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1、SLIDE#1,Film Issues薄膜问题Doug Pelleymounter&Ken Nauman高级应用工程师,SLIDE#2,薄膜问题和其它系统的最优方案,用于反应溅射的闭环控制Lambda 探测仪残余气体分析仪（RGA）等离子体发射监控器(PEM)外部电压控制新的 Crystal 电压控制带有多倍射频供应的公共激励振荡器(CEX)和相移交流阳极下降气流均匀性薄膜应力和粘着力溅射速率SiO2二氧化硅结晶控制厚度AZO氧化锌铝 vs.ITO 氧化铟锡vs.CdSte每种陶瓷的成本(合金,联合溅射,等等.),SLIDE#3,薄膜问题提问与解答时间,SLIDE#4,SLIDE#4,订阅 A
2、E 的 Flat Panel FocusSM 电子新闻,订阅AE的 Flat Panel FocusSM、PV Sun TimesSM 和 Sputter SpotlightSM电子新闻，可以随时掌握当今制造业领域中最迫切的问题，订阅地址：如需谘询与FPD制造业有关的问题，请发送电子邮件到：如需谘询与光电（PV=Photovoltaics）制造业有关的问题，请发送电子邮件到：如需谘询与溅射应用有关的问题，请发送电子邮件到：,SLIDE#5,www.advanced-,NasdaqGM:AEIS,www.advanced-energy.co.kr,ENG-FilmIssues-150-039/24/2008,Specifications are subject to change without notice.Advanced Energy,Crystal,Flat Panel FocusSM,PV Sun TimesSM,and Sputter Spotlight are U.S.trademarks of Advanced Energy Industries,Inc.2008 Advanced Energy Industries,Inc.All Rights Reserved.,
