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1、製程服務注意事項說明,晶片實作組2006/05/22,(含製程申請、晶片製作),講義內容更新說明,講義內容更新說明(P.1-2)重要公告(P.1-7,1-12,1-12-18)95年度製程服務相關重大變革說明(P.1-13)製程公告、規定(P.1-16 1.18)晶片製作申請(P.1-19 1-24)常見不受理申請原因(P.1-31)儀器設備使用申請(P.1-33)注意事項(P.1-34 1-39)Stream out 檔案上傳方式(P.1-40 1.48)審查會後資料修改&其他應注意事項(P.1-49 1.52),Outline,會中除了頒獎、展示國內學術界透過CIC製作晶片之研究成果、邀請
2、廠商(Agilent)發表演講外，將同時舉辦一場製程服務說明。藉此機會說明目前CIC於製程資料申請、晶片下線服務之相關措施與注意事項。因本場次說明內容亦包含製程資料控管部分，故將視為舉辦製程資料控管說明會。所以歡迎各位踴躍報名參加。如您是教授尚未申請T13製程(含T13RF、T13L)未來預計申請，或您是學生，之前不曾參加過製程資料控管說明會，未來預計下線T13製程，或您對CIC提供之製程服務相關措施有興趣，均歡迎您踴躍報名。欲瞭解2006晶片製作成果發表會相關訊息，或報名，請上網：http:/,公告:2006晶片製作成果發表會,時間：2006/05/04(四)AM 09：30 15：00地點
3、：奈米電子研究大樓二樓國際會議廳 新竹市科學園區展業一路26號,D35製程Dummy Pattern Cell使用說明(03/27/2006新增),適用製程:TSMC 0.35UM MIXED SIGNAL 2P4M POLYCIDE 3.3V/5V PROCESSCIC從D35-95C梯次開始要求申請者於佈局中加入Dummy Pattern，以滿足晶圓廠所要求的Poly/Metal Density，為了讓申請者在整個設計的流程更順利，CIC提供一個Dummy Pattern Cell 給申請者使用，讓申請者在佈局完成後能盡快的將Density補足。請至CIC首頁-製程服務-技術資料(輸入帳號
4、密碼登入)-技術資料，下載dummy pattern cell，-技術文件，下載dummy pattern使用說明文件，File name:T035MMDP001_V_1.pdf如有任何疑問,請與鄧宗維先生聯絡Tel:(03)5773693#229Email:,TSMC 0.13UM dummy metal generator(03/28/2006),更新T013LODR001C3_2_1A.tar.gz(TSMC 0.13UM DUMMY METAL(CALIBRE)GENERATION UTILITY)說明：修正CBM與M7、M8之距離過近以及無法產生對應Dummy Metal 之問題。適
5、用製程：T013RF如有任何問題歡迎與張文旭先生聯絡E-Mail：TEL：(03)5773693 ext.176,製程資料申請採用一年一簽，原本94年度申請使用期限至95年1月31日止，故請各位製程資料申請人，務必自即日起至本中心網頁 登入點選“製程申請”因95年起申請T13製程(含T13L、T13RF)，被授權人員(如學生)必須參與製程資料控管說明會，方可授權使用製程資料與各類晶片製作申請(下線申請)，因此請欲申請T13製程之申請者(老師)務必要求被授權人員(如學生)參加”製程資料控管說明會”。否則將影響未來下線權益。製程資料控管說明會(94年度)舉辦日期如下：注意：欲申請T13L-95A/
6、T13RF-95A 晶片製作的被授權人員(如學生)，強烈建議參與第一場說明會，以利後續審核，避免影響下線權益。如未寄回95年度的製程資料保密同意書，本中心自95年2月1日起將無法繼續提供製程資料，亦無法提供晶片製作(下線申請)的申請服務。若有任何製程申請相關問題，歡迎隨時與 03-5773693*205晶片組 簡小姐 聯絡!,重要公告:95年度製程申請換約開始,TSMC 0.18um製程下線注意事項,DRC ERROR:1.CIC驗証結果以版本為標準檢查平臺，若有Calibre檢查之後察覺錯誤，實質上並不違反Design Rule檔所列規則，且Layout上無法修整至Error Free，請聯
