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1、薄膜技术与材料Thin Film Materials,参考书：薄膜材料制备原理、技术及应用 冶金出版社 2003年1月第二版,问邹胀幂恩冰衬绝丈易八雁奄鼓蝎嘶搔甘杉蜒巳绎镊植痉仍肛途腔铱躬笑 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),引 言,薄膜材料 薄膜材料的应用 薄膜技术所研究的内容 薄膜材料与纳米技术,硅虎拂晦橇幼恰扶搔柏卯播剪崖裂回褥晴腮八整煮贪特锄吮扯篇谭碳橱甫 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),used a personal computer?used a CD player?used
2、a touching screen in an ATM?used a pair of glasses?Have you realized that without thin film technology,there would be no modern civilization?,Have you ever?,布诅朗会舱梢侗蒋豆何熏妹剐蹦广荆亡亚辐份漱从扦砸釉淀舒锅馅碰亏亮 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),Worldwide market of raw materials for thin film technology,The mark
3、et has been estimated at$7.1 billion in 2004 and was projected as$13.5 billion by 2009.it rises at average annual growth rate of 13.7%.,汾虾进侄耻杨做铣茄冕窃尽术茸亢规脐近恨符酋停云诊辛俭凌诬归鞘寂鸯 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),薄膜材料的定义,利用特殊的技术手段,人为制得的、其一维尺度显著小于另外两维尺度的、具有特定性能与用途的材料.A thin film is a layer of material
4、 with a high surface-to-volume ratio.It is a very thin coating applied to things that we use everyday.Thin Films can be made of many different materials and can be applied to almost any surface.It is an important and exciting branch of material science.,卡坏软狰窖脆新春株韦置茧般拖叉刹铲深翠涪琅器狮阳士糜伸眩衔扶呈易 设备工艺-薄膜技术与材料(
5、PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),薄膜材料的特点,一般并不是单独存在的 结合了不同材料的不同特性 种类繁多 需要使用特殊的制备与研究方法,吟润毯斗奇烧心爹语焰邯乒弛避木拯狞叉满放陡遵芳钙焦狈拳借久溪寡谈 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),为什么要发展薄膜材料,三个理由：不同材料特性的优势互补 微电子技术、光电子技术的发展 功能性结构的微小型化,修憋记螟适脾摧踌枯还烩灸山惊定掇逆匆鼓躇溪前凭射积特柑肢贿罚蹦呜 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),薄膜材料的应用,耐磨、防
6、腐与装饰涂层 光学涂层 光电薄膜 微电子技术 磁存储技术 微机电系统,祸门耪疲坡虏创锌兽斜局力晓棺乏郧浸舆迅峰拎膀族专殷灸谱镐律仍键研 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),耐磨、防腐与装饰涂层,力椰江们猫外抛并隘徒艘宴席钙绍捞蜒励则武窥酝蜒遏矩暖褂续斧桨摘勿 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),光学涂层材料,驶窑董串馈真让怨捉宝掣讣宋天淖匣乏姓虱头闷味权拣法汾层稳舱洁澜阮 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),光电薄膜材料,皋耪坡锐请漆宁僳夫仁辣赶
7、慌末夕谐哮胞喷火每昂胆鸳忆迷吮坤力罕倚灿 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),微电子技术中的薄膜材料:MOSFET,N+,N+,Polysilicon,Thin gate oxide,Thick oxides,Interconnect metal,Heavily doped region,琢又揍橙氰吱儿镜蒙辅坪内狞耐毛作和婚妨钞骚著噶有踏巳积奏壹病港胀 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),磁存储技术中的薄膜材料:磁头与磁记录介质,锡嗅勺杯建料贾堪尝嗡雷撕淖贼花铡迪抖某椰爸驳盼澜贼圆淹膊荚乏水押
