《集成电路常用器件版图.ppt》由会员分享，可在线阅读，更多相关《集成电路常用器件版图.ppt（51页珍藏版）》请在三一办公上搜索。
1、集成电路版图设计与验证,第六章 集成电路常用器件版图,5.1 MOS器件常见版图画法,1、大尺寸MOS版图布局大宽长比的晶体管：获得大的驱动能力。单管布局：栅很长，寄生电阻增加，导致晶体管各个位置的导通不同步。指状交叉（finger）方式,将与非门设计成指状构造示例,5.1 MOS器件常见版图画法,2、倒比管版图布局管子的宽长比小于1利用倒比管沟道较长，电阻较大的特点，可以起到上拉电阻的作用。应用：开机清零电路。,5.1 MOS器件常见版图画法,3、MOS器件的对称性对称意味着匹配，是模拟集成电路版图布局重要技巧之一。包括器件对称、布局连线对称等。（1）匹配器件相互靠近放置：减小工艺过程对器件
2、的差异。（2）匹配器件同方向性：不同方向的MOS管在同一应力下载流子迁移率不同。,5.1 MOS器件常见版图画法,（3）匹配器件与周围环境一致：虚设器件，避免刻蚀程度的不同。,5.1 MOS器件常见版图画法,（4）匹配器件使用同一单元：根器件法对于不同比例尺寸的MOS管，尽量使用同一单元进行复制组合，这样，加工的适配几率就会减小。,5.1 MOS器件常见版图画法,（5）匹配器件共中心性：又称为四方交叉在运算放大器的输入差分对中，两管的宽长比都比较大。采用四方交叉的布局方法，使两个管子在X轴上产生的工艺梯度影响和Y轴上的工艺梯度影响都会相互抵消。将M1和M2分别分成两个宽度为原来宽度一半的MOS
3、管，沿对角线放置后并联。,5.1 MOS器件常见版图画法,5.2 电阻常见版图画法,无源电阻：采用对半导体进行掺杂的方式制作的电阻。（本次课只介绍无源电阻）有源电阻：利用晶体管的不同工作区表现出来的不同电阻特性来做电阻。1、电阻的分类掺杂半导体电阻：扩散电阻和例子注入电阻薄膜电阻：多晶硅薄膜电阻和合金薄膜电阻,5.2 电阻常见版图画法,（1）离子注入电阻采用离子注入方式对半导体掺杂而得到的电阻。可以精确控制掺杂浓度和深度，阻值容易控制且精度很高。分为P+型和N+型电阻。（2）多晶硅薄膜电阻掺杂多晶硅薄膜电阻的放开电阻较大，是集成电路中最常用到的一种电阻。,5.2 电阻常见版图画法,2、电阻的版
4、图设计（1）简单的电阻版图电阻的阻值电阻的阻值=电阻的方块数方块电阻。这种阻值计算比较粗糙，没有计入接触孔电阻和头区电阻。,5.2 电阻常见版图画法,（2）高阻值第精度电阻版图对上拉电阻和下拉电阻：对电阻阻值以及匹配要求不是太高，只需要高阻值。狗骨型或折弯型图7.11,5.2 电阻常见版图画法,（3）高精度电阻版图设计方法之一：虚设器件对电阻精度及匹配要求较高的电路：基准电路；运算放大器的无源负载。首选多晶硅电阻。虚设器件（Dummy Device）,5.2 电阻常见版图画法,在需要匹配的器件两侧或周围增加虚设器件，防止边上的器件被过多的可是，引起不匹配。对于既有精度要求，又有匹配要求的电阻，
5、可以将这两个电阻交互排列放置。图7.16,5.2 电阻常见版图画法,（3）高精度电阻版图设计方法之二：电阻单元的复用与MOS管类似，电阻也最好使用某一单元进行利用，通常选取一段宽度长度合适，受工艺影响、温度影响总体性能较优的一段电阻作为通用电阻，然后通过串联、并联，获得其他阻值的电阻。图7.17,5.2 电阻常见版图画法,5.2 电阻常见版图画法,5.2 电阻常见版图画法,5.2 电阻常见版图画法,对于无法使用串、并联关系来构建的电阻，可以在单元电阻内部取部分进行构建。图7.18的实现方式。,电阻匹配设计总结,（1）采用同一材料来制作匹配电阻（2）匹配电阻的宽度要相同，且要足够宽。（3）匹配的