7、絡CIC相關制程負責工程師。如遇到不明或上列未列之DRC Error請與工程師討論，請勿自行合理化!2.自T18_95A梯次起，Metal Density錯誤已不可略,學生以Hierarchical的方式並無法檢查出佈局中的錯誤!一般驗証時可以Hierarchical進行驗証，由於CIC只接受Flat方式的驗証結果，故繳交佈局檔時請以Flat方式進行最後驗証!,-SUMMARY-TOTAL CPU Time:273TOTAL REAL Time:553TOTAL Original Layer Geometries:311604(1927292)TOTAL DRC RuleChecks Exec
8、uted:323TOTAL DRC Results Generated:7(7)Hierarchical,-SUMMARY-TOTAL CPU Time:303TOTAL REAL Time:610TOTAL Original Layer Geometries:2039091TOTAL DRC RuleChecks Executed:323TOTAL DRC Results Generated:13Flat,因CIC調整明年(95年)度提供之製程，UMC 0.18um Mixed Signal/RF CMOS 1.8V/3.3V Process(簡稱U18)下線服務將至95年5月份為止，未來將
9、不再提供此製程之資料申請與下線相關服務。為減緩製程轉換衝擊與協助相關設計結案，預計95年5月份前仍保有兩梯次下線，確實下線時程以95年度晶片製作時程表為準(預計於94年10月份公告)。由於 UMC Mixed Signal/RF CMOS 1.8V/3.3V process與 TSMC 0.18um CMOS Mixed Signal/RF General Purpose MiM Al 1P6M 1.8V/3.3V process(簡稱T18)特性差異不大，T18相關設計環境也完整，亦提供Artisan Cell Library，因此建議U18使用者未來可轉換製程至T18製作。對於數位高速電路
10、之設計者，亦可參考使用TSMC 0.13um CMOS Mixed Signal General Purpose MiM Cu FSG 1P8M 1.2V/2.5V process。如有問題，請與下面人員聯絡：U18技術相關，請與陳益誠先生 03-5773693ext.201聯絡 T18技術相關，請與簡廷旭先生 03-5773693ext.202聯絡 T18Cell Library，請與王朝琴先生03-5773693ext.193聯絡 U18Cell Library，請與林俊賓先生03-5773693ext.163聯絡,重要公告:95年度U18製程調整與異動說明,T13L&T13RF製程差異說
11、明,CIC所提供之T13L並非一般Pure Logic，而是指應用於Mixed-Signal的Process。T13L相容於一般Pure Logic製程，且金屬厚度完全相同，並且提供MIM電容。CIC所提供之T13L的標準操作電壓為1.2V/3.3V，T13RF則是1.2V/2.5VT13RF的Top Metal厚度為3.3um，T13L僅0.9um，因此兩者在Design Rule方面將有所差異。T13RF不提供replace，因此無法適用CIC提供之Cell-Base Flow，使用Cell-Base Flow 請改用T13L。T13RF建議用於不需replace之電路，且操作電壓1.2V
12、/2.5V之RF Circuit，Analog Circuit，Mixed-Signal，Logic Circuit。T13L建議用於操作電壓1.2V/3.3V之Analog Circuit，Mixed-Signal，Logic Circuit。,T13L&T13RF製程比較表,95年度製程服務相關重大變革說明,UMC 0.18 UM 1P6M MMC/RFCMOS 1.8V/3.3V 製程將提供至95年上半年止，下半年起將停止製程資料申請、晶片製作相關服務。95年起，開始提供TSMC 0.13 UM CMOS Mixed Signal MS General Purpose Standard