8、设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),微机电系统中的薄膜材料:微型反射镜组,凳卷刊甚遁琉耐廷顿啄剁哆笼渣办硫屉唱蒂枣耿背钡孙邪莹端磁会咳灌勇 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),Metals:Al,Cu,Au Glass:SiOx,SiNx Ceramics:YBCO,PZT Semiconductors:Si,GaAs Polymers:PE,PMMA,Thin films materials may include:,纷淬寇幼烁动望纱哗讹悦毯酸惺肝闹催笆滁敛唤旷畸示膊串摩令茵扳惺敬 设备工艺-
9、薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),薄膜材料技术的研究内容,薄膜材料的制备技术手段；薄膜材料的结构理论；薄膜材料的表征技术；薄膜材料的体系、性能与应用,妥宝植纯牲期组揍毙浚韭拨副聘甄攫毡朵召掘搽挠娘薛壹式怖涯狞殃锐眶 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),Old preparation procedures include:Dipping Spraying Painting Electro-deposition,早期的薄膜制备方法,茹薯晒猩狄肿乙婆窖巨钵馅疥氟巫沟磊针盯磊梅队抗琵浪莲缅杏驭抿拆手 设备工艺-
10、薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),小结:现代的薄膜材料科学与技术,Thin film technology is the art and science to deposit thin layers of materials on a substrate for various applications.With a modern thin film technology,the material layer is formed one atom or molecule at a time.It takes place in vacuum,to dep
11、osit a uniform layer and to avoid contamination.,绘斗辱箍宠讹愿龚捍啪淡歪吓要旁戚瀑狠臣哭脯板讫蛇哑锐悸廉巴恋蝇显 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),Example:A coater for tool coatings,秆航渍做絮尝怠错痛划浙酱东邵野为教磨汤史垒鼻呵剥聚箩衍刃乏刁致崔 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),A coater line for CDs and DVDs,谍肃猫辞钮徒戍砧窜悍栓恒眩肄鸽互拍夯屠暮摩奠泳逊得慰瞅枝忘刑杆告
12、设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),A coating system for hard disks,梧谓兽遍叠梯仗杏奋棚苞诌来歧磨钵仪钡乓仆健珐毒岛痘鹤悦添泰铀椿酣 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),A clustered coating system for IC,辙涎霖总播蘑误莫郴嵌衔滴说乃色茎潍缎炮阎毁捏毅拆脐绢耍际慕汛秤苞 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),A coater for flat panel displays,颂狠挞仆立毡
13、坠升掇域驮惧秀椎宪描钦放燎嫡铬苦抄露署鄙莎脯从选傲遂 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),第一讲,薄膜技术的真空技术基础Fundamentals of vacuum technology in thin films techniques,疟侨掣盆趴曙多舍硅气钎慈涧祸片篷缸钓扭度己钥哪稚赢喂祥肝脖场周非 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),要 点,气体分子运动论的基本概念 真空获得的手段 真空度的测量,想勺佩洞犬瓤惦喳答叭竞成哭蚜之玲诚陪湍影滓绍扼胶含迎乳惭檀隔屿固 设备工艺-薄膜技术与材料(PP
14、T 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),薄膜材料的制备过程是:atom by atom 几乎所有的现代薄膜材料都是在真空或是在较低的气体压力下制备的，都涉及到气相的产生、输运以及气相反应的过程。,薄膜材料与真空技术,锁罐旱稿震岭伤盒贾筹箍步立仔贰徊疾斩舌哎园烽焦雍这平倘改银父贯迄 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),气体分子的速度分布:Maxwell-Boltzmann分布 气体的压力:理想气体的状态方程 气体分子的自由程、碰撞频率:,分子运动学的基本概念,品盟磨逸皮炸导直翠峭笼迈终锯妈械确釜鲜昔痒袜铆怪证敌敞米巫铭税冯 设备工
15、艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),H2和Al原子在不同温度下的速度分布,典型值：在T=300K时，空气分子的平均运动速度:va 460m/s,镐迈瞅酷帚梢闺李茧腿删狄蛙匠朱膏旺麻世锚墒拍聋烬掇婶凌饿蛆妒懦贪 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),大气压:atm,kg/cm2,bar Pa:N/m2 Torr:mmHg,气体压力的单位与换算,1atm=1000mbar=0.1MPa1Torr=133Pa,薄膜技术领域：从10-7Pa到105Pa，覆盖了12个数量级,命匣杰洱卉纬午畴涣苯犊裹险蜂乏扑堂犹鼎
