模块三 场效应管及放大电路.ppt

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1、1,场效应管及应用电路,2,场效应管是利用电场效应来控制电流大小,与双极型晶体管不同,它是只有一种载流子(多子)导电,输入阻抗高,温度稳定性好、噪声低。,结型场效应管JFET,绝缘栅型场效应管MOS,场效应管有两种:,引言:,3,N沟道,P沟道,增强型,耗尽型,N沟道,P沟道,N沟道,P沟道,(耗尽型),场效应管分类:,4,结型场效应管,结构,工作原理,输出特性,转移特性,主要参数,JFET的结构和工作原理,JFET的特性曲线及参数,5,JFET的结构和工作原理,1.结构,6,N沟道结型场效应管,7,S源极,P沟道结型场效应管,8,二、工作原理(以N沟道为例),9,10,N,G,S,D,UDS

2、,UGS=0,UGS=0且UDS0时耗尽区的形状,越靠近漏端,PN结反压越大,ID,2、VGS=0,D、S加正电压:,11,12,13,14,15,三、特性曲线,转移特性曲线一定UDS下的ID-UGS曲线,16,输出特性曲线,UDS,0,ID,IDSS,VP,饱和漏极电流,夹断电压,某一VGS下,17,UGS=0V,恒流区,输出特性曲线,18,工作原理,VGS对沟道的控制作用,当VGS0时,(以N沟道JFET为例),当沟道夹断时,对应的栅源电压VGS称为夹断电压VP(或VGS(off))。,对于N沟道的JFET,VP 0。,PN结反偏,耗尽层加厚,沟道变窄。,VGS继续减小,沟道继续变窄,19

3、,工作原理,VDS对沟道的控制作用,当VGS=0时,,VDS,ID,G、D间PN结的反向电压增加,使靠近漏极处的耗尽层加宽,沟道变窄,从上至下呈楔形分布。,当VDS增加到使VGD=VP 时,在紧靠漏极处出现预夹断。,此时VDS,夹断区延长,沟道电阻,ID基本不变,20,工作原理,VGS和VDS同时作用时,当VP VGS0,,导电沟道更容易夹断,对于同样的VDS,ID的值比VGS=0时的值要小。,在预夹断处,VGD=VGS-VDS=VP,21,综上分析可知,沟道中只有一种类型的多数载流子参与导电,所以场效应管也称为单极型三极管。,JFET是电压控制电流器件,iD受vGS控制,预夹断前iD与vDS

4、呈近似线性关系;预夹断后,iD趋于饱和。,JFET栅极与沟道间的PN结是反向偏置的,因 此iG0,输入电阻很高。,22,JFET的特性曲线及参数,VP,1.输出特性,输出特性曲线用来描述vGS取一定值时,电流iD和电压vDS间的关系,它反映了漏极电压vDS对iD的影响。即,可变电阻区:栅源电压越负,漏源间的等效电阻越大,输出特性越倾斜。,线性放大区:饱和区,恒流区,FET用作放大电路的工作区。,击穿区:栅源间的PN结发生雪崩击穿,管子不能正常工作。,23,?JFET有正常放大作用时,沟道处于什么状态?,JFET的特性曲线及参数,2.转移特性,VP,在一定的vDS下,vGS对iD的控制特性。,实

5、验表明,在VPVGS0范围内,即饱和区内,有:,vDS=10V,24,夹断电压VP(或VGS(off):,饱和漏极电流IDSS:,低频跨导gm:,或,漏极电流约为零时的VGS值。,在vDS=常数时,iD的微变量和vGS的微变量之比。,输出电阻rd:,在vGS=0的情况下,当vDS|VP|时的漏极电流。IDSS是JFET所能输出的最大电流。,反映了vDS对iD的影响。,互导反映了栅源电压对漏极电流的控制能力。,25,直流输入电阻RGS:,在漏源之间短路的条件下,栅源之间加一定电压时的栅源直流电阻就是直流输入电阻RGS。,最大漏极功耗PDM,最大漏源电压V(BR)DS,最大栅源电压V(BR)GS,