13、Process FSG Cu 1P8M 1.2&3.3V 製程，(簡稱T13L)。其餘各製程維持不變所有製程之晶片製作時程，以CIC公告之晶片製作時程表(95)為準。,重要公告:申請書內容異動與審查會投影片規範,CIC為使書面審與審查會報告更具公平性，決議前瞻性、測試元件之晶片製作申請表內個人資料將不再提供審查委員參考，未來不論書面審或審查會議所提供委員審查之報告，將刪除申請書封面(申請表)，僅保留申請書內容。但學生仍須填寫繳交申請表(CIC統計資料用)因刪除申請書封面緣故，前瞻性、測試元件申請書電子檔內容有作異動，在設計內容部分加入1專題名稱 2最近三次下線紀錄等項目，詳細請參考P9,P12
14、說明或參考:CIC網頁製程服務下線導引(3)各類晶片製作申請須知與說明 前瞻性晶片製作申請須知與說明(94年度)測試元件晶片製作申請須知與說明(94年度)前瞻性晶片製作申請書電子檔範例，請參考：CIC網頁製程服務下線導引(5)各類晶片製作申請範例申請書電子檔範例(94前瞻性)學生於審查會報告時，不可於投影片(含logo)和審查報告過程中提及申請者相關之學校系所、指導教授、實驗室、身份等資料，若因違反規定造成負面審查結果，需自行負責!投影片格式，頁數不拘，以重點敘述為主。但內容必需包含範例所提及項目(範例均為審查委員經常詢問項目)，審查會投影片參考範例，請參考：CIC網頁製程服務下線導引(5)各
15、類晶片製作申請範例審查會報告投影片範例(94),重要公告:TSMC下線DRC注意事項(更新),由於先前有學生因違反design rule,而造成tsmc Fab廠人力負擔及時間延誤,所以tsmc嚴重警告,這些舉動不僅影響下線者本身,也有可能造成其他客戶及Fab廠損失,而未來如有類似情況,則tsmc有拒絕下線的權力,所以tsmc要求“design rule document is golden,everydesign has to follow design rule document”,所以晶片必需符合廠商提供的design rule才具有下線申請資格,並且麻煩各位配合下列事項:CIC目前均接
16、受Dracula&Calibre DRC report,但之前曾發生有因使用Dracula舊版次而產生DRC無法check到error的問題,所以至tsmc下線者若是採用Dracula做為DRC驗證tool者務必使用最新版次(IC5.0.33,Dracula 4.9.12-2003)或以上來run DRC以避免此問題。由於每一梯次之申請件數均甚為龐大,CIC限於人力因素目前僅用Calibre來驗證之並做為下線申請資格審核的依據。每次下線前請務必上CIC網站下載最新製程資料,並利用CIC release最新的command file作DRC,LVS checkDRC report必須沒有錯誤才具
17、有下線申請資格,若因有command file所造成的假錯,則必須至 http:/www2.cic.org.tw/shuttle/drc/確認是否為合理的假錯,並且將錯誤逐條解釋,並註明錯誤代號,若錯誤不為網址上所確認的合理假錯,則必須事先跟工程師確認。,重要公告,每梯次之截止時間一律訂為申請截止日當日下午五點整，逾時將關閉FTP，並不再接受檔案上傳，請注意網路壅塞情形，盡早上傳，以免因逾時及檔案上傳不完整而喪失下線資格。每次有佈局檔上傳，均需附上DRC,LVS驗證結果，並都務必記得上傳OK檔，並至下列網址:http:/www2.cic.org.tw/shuttle/chipworks/確認上
18、傳資料，CIC將依該網頁資料進行下線作業，不再另行通知，若對此有任何疑問，請在上傳日當天17:00前聯絡製程工程師,所有製程資料一律線上申請製程資料維持一年一簽所有製程依安全性等級區分為A、B、C三類(1)申請人資格(2)申請所需相關文件(3)核可後管理 將依製程安全性等級區分。所有製程申請者均需繳交製程資料保密同意書在職證明聲明被授權人員清冊或無複製製程資料聲明銷毀製程資料聲明所有申請人應於每年三月及十月自造製程資料管理報表提供CIC存查。否則停止其相關服務 無製程使用權者不能申請晶片製作 申請人有義務配合中心不定時派員至申請人存放製程資料處進行了解與關切使用的情形及其管理CIC送CI Le
19、tter(列有申請人姓名、服務單位及地址)至TSMC核准，始能啟動下載權限，所需時間約三週。固定於每月月初送上個月的申請名單。,95年度製程資料申請說明,95年度製程安全性等級說明,95年度製程資料申請相關文件/管理列表,註一：”被授權人員清冊”與”無複製製程資料聲明”請擇一繳交。如申請者如無授權製程資料給其他人員使用，僅需繳交”無複製製程資料聲明”。註二：”製程資料控管說明會”定期舉辦，舉辦時間請注意CIC網頁公告，或與簡珮君小姐 03-5773693 ext.205詢問。,95年度製程資料申請流程,上網勾選欲申請製程，並下載相關文件,依申請製程，備妥相關需繳交文件,CIC審核,具資格之申請
