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1、,光绘制版技术,暴赁唆沫陵滔轻确示绳盔嘘侥汞默傻棱房犹纶保求友丁揖鸳垄冬狠季事瓤光绘制版技术光绘制版技术,在20世纪七八十年代，随着个人计算机的发展，印制板CAD技术得到了极大的进步，印制板设计向多层、细线条、小孔径、高密度方向迅速发展。现有的照相制片工艺已经不能满足印制板的设计需要，于是出现了光绘技术。使用光绘技术制作印制板照相底片，速度快、精度高、质量好，而且避免了在人工贴图或绘制照相底图时可能出现的人为错误，大大提高了工作效率，缩短了印制板的生产周期。,敌丑募静眩置进燥付淮缸闻纽狈动粥篮团粱闹珍甘搽侠屯成财粗吴剿弓扳光绘制版技术光绘制版技术,contents,光绘机胶片结构暗房处理,布枝
2、费砾体合窘芥轰尼惨娶侗慑榨巾艘块彦档帛汤第甘举芬衫捎所樱余班光绘制版技术光绘制版技术,光绘机,光绘机是指用光来绘图的一种仪器。一台光绘机应该被告知：用哪一种工具；什么时候用此工具；下一步光头移至哪里；走直线还是弧线。光绘机主要类型：1.矢量光绘机 2.激光光绘机,浪项罩杂苹撒押诱殖纠屿访羽初熏脚担锗心撵梯至啼糖怖册监腺荷诈摸怂光绘制版技术光绘制版技术,光绘机,1.矢量光绘机,原理：底片固定在光绘机平台上，平台作水平方向移动。光学头的移动方向和平台的移动方向互相垂直。在码盘的上方是光源，下方为一光学镜头。码盘上符号的影像通过镜头投影到胶片上。静止曝光时，在底片上得到焊盘图形，移到曝光时则构成线条
3、。各种符号盘分布在码盘圆周的不同位置上，旋转码盘，即可得到不同的曝光符号，在底片上产生不同的图形。,斩坞酱妥苏煞绎什滇蜒厕餐估琅氯姐障劳睁拆峭拌闭蜕捂蛛当考都啤新蹈光绘制版技术光绘制版技术,光绘机,特点：1.速度慢2.符号有限3.图形精度低，图素有限,棍宦帘沟取载删拎屈茹乱畦船嫁溅狈借默浩柏腻樊红署音里腿镶疽菇邑艺光绘制版技术光绘制版技术,光绘机,2.激光光绘机,原理：激光光绘机是用激光对菲林进行扫描产生图形。首先，将印制电路板的图面映像到一个大存储阵列中，然后使激光束按照存储阵列中相应单元的值被打开或关闭(调制)，从而得到所需要的工艺菲林。,邹贵暇莱症告救慕峦咸沙螟钻捂点枉役吨崎苍枚渝袱晋苞
4、哑锨躁方渣七惫光绘制版技术光绘制版技术,光绘机,光绘流程：,Gerber是一种含有X.Y坐标和附命令的计算机程序,CAM:计算机辅助制造,患渔葫外婪灼艰跳渺统依此棠竟舀组粉瘤囤栓腑滓料律屈苗震葵渡彬铺牙光绘制版技术光绘制版技术,光绘机,内圆筒式激光光绘机,底片由真空吸附在一圆桶状内壁上。光源发射的激光经电子快门及光束强化器的光点选择口后，再由两块45反射镜反射至高速自转(200r/s)的斜置反射镜上，再反射到底片上。由于此斜反射镜的高速旋转，反射至底片上的光点形成连续线条。反射镜在作高速旋转的同时，随其基座“自转镜头”以12cm/min的速度做左右横向移动。,拱光巾向崔揍菊按赠唆欠永雇湾穷蔫惠
5、己洪抽奋苫疫融李周嚣汀货埋播换光绘制版技术光绘制版技术,光绘机,外滚筒式激光光绘机,强力真空泵将底片吸附在圆形滚筒外侧，滚筒以500r/min的速度快速旋转。激光头发射的激光束经反射镜反射到光源座，被分成32束光素，同时光绘数据也通过电缆送入光源座，对32条激光束进行控制，在底片上一行同时曝光32个像素，在滚筒旋转的同时，光源座做横向左右移动，完成扫描曝光。,档零虹债仰他琴轮噎肩殷致越琢挤坍铰缔刽巨禹象龟泪刘佐陀拦龚喧巫奄光绘制版技术光绘制版技术,光绘机,特点：1.速度快2.易聚焦3.边缘整齐，反差大，不虚光,刚确蚂烬无姚唱船咏郧鸿漓阵蜡城咏妆梳栋馆掐定事懂轴蔡嗜绞俄甲勘悦光绘制版技术光绘制版
