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1、1,Full-custom设计系统环境,完整的Full-custom设计环境包含,设计资料库-Cadence Design Framework II,-电路编辑环境-Text editor/Schematic editor 电路仿真工具 Spice/ADS/Spectre 版图设计工具-Cadence virtuoso/(Ledit)版图验证工具 Diva/Assura/Calibre/dracula,系统环境 工作站与unix-based操作系统PC与windows操作系统（非主流）,2,与Cadence有关的几个重要文件.cshrc shell环境设定执行档.cdsinit Cadence
2、 环境设定档 cds.lib Cadence 环境资料库路径设定档 display.drf Cadence Layout editor 颜色图样设定档 Technology file 包含与工艺相关的参数,3,4,5,原理图编辑与仿真流程,1.建库2.建底层单元3.电路图输入4.设置电路元件属性5.Check&Save6.生成symbol,6,一、建立自己的library,cell和view Library自己将要设计的版图所要存放的库 Cell 设计的每一模块单元 View单元的格式，有 schematic,symbol,layout等,1.建库,7,在自己的目录下启动Cadence:icf
3、b&选择CIW中的菜单：File-New-Library 指定库名、路径和工艺文件 或直接利用前面已经建好的library:lab,8,9,10,11,12,13,14,新建一个库文件,2.创建基本单元,15,库名定义为mydesign1，然后连接到所需要的库中(gpdk),16,选择CIW中的File-New-Cell View 选择library name:输入cell name:inverter 选择Tool:Composer-schematic，这时View name自动变为:schematic 按OK进入schematic editor,17,新建一个cell，用来制作反相器,18,
4、19,3.电路图输入,20,利用Add-instance添加元件，添加一个pmos,21,修改长度为350nm，宽为1um,22,同样生成一个nmos，长350nm，宽500nm,23,4.定义元件属性,24,25,Wire连接,单击wire(narrow)按钮鼠标单击选中起始点；再点击鼠标选中第二点；双击画出终点；Wire(wide)的绘制方法与此相同，二者无本质区别。,26,添加wire name,点击wire name按钮 输入节点名 点击目标wire，放置 Wire name相当于给节点命名，同名节点被认为是一个电气节点。,27,基本编辑操作,复制/移动：点击工具栏复制/移动按钮或按“
5、c”/“m”；单击操作对象，该对象就会粘到鼠标指针上，如果想把几个对象作为一个整体一起移动，则要先选中所有操作对象；再次单击一下鼠标，放置对象。删除：点击delete按钮或按“d”，选中要删除的对象；,28,基本编辑操作,Undo：点击Undo按钮或按“u”；改变编辑模式：在按过功能按钮后系统会保持相应的编辑状态，因此可以连续操作。模式切换：按其它按钮退出当前模式：按Esc键。查看、更改属性：点击”Instance properties”按钮或按“q”,29,生成以后进行连线，添加IO口之后得到如下图,30,5.电路检查与保存,点击check&save按钮 错误内容：CIW窗口会显示错误说明。
6、常见的错误有：节点悬空、输出短路、输入开路,31,6.自动创建symbol,选择COMPOSER的菜单：Design-Create Cellview-From Cellview 弹出窗口中已自动设置好library:cellview，检查无误OK,32,自动创建symbol,设置PIN的名字和位置,33,修改symbol view,34,二版图编辑与验证,建新的design library：lab 点击File new library 弹出new library窗口 在name框键lab，右边选attach to an existing techfile 在弹出的窗口中选工艺库:chrt35r
7、f 在lab下建立一个cellview：inv:layout 点击File new cellview弹出create new file窗口 Library name:lab;cell name:inv;tool:选virtuoso,1.新建一个library/cell/view,35,进入XL进行编辑,36,37,在virtuoso中使用gen from source命令生成器件，IO口修改为第一层金属，然后apply,38,39,点OK之后出现下图,进行display设置,40,修改display levels 和 单元间距,然后就可以对器件进行放置，连线等,OK,41,设置一个命令，此后每
8、当你选择一个命令之后都会弹出一个菜单，根据需要可以修改相应的参数。,42,使用path命令,弹出一个菜单，要连接栅极选择GT，修改宽度0.35,43,点击要连线的地方：,44,最后得到的反相器版图,45,2.版图编辑操作,选取版图的层 矩形(recangle)、线(path)标尺(ruler)的使用 图形尺寸调整(stretch)图形的移动和旋转 图形的复制，删除 图形属性修改,46,版图编辑操作,图形的合并(merge)加contact（四种，三种接触孔，一种过孔）定义multipath 加Pin 调用已画单元(cell)注意热键的使用 注意ESC 的使用,47,f:全景图 ctrlz：放大
9、 shiftz：缩小shiftf：详细版图（非symbol）u：undow：上一界面 i：调用器件q：看属性 r：画矩形 p：固定长度的可折线 l：lable 标注端口、电源、地等。所标识的金属层，用该层TEXT层标识。如，M6层金属则选择M6TEXT层。s:拉伸收缩 ShiftC：把线断开（注意：先选中线，再操作）ShiftM:merge（同上，先选中线）k：标尺 shiftk：取消标尺shift+x:进入调用器件的下层 shiftb：返回上层在ICFB窗口的OPTIONS里选择USER PREFERENCES，改变undo次数。,48,3.版图验证,由于加工过程中的一些偏差，版图设计需满足
10、工艺厂商提供的设计规则要求，以保证功能正确和一定的成品率DRC：Design rule check,49,作业,1建立一个工作目录，姓名学号简称，然后进入该工作目录2将display.drf 拷到工作目录下。3用Vi编写cds.lib 加入INCLUDE4启动ic51415在工作目录下新建一个库并用gpdk工艺,用最小尺寸做一个cell名为inv,画一个反相器6 生成symbol7再做一个cell为invtest加入电源、地和vpulse（周期为1ns)8仿真看瞬态波形5ns。9打开inv生成layout10 用DRC检查直到error为0.写实验报告，电子版。内容包括实验名称、实验内容、实验结果包括（电路图、symbol、测试电路、仿真结果（输入输出信号的波形）、版图、DRC报告（错误图及说明（中文）、修改结果）,