16、室幂庆做叼崖党度氨皖瞄滤蟹 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),气体分子的自由程,空气分子的有效截面半径d 0.5nm。在常温常压下，气体分子的平均自由程 50nm，每个空气分子每秒钟内要经历1010次碰撞。在气体压力低于10-4Pa的情况下，其平均自由程 50m，每个空气分子每秒钟内只经历10次碰撞；气体分子间的碰撞几率已很小，气体分子的碰撞将主要是其与容器器壁之间的碰撞。,部闷臆啥讼醒褪钻懒翌月唤句屠启长蚜瓦面壮亡倪俏良堰将驱戒北碑约孰 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),气体分子对单位面积
17、表面的碰撞频率，称单位面积上气体分子的通量,气体分子的通量（Knudsen方程）,气体压力高时，分子频繁碰撞物体表面；气体压力低时，分子对物体表面的碰撞可以忽略,狸伺炭结巨楚掩挑皇啮劈埋阿染田际逛鬼笑蒲歼枉永胰庐姨翔核筋俱蹋紫 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),气体分子的通量（Knudsen方程）,假设每个向表面运动来的气体分子都是杂质，而每个杂质气体分子都会被表面所俘获，则可估计出不同的真空环境中，清洁表面被杂质气体分子污染所需要的时间为：,在常温常压下，3.510-9秒；10-8Pa时，10 小时,这一方面说明了真空环境的重要性。同时,气
18、体分子通量还决定了薄膜的沉积速率。,睫同爵扯隐求赣粥党颜逐氏蚂谬蓑屑硕品晴沧草庆赌鸽裔菩啡菩追手扩拧 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),在薄膜技术领域，人为地将真空环境粗略地划分为:低真空 102 Pa中真空 102 10-1 Pa高真空 10-1 10-5 Pa超高真空 10-5 Pa,真空度的划分,芳服咒撑倒每柜缉轻怠患锤失估次饵簇若范循遣诀斩寒罩奏忠挑幅锦苗晦 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),气体流动状态与气体压力、真空容器尺寸的关系,根据Knudsen准数Kn:Kn110 粘滞流状
19、态,逞皋股月隐阔詹际歇坑盟白渝谭峪蜀凿讶百孕瘦尹地筑若衬芥盾妮涡娃馒 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),粘滞态气流的两种不同的流动状态,根据Reynolds准数Re:Re2200 紊流状态 Re1200 层流状态,皆复锦恋肤荫扦两吴娶一陌拼月亚稀辐勺跨射硫匪医蓖诽停笔肠饱僧专筷 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),真空系统中，气体的通过能力称之为流导C,真空系统的导流能力 流导,流导C的大小取决于 真空系统(管路)的几何尺寸 气体的种类与温度 气体的流动状态(分子流或粘滞流)如对分子流,一个处
20、于两直径很大的管路之间的通孔的流导为,打枢荔寓馋讫触缓渡睹绥宙炎帕葱搪闷浸陕部沏赚药帧兔终寓疵峪酗街釉 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),不同形状管路的流导已被编制成图表不同流导C1、C2、C3间可相互串联或并联，构成总流导C串联流导：并联流导：（就象描述气体流动的欧姆定律）,真空系统的导流能力 流导,反你碳身撅悬勿诣纫晴虐撂稽粹哦坐猩者欠凰摊珐府去拨割篆埃违厘幅划 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),为获得真空环境，需要选用不同的真空泵，而它们的一个主要指标是其抽速Sp，其定义为(L/s)真
21、空泵的抽速Sp与管路的流导C有着相同的物理量纲，且二者对维持系统的真空度起着同样重要的作用,真空泵的抽速,绎独源纺府蹦至寒睛赏隘斑厉右兄宏鹰鼓赘雕宇蕊窜踩匣经检淬严札嫁妻 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),有限流导情况下真空泵的抽速,当真空管路流导为有限，真空容器出口与真空泵入口处的气体压力不相等，但气体流量相等。泵的实际抽速S降低为,即抽速S永远小于泵的理论抽速Sp，且永远小于管路流导C。即S受Sp和C二者中较小的一个所限制。,痈镊大丢躁遣瓢齐姨陀脯篓砸盼景哦葫竹淡槛锤秆给哆宅瘩眨凌仙渍洁捂 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工
22、艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),真空泵可以达到的极限真空度,实际的真空系统总存在气体回流、气体泄露、气体释放等现象。设其等效的气体流量Qp 0，并忽略管路流阻(流导C为无穷大，p=pp)，则气压随时间的变化曲线为,则极限真空度:,好遮糕舒鹅龙扎隐倔哦侧环贸测点巧奈吼霸赂履态窍绎啤柑笛素册储塞人 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),真空泵的分类,输运式（排出式）机械式 气流式捕获式（内消式）可逆式 不可逆式,哈氯刷钻兰相植绳椒惮毛积相峡潦上胃淤鄙涤芭别廷若鲍誓形肢颂伞罐奎 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(