20、者,授權廠商審核(CI-letter),開啟製程資料下載權限,Yes,Yes,No,No,Yes,If need,加入會員申請者在申請晶片製作之前，教授/學生均須完成加入會員與製程資料申請及授權。加入會員網址：/系統登入(教授若欲更改基本資料,亦需由此登入方能修改),製程資料申請 申請網址:login.jsp業務承辦人:簡珮君小姐，Tel:03-5773693*205，Email:frankie。,前瞻性晶片製作申請,1.ftp 技術資料包括佈局檔、佈局驗證結果檔(DRC、LVS或Apollo驗證結果檔)與 Tapeout Review Form。佈局檔案上傳完後請上傳”OK”檔，以檢查上傳佈
21、局檔是否無誤，並至晶片上傳檢查系統網頁:“http:/www2.cic.org.tw/%7Eshuttle/chipworks/”以確認申請是否成功(若網頁上無其上傳資訊者,視同無申請)。註：使用Cell-Based Flow者，另附Fault Coverage log 檔。2.ftp 計畫書電子檔包括(1)前瞻性晶片製作申請表(95年度)(2)設計內容：1專題名稱 2最近三次下線紀錄3相關研究發展現況 4研究動機 5架構簡介 6設計流程 7模擬結果8預計規格列表 9測試考量10參考文獻(3)佈局驗證結果錯誤說明(無誤者仍需註明:驗證無誤)(4)佈局平面圖(5)打線圖(選擇不包裝的申請者，免送
22、。)(6)智慧財產權切結書(95年度)註：以上(1)至(6)項合成一個電子檔。3.限時掛號郵寄(以郵戳為憑)或親送申請資料包括(1)前瞻性晶片製作申請表(95年度)(2)智慧財產權切結書(95年度)註：以上(1)、(2)需要蓋系所章與指導教授簽名。,教育性晶片製作申請,1.ftp 技術資料。包括佈局檔、佈局驗證結果檔(DRC、LVS或Apollo驗證結果檔)與 Tapeout Review Form。佈局檔案上傳完後請上傳”OK”檔，以檢查上傳佈局檔是否無誤，並至晶片上傳檢查系統網頁:“http:/www2.cic.org.tw/%7Eshuttle/chipworks/”以確認申請是否成功(
23、若網頁上無其上傳資訊者,視同無申請)。2.ftp 計畫書電子檔。包括(1)教育性晶片製作申請表(95年度)1/2(2)教育性晶片製作申請表(95年度)2/2(3)設計內容：1原理及架構說明2設計流程3電路詳圖4模擬結果 5預計規格列表6測試考量。(4)佈局驗證結果錯誤說明(無誤者仍需註明:驗證無誤)(5)佈局平面圖(6)打線圖(選擇不包裝的申請者，免送。)(7)智慧財產權切結書(95年度)註：以上(1)至(7)項合成一個電子檔。3.限時掛號郵寄(以郵戳為憑)或親送申請資料。包括(1)教育性晶片製作申請表(95年度)1/2(2)教育性晶片製作申請表(95年度)2/2(3)成績計分點名單(4)智慧
24、財產權切結書(95年度)註：以上(1)、(2)、(3)、(4)需要蓋系所章與指導教授簽名。,修課學生名單範例,*底線標示部份即必要檢查項目,測試元件晶片製作申請1/2,1.ftp 技術資料 包括佈局檔、佈局驗證結果檔(DRC、LVS或Apollo驗證結果檔)與 Tapeout Review Form。佈局檔案上傳完後請上傳”OK”檔，以檢查上傳佈局檔是否無誤，並至晶片上傳檢查系統網頁:“http:/www2.cic.org.tw/%7Eshuttle/chipworks/”以確認申請是否成功(若網頁上無其上傳資訊者,視同無申請)。2.ftp 計畫書電子檔 包括(1)測試元件晶片製作申請表(95
25、年度)(2)設計內容：1專題名稱 2最近三次下線紀錄3相關研究發展現況 4研究動機及未來研應用範圍 5元件結構及其等效模型簡介 6設計流程 7模擬結果(或未來量測項目)8預計規格列表(或預計元件趨勢)9測試考量 10參考文獻。(3)佈局驗證結果錯誤說明(無誤者仍需註明:驗證無誤)(4)佈局平面圖(5)智慧財產權切結書(95年度)註：以上(1)至(5)項合成一個電子檔。3.限時掛號郵寄(以郵戳為憑)或親送申請資料 包括(1)測試元件晶片製作申請表(95年度)(2)智慧財產權切結書(95年度)註：以上(1)、(2)需要蓋系所章與指導教授簽名。,測試元件晶片製作申請-2/2,4.測試元件晶片製作之審
