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1、晶体的分类,多晶单晶:整个固体中排列有序,晶胞(结晶学原胞):为反映对称性选取的最小重复单元的几倍 晶胞的边长称为晶格常数,原胞(固体物理学原胞):最小重复单元 每个原胞只有一个格点,晶向指数:晶面的法向指数密勒指数:在晶胞坐标轴上的截距的倒数的互质整数比,物质的波粒二相性,预备知识,习题1.面心立方结构的单晶体晶格常数是a=4.75A,求原子的体密度。2.已知硅材料的晶格常数a=5.43A,求单位体积原子个数。3.确定如图所示晶胞中的晶面的密勒指数。4.计算以1105m/s运动的自由电子的动量和德布罗意波长。,第一章 半导体中的电子状态,晶体结构与共价键,金刚石型结构,闪锌矿型结构,纤锌矿型
2、结构,氯化钠型结构,1.1节,1.能级与能带,电子在原子核势场和其他电子作用下分列在不同能级,相邻原子壳层形成交叠,原子相互接近 形成晶体,共有化运动,共有化运动:由于电子壳层的交叠,电子不再完全局限在某一个原子上,可以由一个原子转移到相邻的原子上去,因而,电子将可以在整个晶体中运动只有外层电子共有化运动最显著,1.2节,能级分裂,能带形成,满带或价带,导带,2.半导体中电子状态和能带,晶体中的电子,VS,自由电子,Difference?,严格周期性重复排列的原子间运动,恒定为零的势场中运动,单电子近似:晶体中的某一个电子是在周期性排列且固定不动的原子核的势场 以及其他大量电子的平均势场中运动
3、,这个势场也是周期变化的,并且它的周期与晶格周期相同。,E(k)与k的关系,简约布里渊区,E和k的关系,能 带,简约布里渊区,E和k的关系,能 带,0,k,0,k,电子能量,E(k)随晶体中周期性变化势场影响形式复杂,能量,k空间内环绕原点的一个有限区域,一般称为简约布里渊区,允带出现在以下几个区(布里渊区)第一:第二:第三:,整个k空间,标志区域,k只能取有限多个分立值,k可取任意的连续值,自由电子可以在整个空间内运动,波矢K,几率不相同,有周期性周期函数的周期与晶格周期相同,空间各处几率相同,波函数,共有化运动的电子,自由电子,3.导体、绝缘体和半导体的能带,(a)绝缘体(b)半导体(c)
4、导体,1.半导体中E(k)与k的关系,(能带极值附近),2.半导体中电子的平均速度,(能带极值附近),3.半导体中电子的加速度,(能带极值附近),4.空穴,正电荷q和正有效质量,1.31.4节,1.半导体中的电子运动,2.有效质量的意义:,f,a,1、概括了半导体内部势场的作用2、a是半导体内部势场和外电场作用的综合效果3、直接将外力与电子加速度联系起来,1.5节,回旋共振第一次直接测出有效质量,有效质量为,电子的回旋频率为,1.硅和锗的能带结构,1.61.8节,硅和锗的导带极值的确定位置:硅的导带极值位于方向的布里渊区中心到布里渊区边界的0.85倍处。锗的导带极值极小值位于方向的边界上,共有
5、八个。极值附近等能面为沿 方向旋转的八个旋转椭球,硅和锗的价带极值的确定位置:价带顶位于k=0,即在布里渊区的中心,硅、锗沿111和100方向上的能带结构图,2.砷化镓能带结构,极小值k=0处,等能面为球面=0.067m0,价带中心简并,砷化镓的能带结构,重空穴带V1,轻空穴带V2,自旋轨道耦合,(1)导带,(2)价带,禁带宽度随T而。Eg(0):T=0K时禁带宽度,3.禁带宽度,半导体的禁带宽度是随温度变化的。,T=0K时,EgSi=1.170eV,EgGe=0.7437eV,随着温度升高,,习题,P43习题1;P43习题2;,补充习题,补充习题,3.右图为能量曲线E(k)的形状,试回答:,
6、(1)在、三个带中,哪一个带的电子有效质量数值最小?,-/a,/a,P13图1-10(c),补充习题,(2)在考虑、两个带充满电子,而第个带全空的情况,如果少量电子进入第个带,在带中产生同样数目的空穴,那么带中的空穴有效质量同带中的电子有效质量相比,是一样、还是大或小?,对同一状态:,在带带顶附近:,在带带顶附近:,即:电子有效质量比空穴有效质量小,1、n 型半导体 施主杂质电离,施放电子到导带而产生导电电子并形成正电中心有EDEg2、p 型半导体 特征:受主杂质电离,接受电子成为负电中心并产生空穴在价带;有 EAEg,Impurity-doped Silicon,第二章半导体中杂质和缺陷能级,1.浅杂质能级,所处位置不同:替位式杂质、间隙式杂质,2.浅能级杂质电离能的计算,其中,3.杂质的补偿作用,当NDNA时,n=ND-NAND n型半导体当NAND时,p=NA-NDNA p型半导体,4.深能级杂质,非III、族杂质在硅锗的禁带中产生的施主能级距离导带底较远,产生的受主能级距离价带顶也较远。,5.缺陷与位错,点缺陷热缺陷位错线缺陷(刃位错),习题(作业),P48习题7(1),