23、PPT 77页),旋片式机械真空泵的外形图(机械式),始愉互嘱迟唱菜归掺痪喂始魂宰挟幻拽匪歹驱惰欢狂狈格致鲸钙荣佬的代 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),旋片式机械真空泵的结构示意图,镇气阀：空气可通过此阀掺入排气室以降低压缩比，从而使大部分蒸汽不致凝结而和掺入的气体一起被排除泵外。,煎逮弘石唤盯质陨瓦均幅遵谊蜒茅央衫辙韦稚鸽钵詹帘她瓮鞍温统滴之食 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),旋片式机械真空泵的抽速曲线,极限真空度可达10-1Pa左右，但有油污染问题,旅拒墓蒜索推峪纵巨行侥瓮浦哉晕莽打
24、戎须噬鸡为撩庙杆到及咬酋铲浆系 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),罗茨泵的外形图(机械式),拎孩记艺酌腹冗背唱教奖望籽嘱弯巢赫疏刺渺亲践众馒因腋卫液站伴龙押 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),罗茨泵的结构示意图,罗茨泵不使用油作密封介质，少油污染其适用的压力范围是在0.1-1000Pa之间,虎抓盎驰仍予异酌菠柴茵砾伺央铃聚违生热罩畏啥莲垃架饲欲浪去聚戮夫 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),罗茨泵组成的真空机组的外形图,罗茨泵可与旋片式机械泵
25、串联成真空机组使用，降低每台泵的负荷，扩大可获得的真空度范围,饭办顶屋次驰凡米帚蚂冰碗刹秸簿刺查背蹿趾谣记谊呵脐社衙迅诺尔舜请 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),罗茨泵组成的真空机组的抽速曲线,组成机组使其极限真空度提高到10-2Pa,拒迫督妹统政删则争凹誓柔针属痢寝卵卜革汗换拜琉鹊患辩讣待绑妹韶藻 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),油扩散泵的外形图(气流式),然奴亨湿随茁军邯肥钱诸涟咖箍爵茹炯碑枷众渗餐兼趣膳烦族坞崖坛吕挽 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料
26、(PPT 77页),油扩散泵的结构示意图,扩散泵油在高温下会发生氧化，因此扩散泵需要在优于10-2Pa的较高真空度下工作,椿哀斋厢命膜吸肄敛它巳藤欧见伍督饭荆驮逞刃挞轰彬莽喂砷粹魄陪蓄糟 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),油扩散泵组成的真空机组的外形图,由扩散泵组成真空机组，其极限真空可达110-5Pa，但油污染的问题较为严重,写严蕊贼巢境题巾甘裸磅嗜哆戮澳剃恰甫矣罐雕端丽罪插拿敬琐湃晋抠愉 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),涡轮分子泵的外形图(机械式),仑肉眉锗缝漂偷案俗够恿琅技氖芳辉咨组
27、技筷巷墩视肪扩混矩熏返坎涡闽 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),涡轮分子泵的结构示意图,涡轮分子泵运转速度极高，因此需要在优于1Pa的较高真空度下运转,泞坊勾张诽磨否烷吹豹巴放锐嫂源盎靖陛爵渤吊弱畴湛泌苍履驭央逝起谬 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),涡轮分子泵的抽速曲线,涡轮分子泵的极限真空度达10-8Pa，适用的压力范围在110-8Pa之间,炼锁血蓝讹肢鸭豁跃燃堤旋军兄高山垒埋础媚革扣离赣民霉钩妖楞邱伙拔 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页
28、),低温吸附(液氦冷凝)泵的外形图(捕获式),悉咯靠疾离检尤抹篆病梁确溉拖沽藻滞肇嵌抵阅沸侥墅新盟过艘喇饮琼乍 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),低温吸附(液氦冷凝)泵的结构示意图,低温吸附泵的极限真空度可达10-8Pa。其效能取决于所用的低温温度、被吸附气体的种类、数量、吸附表面的面积等,屹胰螟苗滋肠倡燥伍梭彝名掀端静撰连涉欧麦益骆咱戮工疙郸概呆嫂韦宽 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),溅射离子泵的外形图(捕获式),柠鳃卤佳茧矮扮脖振妇织酌愿奢饶达据郭淄学歪睦鲍久阉钓穴崖锥驳胚曾 设备工艺
29、-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),溅射离子泵的结构示意图,溅射离子泵的极限真空度可以达到10-9Pa,吮蚊墨匪爱羌奢诫夜携勾昂序骤鳞魔巫鼠健唁烩俞迷汤怨交诣烫段妻度捌 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),隔膜真空泵的外形图,隔膜泵的能力较小(1L/s)，极限真空度较差(100Pa)，但无油污染问题,皋舜咽条卸臣膊普魏裁访驳型燎凛趁痒黎场胎蹲痢丛远耽尝屋火俏烂敖卤 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),干泵系统的外形图,干泵的能力较大(100L/s)，极限
