半导体封装流程.ppt

上传人:laozhun 文档编号:2963783 上传时间:2023-03-05 格式:PPT 页数:33 大小:3.73MB
返回 下载 相关 举报
半导体封装流程.ppt_第1页
第1页 / 共33页
半导体封装流程.ppt_第2页
第2页 / 共33页
半导体封装流程.ppt_第3页
第3页 / 共33页
半导体封装流程.ppt_第4页
第4页 / 共33页
半导体封装流程.ppt_第5页
第5页 / 共33页
点击查看更多>>
资源描述

《半导体封装流程.ppt》由会员分享,可在线阅读,更多相关《半导体封装流程.ppt(33页珍藏版)》请在三一办公上搜索。

1、半导体封装,IC Process Flow,Customer客 户,IC DesignIC设计,Wafer Fab晶圆制造,Wafer Probe晶圆测试,Assembly&TestIC 封装测试,SMTIC组装,什么是封装,封装,就是指把硅片上的电路管脚,用导线接引到外部接头处,以便与其它器件连接。可以这么理解:芯片(Die)和不同类型的框架(L/F)和塑封料(EMC)形成的不同外形的封装体。,封装功用,电力和电子讯号的传输。散热。保护电路。方便运输。,封装分类,按封装材料划分为:,金属封装,陶瓷封装,塑料封装,金属封装主要用于军工或航天技术,无商业化产品;陶瓷封装优于金属封装,也用于军事产

2、品,占少量商业化市场;塑料封装用于消费电子,因为其成本低,工艺简单,可靠性高而占有绝大部分的市场份额;,封装分类,按与PCB板的连接方式划分为:,PTH,PTH-Pin Through Hole,通孔式;SMT-Surface Mount Technology,表面贴装式。目前市面上大部分IC均采为SMT式的,SMT,Package,Lead,PCB,封装分类,按封装外型可分为:SOT、QFN、SOIC、TSSOP、QFP、BGA、CSP等;决定封装形式的两个关键因素:封装效率。芯片面积/封装面积,尽量接近1:1;引脚数。引脚数越多,越高级,但是工艺难度也相应增加;,封装流程,封装流程,SE8

3、117T331101-LF,Back Grinding背面减薄,Taping粘胶带,BackGrinding磨片,De-Taping去胶带,将从晶圆厂出来的Wafer进行背面研磨,来减薄晶圆达到 封装需要的厚度(8mils10mils);磨片时,需要在正面(Active Area)贴胶带保护电路区域 同时研磨背面。研磨之后,去除胶带,测量厚度;,高速旋转的砂轮,真空吸盘工作台,DIE Saw晶圆切割,Wafer Mount晶圆安装,Wafer Saw晶圆切割,Wafer Wash清洗,将晶圆粘贴在蓝膜(Mylar)上,使得即使被切割开后,不会散落;通过Saw Blade将整片Wafer切割成一

4、个个独立的Dice,方便后面的 Die Attach等工序;Wafer Wash主要清洗Saw时候产生的各种粉尘,清洁Wafer;,DIE Saw晶圆切割,Wafer Saw Machine,Saw Blade(切割刀片):Life Time:9001500M;Spindlier Speed:3050K rpm:Feed Speed:3050/s;,Die Attach 芯片粘接,Write Epoxy点银浆,Die Attach芯片粘接,Epoxy Cure银浆固化,Epoxy Storage:零下50度存放;,Epoxy Aging:使用之前回温,除去气泡;,Epoxy Writing:点

5、银浆于L/F的Pad上,Pattern可选;,Die Attach 芯片粘接,芯片拾取过程:1、Ejector Pin从wafer下方的Mylar顶起芯片,使之便于 脱离蓝膜;2、Collect/Pick up head从上方吸起芯片,完成从Wafer 到L/F的运输过程;3、Collect以一定的力将芯片Bond在点有银浆的L/F 的Pad上,具体位置可控;4、Bond Head Resolution:X-0.2um;Y-0.5um;Z-1.25um;5、Bond Head Speed:1.3m/s;,FOL Die Attach 芯片粘接,Epoxy Write:Coverage 75%;