26、查方式：(1).TSMC 0.13除外的製程均由書面審查。(2).TSMC 0.13測試元件須參加審查會議。5.下線製作優先順序列於前瞻性之後(TSMC 0.13測試元件的下線製作優先順序比照前瞻性)，等同教育性晶片，但為了有更多的元件模型提供學生電路設計，如經委員判定該梯次有符合下線資格的晶片，則每梯次至少下一顆，每顆晶片面積限制如下：(1).CMOS製程(TSMC 0.13除外)：晶片之長寬不得超過(即小於等於)1.5mm X 1.5mm；(2).GCT HBT&WIN PHEMT 製程：一律以申請表格上可勾選之面積為限。面積必須不得超過(即小於等於)2 mm2 其他自訂大小之面積一概不予
27、受理。(3).TSMC 0.13 製程：晶片之長寬不得超過(即小於等於)1.5mm X 2mm,晶片製作申請相關業務承辦人,常見不受理申請原因,缺交測試報告，教授累計測試報告三篇未繳，學生任一篇測試報告未繳。逾時、逾期上傳檔案或送交申請書或檔案不完整。無驗證結果說明，layout 檔案不完整。教育性晶片課程名稱及授課教授與成績計分點名單不符，或參與學生姓名 與成績計分點名單不符。針對審查委員所提之建議或修改事項提出之修改內容傳回時間超出規定時限。針對審查委員所提之建議或修改事項提出之修改內容未傳回或傳回不完整。此梯次面積不足，依評審成績及指導教授之 Total credit 比較後，無法提供面
28、 積給予下線。設計案面積超過申請項目之限制大小。上傳電子檔無法打開。用錯 Technology File。DRC Error。,測試報告停止收書面報告,1.晶片系統設計中心晶片下線測試報告停止收取書面測試報告，晶片下線設計者需於測試報告繳交期限內傳送電子檔測試報告（Word格式）至：2.測試報告填寫表格請至CIC網頁晶片製作-申請表格下載-選擇前瞻性測試報告格式或教育性測試報告格式下載。(目前已更新為94年新版本,請勿再用舊版本)3.繳交報告者須自行備份寄送電子檔當日傳送資料或儲存傳送回條至少三個月，當作申覆依據。設計者請定期上CIC網查詢測試報告缺繳紀錄,若有紀錄錯誤,請儘早和測試報告收件人
29、員聯繫,提供證明,以免損失您下線權益.4.未來CIC年度論文集將以光碟燒錄方式寄送各校圖書館及國家圖書館留存。,儀器設備使用申請,儀器設備使用申請或技術諮詢欲借用打線機同學皆須上過訓練課程,每次課程開課時間約為收到晶片前一周詳細課程時間會公佈於e-news上.所有開課訊息也都會mail給所有老師竹科：張恆茹小姐，電話03-5773693-192，Email:,南區辦公室：鄭順安先生，電話06-5053041-109，繳交測試報告傳送電子檔測試報告（Word格式）至：即可，無須再郵寄測試報告書面資料。Testkey部分尚須繳交完整量測數據與元件等效模型 教育性/前瞻性晶片 竹科 張恆茹小姐（03
30、)5773693-192 Testkey-各製程相關負責人，例如：UMC 0.18um Mixed Signal(1P6M)CMOS 負責人 陳益誠先生TSMC 0.35um Mixed-Signal(2P4M)CMOS使用Cell-Based Flow 負責人許志賢,其他注意事項-1,TSMC 0.35um SiGe製程驗證軟體版本更新，請務必使用Calibre DRC,LVS,LPE之rule file 作驗證，下線者均需附Calibre之驗證結果。使用舊版本之DRACULADRC,LVS可能發 生無法預期錯誤，因此CIC將不再提供DRACULA commandfile。若在CIC RF
31、Testkey Library中已有資料，將不接受申請製作，查詢方式:CIC Web Site=製程服務=技術資料=測試元件智慧財產權切結書請填寫完整，專題名稱須與申請書上的專題名稱相符。每梯次申請下線請重新至CIC網頁下載申請表格，請勿再使用學長姐傳下來的舊表 格。教育性申請者請附表2/2之電子檔，以避免同一教師多項課程申請造成混淆。教育性申請之研究內容，請勿將佈局圖當做電路詳圖貼附，以免被認定研究內容缺漏 而列入不受理申請。請勿直接將TSMC 0.35um 2P4M製程當作TSMC 0.35um 1P4M的擴充版，而混用spice model以及 technology file。,其他注意