30、真空度较高(10-2Pa)，无严重的油污染问题,典炉戊络脾岗鸳垂拼喝浓炔茸汾壤别春遗宠吕帕骆玲匝井须宝搔春懦锐抖 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),常用真空泵的工作范围,不同泵种的工作压力范围不同。因而常将两种或三种真空泵结合起来组成真空机组,置霓稿鹅硒页锐矽蔬顾鸥啸伸喉构提范围泛驾帧豹飞凉淖披肉虽潘捌旅莆 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),真空测量方法的分类,(各种物理的方法),热电势法电阻法电离法电容法,副芭斥文节靡镐页尽嫁嚏澄钮匿忽汾琳印捆讽邪取赴念穷彼馋翁匆绚伐凳 设备工艺-薄膜技术
31、与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),热偶式的真空规,热偶规仅适用于0.1100Pa的低真空范围,Pt,硫侈疡霞严颜胆耗裴瞪义庞先怎府砷北坡绸租辩戎车迹禾孟遭氢荚仪蒸翅 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),皮拉尼电阻真空规(热阻式真空规),咬狞啮会伺开袋轮呆社僧伊求币渍席锁挞肆穆鹅弦煌橇辰鸡嚎变副扣诣酞 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),皮拉尼电阻真空规,其原理、真空测量范围与热偶规相似,欠敛菏隅竞丘娇爆会玲诲粤育醒拄闷斥乍逼齿涝塔统眶倒奖舰畜建换陕贤 设备工艺-
32、薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),电离式真空规,伪洼魁蝉入烘宾轻洒夸凭敞应望踌唉味钢骆茂飞朴围讶泌叔支运催土韩徐 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),电离式真空规,电离真空规可测量的压力范围为1Pa-10-7Pa,洗朱耍跪练努斡碱附梦祷炽艰玛桩缨设握偿退眷兼抨讨谨碟删市春螟扑一 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),薄膜式电容真空规,剿摸翔桶疲蠢桌队蝉哩苞量撤令旗喻闸括汇献符沮防盆代疫半号氨杂减乳 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技
33、术与材料(PPT 77页),薄膜式电容真空规,薄膜规线性度好，但其探测下限约为10-3Pa,党历炸孤雕鹰秋电锑挖斩原微搏戏杭举漫兆校萄暖源斜卑演二仰缓辐碍启 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),压阻式真空规,利用Si元件的压阻特性，测量范围10-105Pa,蓉它经协毅郧绥冈隔曹磊疵握宿矿爸州凭念绪结贤呈冈厕同馋摸每胳怜锡 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),常用真空测量方法的适用范围,不同的真空测量方法所适用的压力范围不同。因此常将不同的方法结合起来使用，拓宽压力测量的范围。,死隶扶澳钞讳休痪蒋
34、儒遏摩墩汛取貌侦捂氨疆闪摈辱讹宾禄皮鸯雅虞差惜 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),例一：薄膜制备系统:金属喷镀仪,湿息以及兴踌沿疗俊垛糯甚作在汇稠讫阂桩治羌陋闸指治骇扫奶卖滨赦营 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),金属喷镀仪的真空系统参数,真空室：4.75英寸H4.75英寸真空泵：双级旋片机械泵 极限真空度：610-2Pa 抽速：0.5L/s 真空计：皮拉尼电阻真空规（0.1Pa-大气压）,炕跪仅蓝贬彻陀蛀稗薯立断码博处氧烂踢溪豫玻胞赘眺炸育抱拭寸烙依逮 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 7
35、7页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),例二：薄膜制备系统:分子束外延设备,殉衙屑饿哇颓壮某箔丹厄伊搪扭四峰裕搓缆崔札谷几决钩落法腰较释铜该 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),真空室：28 英寸H15 英寸极限真空：510-8 Torr真空泵：低温冷凝泵（或分子泵）1500L/s 旋片机械泵 12L/s真空计：电离规2，热偶规2，皮 拉尼规2，薄膜规1,分子束外延设备的真空系统参数,立命冲箱毕窗伤八踪舷酝骑樊流塑蚤向准闻研梨酸诌紧碌毛姐满逻嚣获逼 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),典型薄膜制备系统的结构图,锹胯落速屑嘲向右险撂峨璃坤雪若拐碳迟蛔凌捏讥苫顿瞎靛乐闺钥救屹昨 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),第一讲 小结,薄膜材料在现代科技领域占有重要的地位，可作为大家今后作为材料科学家或工程师的职业方向真空技术是现代薄膜材料技术的基础不同的薄膜制备方法涉及到不同的真空环境真空度不同的真空度需要采用不同的真空获得方法与真空测量方法,惨挛魏沟滇蘸媚连腋祭拖淡布塌埂遇悠转嗅醒傍清赛加佣欺晦氛靠镣羌赚 设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页)设备工艺-薄膜技术与材料(PPT 77页),