6、,Die Attach:Placement0.05mm;,Epoxy Cure 银浆固化,银浆固化:175C,1个小时;N2环境,防止氧化:,Die Attach质量检查:Die Shear(芯片剪切力),Wire Bonding 引线焊接,利用高纯度的金线(Au)、铜线(Cu)或铝线(Al)把 Pad 和 Lead通过焊接的方法连接起来。Pad是芯片上电路的外接 点,Lead是 Lead Frame上的 连接点。W/B是封装工艺中最为关键的一部工艺。,Wire Bonding 引线焊接,Key Words:Capillary:陶瓷劈刀。W/B工艺中最核心的一个Bonding Tool,内部为

7、空心,中间穿上金线,并分别在芯片的Pad和Lead Frame的Lead上形成第一和第二焊点;EFO:打火杆。用于在形成第一焊点时的烧球。打火杆打火形成高温,将外露于Capillary前端的金线高温熔化成球形,以便在Pad上形成第一焊点(Bond Ball);Bond Ball:第一焊点。指金线在Cap的作用下,在Pad上形成的焊接点,一般为一个球形;Wedge:第二焊点。指金线在Cap的作用下,在Lead Frame上形成的焊接点,一般为月牙形(或者鱼尾形);W/B四要素:压力(Force)、超声(USG Power)、时间(Time)、温度(Temperature);,Wire Bondi

8、ng 引线焊接,陶瓷的Capillary,内穿金线,并且在EFO的作用下,高温烧球;,金线在Cap施加的一定压力和超声的作用下,形成Bond Ball;,金线在Cap施加的一定压力作用下,形成Wedge;,Wire Bonding 引线焊接,EFO打火杆在磁嘴前烧球,Cap下降到芯片的Pad上,加Force和Power形成第一焊点,Cap牵引金线上升,Cap运动轨迹形成良好的Wire Loop,Cap下降到Lead Frame形成焊接,Cap侧向划开,将金线切断,形成鱼尾,Cap上提,完成一次动作,Wire Bonding Examples,Stacked wiring,Multi-layer

9、,1st bond,Molding(注塑),为了防止外部环境的冲击,利用EMC 把Wire Bonding完成后的产品封装起 来的过程,并需要加热硬化。,Before Molding,After Molding,Molding(注塑),Molding Tool(模具),EMC(塑封料)为黑色块状,低温存储,使用前需先回温。其特 性为:在高温下先处于熔融状态,然后会逐渐硬化,最终成型。Molding参数:Molding Temp:175185C;Clamp Pressure:30004000N;Transfer Pressure:10001500Psi;Transfer Time:515s;Cu

10、re Time:60120s;,Cavity,L/F,L/F,Molding(注塑),Molding Cycle,-L/F置于模具中,每个Die位于Cavity中,模具合模。-块状EMC放入模具孔中,-高温下,EMC开始熔化,顺着轨道流向Cavity中,-从底部开始,逐渐覆盖芯片,-完全覆盖包裹完毕,成型固化,De-flash(去溢料),Before,After,目的:De-flash的目的在于去除Molding后在管体周围Lead之间 多余的溢料;方法:弱酸浸泡,高压水冲洗;,切筋,切筋的目的:切筋是指利用机械模具将脚间金属连接杆切除。,Plating(电镀),Before Plating,

11、After Plating,利用金属和化学的方法,在Leadframe的表面 镀上一层镀层,以防止外界环境的影响(潮湿 和热)。并且使元器件在PCB板上容易焊接及 提高导电性。,电镀一般有两种类型:Pb-Free:无铅电镀,采用的是99.95%的高纯 度的锡(Tin),为目前普遍采用的技术,符合 Rohs的要求;Tin-Lead:铅锡合金。Tin占85%,Lead占 15%,由于不符合Rohs,目前基本被淘汰;,Form(成型),Cutting Tool&Forming Punch,Cutting Die,Stripper Pad,Forming Die,1,2,3,4,Form(成型),Thanks!,

展开阅读全文
相关资源
猜你喜欢
相关搜索

当前位置:首页 > 建筑/施工/环境 > 项目建议


备案号:宁ICP备20000045号-2

经营许可证:宁B2-20210002

宁公网安备 64010402000987号