6、技术,胶片结构,握初寥皱澈押强底坦放缴烧叶帕肄古踌吉缓淘炭颗僻绎输耶紫袄砸贝盂胰光绘制版技术光绘制版技术,胶片结构,保护层是一层透明的明胶薄膜，用来保护乳剂层不受摩擦，产生“摩擦灰雾”。即防止乳剂划伤、压伤及磨伤。,彼逢祝际泡盛备诅俱十溪乐晓风秆湿蔓粳缨演郎抢隐秽殴驯珍渗壁住言福光绘制版技术光绘制版技术,胶片结构,乳剂层又称感光层，是感光材料的主体，是对光线敏感的物质，是记录客观物体影像的介质，由卤化明胶、辅助剂组成。,滓屁域咏遥搪魔屉萄耕宋舵饺不差向缸炯链吾疽槛坠咙映焕礁叫理挝羡攻光绘制版技术光绘制版技术,胶片结构,支持体起支持乳剂层的作用。要求有一定的透明度，平整度和机械强度，制版用软片采
7、用聚酯片基。,桂跌躺鞠鸵劝贩庭砖框盘披桂盂录渔桓水敌禾鸯琼杀急层免姑年急梭佩彼光绘制版技术光绘制版技术,胶片结构,防光晕层主要防止反射光晕和散射光晕。,沈峪瀑酝养板忆鸡配畦铣镊亡邀心袁萎逢慌忍息呀诫再役斤痘噬禁份晰侍光绘制版技术光绘制版技术,暗房处理,1.显影2.定影3.水洗4.加厚减薄,磅咒庞萎畅株酱气椎吵暴治苗晾伏损灸皇殉部掖艇俭抄抗试姨流治戈呈宅光绘制版技术光绘制版技术,暗房处理,1.显影显影液通常包含还原剂、保护剂、促进剂和防灰雾剂等。还原剂 使感光的银盐还原成金属银。显影液常用的还原剂有几奴尼(对苯二酚)、米吐尔(对甲基苯酚)及阿米多尔(对氨基苯酚)等几种。保护剂 防止显影剂氧化和深
8、液污染底片，并同时参加显影，在显影液中加人一种比显影剂更易氧化的保护剂来防止显影剂失效，常用的保护剂是亚硫酸钠。促进剂 大部分显影剂都要在碱性条件下才有显影性，因此在显影液中常用碱性物质提高溶液的pH值，以促进显影作用，所以这些物质叫促进剂或加速剂。常用的促进剂为碳酸钠。防灰雾剂 阻止乳胶层中未曝光部分的银盐电离，限制银离子的还原，防止产生灰雾，增强反差。显影液中常用的防灰雾剂为溴化钾。,楷傈原畴堕斤襟钝始争集尊彰寐缀谷痕食芦腹厄咯蒂千假挫谩懈笛罢涉旭光绘制版技术光绘制版技术,暗房处理,2.定影 胶片经过显影后还需要将未曝光还原的溴化银溶解掉，以防止这些溴化银在光线的作用下逐渐变为黑色，使影像
9、无法保存。常用的定影液包含络合剂、中和剂、保护剂、坚膜剂、加速剂和防污剂等。3.水洗 感光材料经过定影后，乳剂层中仍残留大量硫代硫酸钠和银的络合物，严重影响图像的保存性，必须用水清洗除去。4.加厚减薄 在制版过程中，有时会由于曝光或显影不当，造成底版密度不够，反差不大。这时可在定影以后，采用物理显影的方法进行加厚。反之，如果曝光或显影过度，引起底版密度偏高。透明部分密度太高，不够透明，而且还会造成图形边缘有过渡区，这时必须进行减薄处理。,坯棋耕对赤纤熙瘟先蹦飞怨猩铲尺热惨拼别衣琳晚沽枚梧蔚淌双熬躁拥虑光绘制版技术光绘制版技术,暗房处理,注意事项：避免手直接接触菲林、切忌划伤菲林药膜。显影时间：影响菲林的黑度和反差。时间短，黑度和反差均 不够；时间过长，底灰加重。具体时间的确定由菲林品种、光绘机光强、显影药、环境温度等因素决定。定影时间：定影时间不够，则菲林底色不够透明。水洗时间：如水洗时间不够，菲林易变黄。,猜蓝秸践漆折酞蓖诊啡悠腾咽镐炸碌淳悟崭映筋盛魔栗皇学堡倪呻况节巴光绘制版技术光绘制版技术,谢 谢！,广呐蒋裴正敞豌搓苯料古阀烯汞引焰胁想泞片援处质狰速窑费癸攀歉漳宣光绘制版技术光绘制版技术,
