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1、模拟电子技术,南京工业大学信息学院电子系 朱晓梅,模拟电子技术参考资料,参考教材康华光 电子技术基础（模拟部分）童诗白 模拟电子技术基础(第3版)习题集模拟电子技术基础学习与解题指南 华中科技大学模拟电子技术基础解题指南 清华大学模拟电子技术常见题型解析及模拟题 西北工业大学,“模拟电子技术”特点,处理对象：模拟信号处理目的：放大、稳定、滤波、产生信号分析方法：工程分析方法（抓住主要因素，忽略次要因素）难点：交流、直流叠加，工程分析方法学习方法：认真听讲、多做练习,3 场效应管放大电路,模拟电子技术基础,1 半导体二极管及其基本电路,2 半导体三极管及放大电路基础,4 功率放大电路,5 集成电
2、路运算放大器,6 反馈放大电路,7 信号的运算与处理电路,8 信号产生电路,9 直流稳压电源,1 半导体二极管及其基本电路,1.1 半导体的基本知识,1.3 半导体二极管,1.4 二极管基本电路及其分析方法,1.5 特殊二极管,1.2 PN结的形成及特性,1.1 半导体的基本知识,1.1.1 半导体材料,1.1.2 半导体的共价键结构,1.1.3 本征半导体,1.1.4 杂质半导体,1.1.1 半导体材料,根据物体导电能力的不同，来划分导体、绝缘体和半导体。,典型的半导体有硅Si和锗Ge以及砷化镓GaAs等。,1.1.2 半导体的共价键结构,硅和锗的原子结构简化模型及晶体结构,1.1.3 本征
3、半导体,本征半导体化学成分纯净的半导体。它在物理结构上呈单晶体形态。,空穴共价键中的空位。,电子空穴对由热激发而产生的自由电子和空穴对。,空穴的移动空穴的运动是靠相邻共价键中的价电子充填空穴来实现的。,1.1.4 杂质半导体,在本征半导体中掺入某些微量元素作为杂质，可使半导体的导电性发生显著变化。掺入的杂质主要是三价或五价元素。掺入杂质的本征半导体称为杂质半导体。,N型半导体掺入五价杂质元素（如磷）的半导体。,P型半导体掺入三价杂质元素（如硼）的半导体。,1.N型半导体,1.1.4 杂质半导体,因五价杂质原子中只有四个价电子能与周围四个半导体原子中的价电子形成共价键，而多余的一个价电子因无共价
4、键束缚而很容易形成自由电子。,在N型半导体中自由电子是多数载流子，它主要由杂质原子提供；空穴是少数载流子,由热激发形成。,提供自由电子的五价杂质原子因带正电荷而成为正离子，因此五价杂质原子也称为施主杂质。,2.P型半导体,1.1.4 杂质半导体,因三价杂质原子在与硅原子形成共价键时，缺少一个价电子而在共价键中留下一个空穴。,在P型半导体中空穴是多数载流子，它主要由掺杂形成；自由电子是少数载流子，由热激发形成。,空穴很容易俘获电子，使杂质原子成为负离子。三价杂质 因而也称为受主杂质。,1.杂质对半导体导电性的影响,1.1.4 杂质半导体,掺入杂质对本征半导体的导电性有很大的影响，一些典型的数据如
5、下:,以上三个浓度基本上依次相差106/cm3。,本征半导体、杂质半导体,本节中的有关概念,自由电子、空穴,N型半导体、P型半导体,多数载流子、少数载流子,施主杂质、受主杂质,end,1.2 PN结的形成及特性,1.2.2 PN结的形成,1.2.3 PN结的单向导电性,1.2.4 PN结的反向击穿,1.2.1 载流子的漂移与扩散,1.2.1 载流子的漂移与扩散,漂移运动：在电场作用下引起的载流子的运动称为漂移运动。,扩散运动：由载流子浓度差引起的载流子的运动称为扩散运动。,1.2.2 PN结的形成,在一块本征半导体两侧通过扩散不同的杂质,分别形成N型半导体和P型半导体。此时将在N型半导体和P型
6、半导体的结合面上形成如下物理过程:,因浓度差,空间电荷区形成内电场,内电场促使少子漂移,内电场阻止多子扩散,最后,多子的扩散和少子的漂移达到动态平衡。,多子的扩散运动,由杂质离子形成空间电荷区,1.2.2 PN结的形成,1.2.3 PN结的单向导电性,当外加电压使PN结中P区的电位高于N区的电位，称为加正向电压，简称正偏；反之称为加反向电压，简称反偏。,(1)PN结加正向电压时,低电阻 大的正向扩散电流,1.2.3 PN结的单向导电性,当外加电压使PN结中P区的电位高于N区的电位，称为加正向电压，简称正偏；反之称为加反向电压，简称反偏。,(2)PN结加反向电压时,高电阻 很小的反向漂移电流,P
7、N结加正向电压时，呈现低电阻，具有较大的正向扩散电流；PN结加反向电压时，呈现高电阻，具有很小的反向漂移电流。由此可以得出结论：PN结具有单向导电性。,1.2.3 PN结的单向导电性,(3)PN结V-I 特性表达式,其中,PN结的伏安特性,IS 反向饱和电流,VT 温度的电压当量,且在常温下（T=300K）,1.2.4 PN结的反向击穿,当PN结的反向电压增加到一定数值时，反向电流突然快速增加，此现象称为PN结的反向击穿。,热击穿不可逆,1.3 半导体二极管,1.3.1 半导体二极管的结构,1.3.2 二极管的伏安特性,1.3.3 二极管的主要参数,半导体二极管图片,1.3.1 半导体二极管的