32、事項-2,提醒學校自費晶片製作申請者注意：若您有TSMC 0.18/0.35 SiGe製程及 UMC 0.18製程 擬晶片製作，請儘早提出申請。因此三製程為Foundry廠的shuttle製程，以方塊(block,5000 x5000 um2)數訂購，而 每梯次的方塊數有限，故申請者須於時程表申請截 止前三個月預約。如未能提前預約，則無法確認 Foundry 廠有方塊數可供下線。TSMC 0.18製程T18-95C(F)/95E(F)梯次以full wafer方式tape out，有較多面積提供申請者 使用，歡迎多加利用！新增學術界下線繳交佈局檔及注意事項，申請者下線前應注意此項訊息，相關內
33、容見網址：http:/www2.cic.org.tw/kangchu/layout/note.html請勿自行定義打線圖Pin腳位置編號,以免造成跨線,詳情請參考CIC網頁95年度晶片製 作之打線圖http:/www2.cic.org.tw/kangchu/layout/diagram.htmlUMC 0.18um Cell-Base製程，上傳目錄獨立為CBU18。原有TSMC 0.35um Cell-Base製程 目錄由COMPASS35更名為CBT35。目錄用途請參考:http:/www2.cic.org.tw/shuttle/chipworks/,其他注意事項-3,提醒 I/O Libr
34、ary、Cell-Based以及MEMS製程的使用者:若您有使用I/O Library或 Cell Library，請務必在晶片製作申請表上做正確的勾選2.I/O Library 所指的是晶片送至CIC後，由CIC做合成的I/O Library，並非同學自行設計、透過其他管道所取得的Cell Library或是裸PAD。3.Cell Library 所指的是晶片送至CIC後，由CIC做合成的Cell Library(使用Cell-Based Flow)，並非同學自行設計或是由其他管道所取得的Cell Library 4.MEMS製程指的是利用CIC提供的後製程（由RLS光罩定義）。若無利用CI
35、C提 供之後製程則不必勾選。5.請謹慎勾選,以免因勾選錯誤而造成晶片無法正常工作,其他注意事項-4,使用製程：(1)UMC 0.18um 1P6M CMOS(使用Cell-Based Design Kit(UMC/Artisan)(2)TSMC 0.18um 1P6M CMOS(3)TSMC 0.35um 2P4M Mixed-mode(使用Cell-Based Design Kit(TSMC/TSMC),使用TSMC I/O pad,使用CMOS MEMS(使用CIC的後製程),使用CMOS MEMS(後製程自行處理)(4)TSMC 0.35um 3P3M SiGe BiCMOS(5)GCT
36、 2.0um HBT:1mm x 1mm 1mm x 2mm 1.5mm x 1mm 1.5mm x 2mm 2mm x 1mm 2mm x 2mm 2.5mm x 1mm 2.5mm x 2mm 3mm x 1mm 3mm x 2mm(6)WIN 0.15um PHEMT:1mm x 1mm 1mm x 2mm 1.5mm x 1mm 1.5mm x 2mm 2mm x 1mm 2mm x 2mm 2.5mm x 1mm 2.5mm x 2mm 3mm x 1mm 3mm x 2mm,使用CIC所提供之cell-library者(I/O pad除外)，晶片申請案不論面積大小均要參加複審會。,
37、2.使用CIC所提供之cell-library者，必須要在晶片製作申請表 的使用製程項目做 正確之勾選，以利CIC做正確的處理(避免影響同學本身下線的權益)。,3.勾選項目如下,*使用CIC所提供之cell-library且需要CIC做replace者，請務必勾選 使用Cell-Based Design Kit。,*使用CIC所提供之I/O Pad(不含裸PAD)且需要CIC做replace者，請務必勾選 使用TSMC I/O pad。,其他注意事項-5,1.為正確分類所設計電路之屬性以方便委員審查並加速作業，新增設計電路 屬類別一項，請務必勾選否則將可能會因未註明清楚而導致給不同專長領 域的
