层 在硬盘的安装、拆御过程中要加倍小心，严防震动,杭州电子科技大学,2、防 尘 防 潮,原 因 操作环境中灰尘过多，会被吸附到电路板的表面及主轴电机的内部 硬盘在较潮湿的环境中工作，会使绝缘电阻下降，轻则引起工作不稳定，重则使某些电子器件损坏 防护措施 用户不能自行拆开硬盘盖，否则空气中的灰尘便进入盘内，磁头读/写操作时将划伤盘片或磁头。因此在硬盘出

28、现故障时决不允许在普通条件下拆开盘体外壳螺钉,杭州电子科技大学,3、防 突 然 断 电,原因 硬盘进行读写时，硬盘处于高速旋转状态中如Quantum(昆腾)的Fireball(火球)系列3.5英寸硬盘，转速达到每分钟4500周如GRANDPRIX系列大容量硬盘，转速则高达每分钟7200周在硬盘如此高速旋转时，忽然关掉电源，将导致磁头与盘片猛烈磨擦，从而损坏硬盘 防护措施 在关机时，一定要注意面板上的硬盘指示灯，确保硬盘完成读写之后再关机！,杭州电子科技大学,4、防 病 毒,计算机病毒对硬盘中存贮的信息是一个很大的威胁，所以应利用版本较新的抗病毒软件对硬盘进行定期的病毒检测 若发现病毒，应立即采

29、取办法去清除，并尽量避免对硬盘进行格式化，因为硬盘格式化会丢失全部数据并减少使用寿命 当从外界拷贝信息到硬盘时，先要对其进行病毒检查，防止硬盘由此染上病毒,杭州电子科技大学,5、防 高 温,过高的温度，将影响磁头的数据读取灵敏度，磁介质也会因热胀效应而造成记录错误 过低的温度，会产生水蒸气，也将影响硬盘的使用，甚至损毁硬盘 因此在使用中要严格控制环境温度，微机操作室内最好配备空调！一般将温度调节在20-25,杭州电子科技大学,6、防 磁 场,磁场是损毁硬盘数据的隐形杀手 要尽可能地使硬盘不靠近强磁场，如：音箱、喇叭、电机、电台等，以免硬盘里所记录的数据因磁化而受到破坏,杭州电子科技大学,7、定 期 整 理 硬 盘,一是根目录的整理根目录一般存放系统文件和子目录文件，不要存放其它文件！清晰整洁的目录结构会为工作带来方便，也避免了软件的重复放置及“垃圾文件”过多而浪费硬盘空间，影响运行速度二是硬盘碎片的整理 在硬盘使用过程中，由于文件的反复存取、删除，往往会使许多文件，尤其是大文件在硬盘上占用的扇区不连续，就象一个个碎片，硬盘上碎块过多会极大地影响硬盘速度，甚至造成死机或程序不能正常运行 Windows系统提供磁盘碎片整理程序，在日常使用中定期整理，将使电脑系统性能保持最佳状态,Thank you!,