8、结构,在PN结上加上引线和封装，就成为一个二极管。二极管按结构分有点接触型、面接触型两大类。,(1)点接触型二极管,PN结面积小，结电容小，用于检波和变频等高频电路。,（a）面接触型（b）集成电路中的平面型（c）代表符号,(2)面接触型二极管,PN结面积大，用于工频大电流整流电路。,(b)面接触型,1.3.2 二极管的伏安特性,二极管的伏安特性曲线可用下式表示,锗二极管2AP15的V-I 特性,硅二极管2CP10的V-I 特性,1.1.3 二极管的主要参数,(1)最大整流电流IF,(2)反向击穿电压VBR和最大反向工作电压VRM,(3)反向电流IR,end,1.4 二极管基本电路及其分析方法,
9、1.4.1 简单二极管电路的图解分析方法,1.4.2 二极管电路的简化模型分析方法,1.4.1 简单二极管电路的图解分析方法,二极管是一种非线性器件，因而其电路一般要采用非线性电路的分析方法，相对来说比较复杂，而图解分析法则较简单，但前提条件是已知二极管的V-I 特性曲线。,例1.4.1 电路如图所示，已知二极管的V-I特性曲线、电源VDD和电阻R，求二极管两端电压vD和流过二极管的电流iD。,解：由电路的KVL方程，可得,即,是一条斜率为-1/R的直线，称为负载线,Q的坐标值（VD，ID）即为所求。Q点称为电路的工作点,1.4.2 二极管电路的简化模型分析方法,1.二极管V-I 特性的建模,
10、将指数模型 分段线性化，得到二极管特性的等效模型。,1.4.2 二极管电路的简化模型分析方法,1.二极管V-I 特性的建模,1.4.2 二极管电路的简化模型分析方法,1.二极管V-I 特性的建模,（4）小信号模型,vs=0 时,Q点称为静态工作点，反映直流时的工作状态。,vs=Vmsint 时（VmVDD）,将Q点附近小范围内的V-I 特性线性化，得到小信号模型，即以Q点为切点的一条直线。,1.4.2 二极管电路的简化模型分析方法,1.二极管V-I 特性的建模,（4）小信号模型,过Q点的切线可以等效成一个微变电阻,即,根据,得Q点处的微变电导,则,常温下（T=300K）,（a）V-I特性（b）
11、电路模型,1.4.2 二极管电路的简化模型分析方法,1.二极管V-I 特性的建模,（4）小信号模型,（a）V-I特性（b）电路模型,1.4.2 二极管电路的简化模型分析方法,2模型分析法应用举例,（1）整流电路,（a）电路图（b）vs和vo的波形,2模型分析法应用举例,（2）静态工作情况分析,理想模型,恒压模型,（硅二极管典型值）,折线模型,（硅二极管典型值）,设,（a）简单二极管电路（b）习惯画法,2模型分析法应用举例,（3）限幅电路,电路如图，R=1k，VREF=3V，二极管为硅二极管。分别用理想模型和恒压降模型求解，当vI=6sint V时，绘出相应的输出电压vO的波形。,2模型分析法应
12、用举例,（4）开关电路,电路如图所示，求AO的电压值,解：,先断开D，以O为基准电位，即O点为0V。,则接D阳极的电位为-6V，接阴极的电位为-12V。,阳极电位高于阴极电位，D接入时正向导通。,导通后，D的压降等于零，即A点的电位就是D阳极的电位。,所以，AO的电压值为-6V。,end,2模型分析法应用举例,（6）小信号工作情况分析,图示电路中，VDD=5V，R=5k，恒压降模型的VD=0.7V，vs=0.1sinwt V。（1）求输出电压vO的交流量和总量；（2）绘出vO的波形。,直流通路、交流通路、静态、动态等概念，在放大电路的分析中非常重要。,1.5 特殊二极管,1.5.1 齐纳二极管
13、(稳压二极管),1.符号及稳压特性,利用二极管反向击穿特性实现稳压。稳压二极管稳压时工作在反向电击穿状态。,(1)稳定电压VZ,(2)动态电阻rZ,在规定的稳压管反向工作电流IZ下，所对应的反向工作电压。,rZ=VZ/IZ,(3)最大耗散功率 PZM,(4)最大稳定工作电流 IZmax 和最小稳定工作电流 IZmin,2.稳压二极管主要参数,1.5.1 齐纳二极管,二极管的测试,故障分析,+VS,COM,Power Supply,+VS,COM,Power Supply,Here are hints!,1.,2.,3.,+VS,COM,Power Supply,1 Vs is not connected to R1.2.R1 is incorrect value.3.Meter is set to AC volts.,1.,2.,3.,