38、委員來審查的結果。2.勾選項目如下:設計電路所屬類別:(1)Digital(2)Analog(3)RF(4)RF MEMS(5)Sensor MEMS3.前瞻性/教育性/測試元件晶片製作申請及審查流程係針對學校提出晶 製作申請時，為達到資源共享，作業整合，並配合下線廠商的時程，而分 數個階段進行審核及處理，作為晶片製作申請應遵循之規則。相關資料下 載網址：,其他注意事項-6,1.由於UMC 0.18um製作上考慮到density的問題,故會在每一層加上dummy metal,致使同學的設計成品無法顯現電路圖形,造成打線時方向腳位無法辨識,故請同學們在繳交打線圖時,請標示電路未rotate時的左
39、下角位置(範例如下),以使封裝廠能正確地找到實際腳位.2.其他製程使用cell lib.的同學亦請在打線圖左下角做標記,以確認晶片方向.,各位同學需使用+來標記打線圖中Die的左下角的位置,以確保包裝過程之正確性.,or,CIC FTP目錄結構,1P6M18,new,01,02,lock,1P5M25,ADV2P4M35,EDU2P4M35,CBT35,CBT25,檔案上傳流程（第一階段）,進入FTP站,進入製程目錄,進入new目錄,上傳一小檔案,離開FTP站立刻開始第二階段上傳,離開FTP站等待15分鐘再上站,失敗,成功,進入”new”目錄並上傳一小檔案取得上傳編號後請退出”new”目錄，勿
40、直接上傳所有申請資料(尤其是佔比較大空間的GDS檔)，以免因一直佔用此目錄而使其他申請者無法新增上傳目錄;若發現有此情事時請即刻通知CIC相關製程工程師，其將會剔除佔用者，以使”new”目錄淨空給其他申請者取得上傳編號用。,請注意:,進入FTP後有提示語提示各製程的目錄名稱，請不要將檔案上傳至錯誤的製程目錄。,檔案上傳第一階段申請FTP Number,ftp 輸入ftp指令，進入FTP對話環境（PC亦同）ftpopen 3000 開啟至，port 3000Name(.):layout 使用者名稱輸入layout password 請輸入申請者之email(請勿抄襲此範例)ftpcd 1P6M1
41、8 進入製程之目錄(在此用TSMC 0.18um製程為例)ftpcd new 進入”new”目錄以取得ftp編號*順利的話，你所在的目錄是1P6M18/new，同時你會拿到一個目錄編號(系統會顯示編號與E-Mail)*若此時無法順利進入，代表有其它申請者正在”new”目錄上傳檔案，請稍後再試。若有人卡死，正常狀況下，該君將在半小時內自動被系統踢掉ftpbin 設定上傳檔案格式為binaryftpput xxxx.drc 先將drc結果等小型檔案上傳ftpbye 離開命令列ftp軟體(或使用”cd.“指令)*請記得上傳一個檔案後再使用”bye”或”cd.”指令，以免系統誤判而沒有新增該編號的目錄
42、上傳第一階段已完成，務必將所得到的ftp no填入申請書中。離線後可以立即再度上傳剩餘檔案,檔案上傳流程（第二階段）,進入製程目錄,進入和取得編號同名的目錄,上傳所有檔案,上傳“ok”檔,進入FTP站,離開FTP站,傳送完”ok檔後”接著需進行晶片資料確認,檔案上傳第二階段,ftp 輸入FTP指令(再度連線)，進入FTP對話環境ftpopen 3000 開啟至，port 3000Name:layout 使用者名稱輸入layout password為申請者之email(須與第一階段所使用之email相同)ftpcd 1P6M18ftpcd 103 進入與取得編號同名目錄 現在，你所在的目錄是 1
43、P6M18/103ftpbinftpput*.gds 上傳除了“ok”檔外的所有檔案ftpput*.doc ftpput ok 最後上傳“ok”檔，一定要最後再上傳！“ok”檔的檔名為小寫的ok且沒有副檔名！ftpbye%上傳已經完成，接下來可以等待系統檢查結果(有上傳“ok”檔系統才會執行檢查)系統約510分鐘執行一次檢查，若1015分鐘後還沒有看到自己的晶片資訊，請來電詢問,晶片資料確認,打開瀏覽器鍵入網址 http:/www2.cic.org.tw/shuttle/chipworks/點選您所上傳製程目錄，如1P6M18,鍵入網址,選擇製程,錯誤原因與處理方法,晶片資料確認（續）,編號0
44、1號佈局檔資料列表,編號02號佈局檔資料列表,在網頁中尋找自己的編號，確認檔案名稱等資料正確性,注意：100號排在10號之後，110號排在11號之後。以此類推(網頁最底端為9開頭的號碼),檔案上傳注意事項,上傳前請確定檔案均無夾帶病毒上傳前注意檔案均為最後版本，申請書電子檔需整合為單一WORD檔案取得編號並上傳一個檔案後，請先退出“new”目錄，再“cd”至所取得之編 號資料夾內上傳檔案，以避免個人佔用“new”目錄過久，影響其他同學攫取 編號請記住自己的編號，避免檔案傳送至其他申請者之資料夾請於截止日前必須傳送完全部所需資料，逾時不予受理傳送完成後，請再次確認檔案大小是否相符，確保檔案完整性