6、发生雪崩击穿、iD开始急剧上升时的vDS值。,指输入PN结反向电流开始急剧增加时的vGS值。,JFET的耗散功率等于vDS与iD的乘积。PDM受管子最高工作温度的限制。,26,结型场效应管的缺点:,1.栅源极间的电阻虽然可达107以上,但在某些场合仍嫌不够高。,3.栅源极间的PN结加正向电压时,将出现较大的栅极电流。,绝缘栅场效应管可以很好地解决这些问题。,2.在高温下,PN结的反向电流增大,栅源极间的电阻会显著下降。,27,金属氧化物半导体(MOS)场效应管,MOSFET简称MOS管,它有N沟道和P沟道之分,其中每一类又可分为增强型和耗尽型两种。,耗尽型:当vGS0时,存在导电沟道,iD0。

7、增强型:当vGS0时,没有导电沟道,iD0。,28,N沟道增强型MOSFET,1结构,P型基底,两个N区,SiO2绝缘层,导电沟道,金属铝,N沟道增强型,29,N 沟道耗尽型,予埋了导电沟道,30,P 沟道增强型,31,P 沟道耗尽型,予埋了导电沟道,32,2工作原理,JFET是利用PN结反向电压对耗尽层厚度的控制,来改变导电沟道的宽窄,从而控制漏极电流的大小。而MOSFET则是利用栅源电压的大小,来改变半导体表面感生电荷的多少,从而控制漏极电流的大小。,33,2工作原理,(以N 沟道增强型为例),VGS=0时,对应截止区,34,VGS0时,感应出电子,VT称为开启电压,35,VGS较小时,导

8、电沟道相当于电阻将D-S连接起来,VGS越大此电阻越小。,36,当VDS不太大时,导电沟道在两个N区间是均匀的。,当VDS较大时,靠近D区的导电沟道变窄。,37,VDS增加,VGD=VT 时,靠近D端的沟道被夹断,称为予夹断。,38,输出特性曲线,3特性曲线(增强型N沟道MOS管),39,转移特性曲线,3特性曲线(增强型N沟道MOS管),在恒流区(线性放大区,即VGSVT时有:,ID0是vGS=2VT时的iD值。,40,N沟道耗尽型MOSFET,耗尽型的MOS管UGS=0时就有导电沟道,加反向电压才能夹断。,转移特性曲线,41,输出特性曲线,UGS=0,UGS0,UGS0,42,场效应管放大电

9、路,直流偏置电路,静态工作点,FET小信号模型,动态指标分析,三种基本放大电路的性能比较,FET的直流偏置及静态分析,FET放大电路的小信号模型分析法,43,场效应管的基本电路,(1)静态:适当的静态工作点,使场效应管工作在恒流区,场效应管的偏置电路相对简单。,(2)动态:能为交流信号提供通路。,组成原则:,分析方法:,场效应管的直流偏置电路和静态工作点,44,场效应管的微变等效电路,跨导,漏极输出电阻,45,场效应管的微变等效电路为:,46,Q点:,VGS、,ID、,VDS,vGS=,VDS=,已知VP,由,VDD,-ID(Rd+R),-iDR,可解出Q点的VGS、ID、VDS,47,场效应

10、管的分压式自偏压放大电路,一、静态分析,求:UDS和 ID。,设:UGUGS,则:UGUS,而:IG=0,所以:,48,二、动态分析,49,ro=RD=10k,50,源极输出器,一、静态分析,USUG,UDS=UDD-US=20-5=15V,51,二、动态分析,52,输入电阻 ri,53,输出电阻 ro,加压求流法,54,3.三种基本放大电路的性能比较,组态对应关系:,CE,BJT,FET,CS,CC,CD,CB,CG,BJT,FET,CE:,CC:,CB:,CS:,CD:,CG:,55,3.三种基本放大电路的性能比较,CE:,CC:,CB:,CS:,CD:,CG:,CE:,CC:,CB:,CS:,CD:,CG:,56,场效应管放大电路小结,(1)场效应管放大器输入电阻很大。(2)场效应管共源极放大器(漏极输出)输入输出反相,电压放大倍数大于1;输出电阻=RD。(3)场效应管源极跟随器输入输出同相,电压放大倍数小于1且约等于1;输出电阻小。,

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