6、电阻要紧密靠近（4）在匹配电阻阵列的两端要放置Dummy电阻。（5）不要使用较短的电阻区块，一般的方块数为5个，高精度多晶硅电阻总长度至少为50微米。,5.3 电容版图设计,集成电路中的电容存在很多，有专门设计的电容，也有寄生电容。如相邻两层金属重叠会形成电容MOS管的栅和沟道之间会形成电容1、电容的分类MOS管电容、多晶硅-N阱电容、精度较高的多晶硅-多晶硅电容（PIP）以及金属-金属电容（MIM）,5.3 电容版图设计,（1）MOS电容通常在滤波电路中使用，精度不高，误差可达20%左右。将MOS管的源和漏接在一起，作为一个极板，栅作为一个极板。MOS管工作在积累区。栅氧化层较薄，因此电容较
7、大。,5.3 电容版图设计,（2）阱电容多晶硅和阱之间形成电容下极板与衬底之间存在寄生电容，精度不高。（3）PIP电容多晶硅-二氧化硅-多晶硅结构可以通过控制氧化层的质量和厚度，精确控制电容值。做在场氧区，电容值较小。,5.3 电容版图设计,（4）MIM电容金属层之间距离较大，因此电容较小。减小电容面积、提高电容值：叠层金属电容器，即将多层金属平板垂直的堆叠在一起，将奇数层和偶数层金属分别连在一起，形成两个梳状结构的交叉。图7.21PIP和MIM电容由于下极板与衬底距离较远，寄生电容较小，精度较好。,5.3 电容版图设计,2、电容版图设计一般电路对电容精度要求不高，因此通常电容是最后设计的。图
8、7.22，“比例电容版图”：两个电容进行匹配。将较小的电容放置中心位置，以保证周围环境一致性。,5.4 二极管版图,集成电路中普遍存在二极管。psub-nwell二极管：P型衬底和N阱之间存在二极管。为了保证所有的二极管反偏，需要将衬底接低电位，N阱接高电位。Sp-nwell二极管：N阱和N阱中的P+扩散区形成的二极管。,5.4 二极管版图,利用二极管的反向击穿效应，可以用来做芯片的ESD（Elctro-Static Discharge，静电释放）保护。二极管的反向击穿电压一般在68V，因此当使用ESD时，下一级的最大电压也被嵌位在反向击穿电压。图7.26：梳状二极管。用作ESD的二极管的面积
9、较大，且画成环形结构。,5.5 保护环版图,保护环（guard ring）是有N+型的接触孔或P+型的接触孔转成环状，将所包围的器件与环外的器件隔离开来，所以叫做保护环。保护环的作用：隔离噪声，保护敏感电路不受外界干扰；防止闩锁效应。,5.5 保护环版图,1、隔离噪声模拟电路的噪声一般来自衬底，噪声源会对敏感电路造成影响。图7.27：通过P+接触孔吸收来自衬底的噪声。,5.5 保护环版图,2、防止闩锁效应闩锁效应是由CMOS工艺中的计生效应引起的，对电路可靠性非常重要，一旦发生闩锁，不仅电路无法正常工作，还会因大电流引起芯片过热，造成物理破坏。图7.29：寄生效应电路。图7.30：多数载流子保
10、护环，吸收外来的多数载流子，避免寄生三极管的发射极被正偏。,5.6 焊盘版图,焊盘（pad）集成电路与外接环境之间的接口。除了压焊块之外，焊盘还具有输入保护、内外隔离、对外驱动等接口功能。通常由最上层两层金属重叠而成。图7.31，7.32,I/0 PAD 输入输出单元（补充）,承担输入、输出信号接口的I/O单元就不仅仅是压焊块，而是具有一定功能的功能块。这些功能块担负着对外的驱动，内外的隔离、输入保护或其他接口功能。这些单元的一个共同之处是都有压焊块，用于连接芯片与封装管座。为防止在后道划片工艺中损伤芯片，通常要求I/O PAD的外边界距划片位置100m左右。,I/0 PAD 输入输出单元（补
11、充）,任何一种设计技术的版图结构都需要焊盘输入/输出单元（I/OPAD）。不论门阵列、标准单元结构还是积木块结构，它们的I/OPAD都是以标准单元的结构形式出现，这些I/O PAD通常具有等高不等宽的外部形状，各单元的电源、地线的宽度和相对位置是统一的。,输入单元,输入单元主要承担对内部电路的保护，一般认为外部信号的驱动能力足够大，输入单元不必具备再驱动功能。因此，输入单元的结构主要是输入保护电路。,输入单元版图,双二极管、电阻电路,单二极管、电阻电路,输入单元,从版图可以看到，这样的一个简单电路，其版图形式比我们在前面看到的门阵列版图复杂了许多。这样的版图设计不仅仅是考虑了电路所要完成的功能