45、 上傳檔案時，請務必先下“bin”指令，以免檔案損壞或無法讀取若檔案傳錯或更動需要更新檔案名稱再上傳，則須更改檔案名稱，檔案名稱更改範例：如檔案原名為pllgds則建議後續上傳名稱為pll_01.gds、pll_02.gds.；重新上 傳佈局檔，需再附上DRC,LVS驗證結果，並再上傳“ok”檔，並務必記得再度至網址 http:/www2.cic.org.tw/shuttle/chipworks/)確認上傳資料是否更新只要有上傳或更新檔案，都務必記得再度瀏覽網頁確認自己資料正確性，以免因資料不 正確而喪失下線資格。,自行閉鎖檔案上傳權限,如果已經確認自己的佈局檔一切正確而且所有檔案皆已傳送完畢
46、，可以自行 將目錄上傳權限閉鎖，避免閒雜人等置放佈局檔干擾結果，可以至製程目錄中的lock目錄上傳閉鎖用檔案，檔案名稱為自己目錄的編號。例如上傳目錄是 1P6M18/103，則製作一個檔名為 103 的檔案，內容第一行填入自己的E-Mail帳號作為辨認，並上傳至1P6M18/lock這個目錄中；解鎖則再上傳一次 103。為了避免閒雜人士干擾，檔案內容必須是你在取得FTP number時登入FTP時所使用的E-Mail，以資辨認(系統約五至十分鐘執行一次開鎖或閉鎖的動作)。例如登入CIC FTP取得FTP number時email輸入，檔案第一行就必須是。上傳截止後（上傳截止日當天17:00），
47、目錄將被CIC閉鎖，使用者亦無法自行開鎖。此時無法再上傳檔案，請再度瀏覽網頁確認自己資料正確。若先前資料正確，而在17:00後遭人竄改或因申請者未將目錄閉鎖而在截止前有其他人上傳到您的編號目錄內而造成資料錯誤，為了避免晶片製作錯誤，請一定要聯絡CIC，我們會依照檔案更新先後紀錄處理。若檢查系統網頁上顯示該編號申請案的佈局資料為”Error”沒有該編號之佈局檔資訊(未傳送”ok”檔)，代表該申請案未完成申請手續，將不受理該申請案。,審查會場次安排說明,近來隨著下線申請件數不斷地增加，CIC竹科辦公室現有場地數量已無法容納每一梯次所有的下線申請件數來安排委員審查。同時為了不超過每一場次審查委員之負
48、荷量，在考量到有些受邀之審查委員可能因交通往返不便和時程安排上面的困難而無法參加時恐造成審查會委員出席人數不足之虞而影響到審查會的品質，CIC將視實際情況需要得以安排至南科場次。茲說明如下:1.對於安排至CIC南科辦公室審查會場次者，原則上以南部學校(彰化(含)以南)為第一優先，之後依序為中部和北部學校.已安排至南科者若無特殊因素(註1.)，原則上不予安排至竹科的審查會。2.北部學校按申請時上傳檔案號碼之先後順序依序從竹科場次安排起，其餘視實際情況得安排至CIC南科辦公室之場次。註.1:有特殊因素者需於審查會場地公告前1天提出申請，並說明原因由CIC評估可能性後安排之，逾時不受理安排!,1.口
49、頭報告時間分配,每人20分鐘(包括審查委員問問題)(1)相關研究發展現況及研究動機.2 分鐘(2)架構簡介及電路設計.5 分鐘(3)模擬結果.3 分鐘(4)佈局驗証及包裝結果.2 分鐘(5)測試考量.2 分鐘(6)審查委員發問.6 分鐘 2.請同學提早30分鐘在現場等候，以隨時遞補不克前來 的同學,審查會注意事項,其他應注意事項,除了為電路間的相互比較，否則一份申請書只能包含一個電路。驗證結果說明(DRC,LVS)，需以條列方式敘述，說明錯誤原因，並附註所使 用之驗證檔案之版本。(如calibre DRC Ver.2.2P3)口頭報告資料以投影片為主，每一個會場均提供投影機。7F的大會議室、訓
50、 練教室A、B與C提供單槍投影設備，欲使用者請攜帶光碟片與USB隨身碟(建 議兩者皆準備)，並準備意外狀況使用之透明投影片(CIC並不提供列印投影片)若因CD-ROM無法讀取，需以USB隨身碟或投影片（無準備者需自行負責）勿攜帶筆記型電腦。口頭報告的申請者，應按時間表提早30分鐘到達會場，遲到者以棄權論，CIC不再額外安排審查時間。,審查會後資料修改,僅在審查會中得到委員同意者，方可進行資料修改。如資料需修改，需於期限 內完成，並以一次為限修改後之書面資料需附於申請書後，並整合為單一檔案；上傳時，請先來電告 之工程師其製程種類與編號。修改之書面資料Mail給所負責之工程師或傳真至CIC，內容請