12、，而且充分地考虑了接口电路将面对的复杂的外部情况，考虑了在器件物理结构中所包含的寄生效应。希望通过这样的输入电路，使集成电路内部得到一个稳定、有效的信号，阻止外部干扰信号进入内部逻辑。,输出单元,输出单元的主要任务是提供一定的驱动能力，防止内部逻辑过负荷而损坏。另一方面，输出单元还承担了一定的逻辑功能，单元具有一定的可操作性。与输入电路相比，输出单元的电路形式比较多。,（1）反相输出 I/OPAD,顾名思义，反相输出就是内部信号经反相后输出。这个反相器除了完成反相的功能外，另一个主要作用是提供一定的驱动能力。,（1）反相输出 I/OPAD,为防止触发CMOS 结构的寄生可控硅效应烧毁电路，该版
13、图采用了P+隔离环结构，并在隔离环中设计了良好的电源、地接触。因为MOS 管的宽长比比较大，版图采用了多栅并联结构，源漏区的金属引线设计成叉指状结构，电路中的NMOS 管和PMOS 管实际是由多管并联构成，采用了共用源区和共用漏区结构。,（1）反相输出 I/OPAD,考虑到电子迁移率比空穴约大2.5 倍，所以，PMOS 管的尺寸比NMOS 管大，这样可使倒相器的输出波形对称。下图是将金属铝引线去除后的版图形式，通过这个图可以清楚的看到器件的并联结构和重掺杂隔离环的结构。,（1）反相输出 I/OPAD,5.7 电源和地线版图,图7.33：电源和地线布局。内部电路完全设计完毕后，最后开始布焊盘的电
14、源和地线。VDD和VSS处于对角线位置，最外一圈是VSS线，较里一圈是VDD线，输入输出PAD位于它们之间。,5.8 连线,多晶硅：电阻率较大，可以作为数字电路门内部连线，或者在小模块内作为近距离连线。金属AL：既可以在小模块内部使用，也可以作为模块间的连线。1、金属线的宽度：要考虑工艺允许的最大电流密度，防止流过金属的电流过大。合并单元后，金属线加宽，可以使用多层金属重叠。,5.8 连线,2、金属布线为防止寄生效应，相邻两层金属应交叉布线。金属折线一般不要走小于900的折线。建议取1350的折线。3、片内电源和地线将所有的PMOS管放在一起，共用电源线；所有的NMOS管放在一起，共用地线。,
15、5.8 连线,相邻两行的数字电路共用一个电源或地线，这样电源和地线就形成了叉指布线的方式。图7.35,5.9 静电保护,多数CMOS集成电路的输入端是直接接到栅上。而悬浮的输入端很容易受到较高感应电位的影响。人体的静电模型可以简化成对地的100 PF电容串联一个1.5 k的电阻，在干燥气氛下 可能在100 PF上感应出较高的静电电位，由于存储的能量与电位的平方成正比，所以存储在人体等效电容中的能量很大，约0.2毫焦耳。较高的静电电位和较高的能量会引起CMOS电路的静电失效。,ESD（Electrostatic discharge）,静电放电(ESD)引起的失效的原因主要有两种：一种是电流过大而
16、引起的热失效；一种是由于过大的电压直接引起栅氧化层的击穿，或者说是电失效。热失效是由于局部电流集中而形成较大的热量，使器件局部金属互连线熔化或芯片出现热斑。从而引起二次击穿。电失效是由于保护不当使较大的电压直接加到脆弱的薄氧化层上，引起介质击穿或表面击穿。,ESD（Electrostatic discharge）,ESD在半导体器件中已经成为主要的可靠性问题，在小尺寸CMOS工艺中更是如此。在深亚微米CMOS工艺中，由于薄栅氧化层的击穿电压较低，必须加入有效的在片ESD保护电路以箝位加到内部电路栅氧上的过冲电压。为防止器件被击穿，必须为这些电荷提供“泄放通路”,这就是输入保护电路。,知识回顾Knowledge Review,谢 谢！,放映结束 感谢各位的批评指导！,让我们共同进步,
