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1、1.4 场效应管,N沟道JFET,是在一根N型半导体棒两侧通过高浓度扩散制造两个重掺杂P+型区,形成两个PN结,将两个P+区接在一起引出一个电极,称为栅极(Gate),在两个PN结之间的N型半导体构成导电沟道。在N型半导体的两端各制造为源极(Source),接收端称为漏极(Drain)。在JFET中,源极和漏极是可以互换的。,如果在栅极和源极之间加上负的电压UGS,而在漏极和源极之间加上正的电压UDS,那么,在UDS作用下,电子将源源不断地由源极向漏极运动,形成漏极电流ID。因为栅源电压UGS为负,PN结反偏,在栅源间仅存在微弱的反向饱和电流,所以栅极电流IG0,源极电流IS=ID。这就是结型
2、场效应管输入阻抗很大的原因。,二.工作原理,(a)UGS=0,沟道最宽,ID最大,1.UGS对导电沟道的影响,图1-2 UGS 对导电沟道影响示意图,(b)UGS负压增大,沟道变窄,ID减小;,图1-2 UGS 对导电沟道影响示意图,(c)UGS负压进一步增大,沟道夹断,ID=0,图1-2 UGS 对导电沟道影响示意图,UGS=夹断电压UP,为了使输入阻抗大(不允许出现栅流iG),也为了使栅源电压对沟道宽度及漏极电流有效地进行控制,PN结一定要反偏,所以在N沟道JFET中,uGS必须为负值。,2.UGS=0时UDS对导电沟道的影响,图 1-3 UDS对导电沟道和ID的影响,1.转移特性曲线,图
3、1-4 N沟道结型场效应管的转移特性曲线,三.特性曲线,2.输出特性曲线,图1-5 N沟道结型场效应管的输出特性,根据工作情况,输出特性可划分为4个区域,即:可变电阻区、恒流区、击穿区和截止区。,1.可变电阻区 当uDS很小,|uDS-uGS|UP|时,即预夹断前(如图所示),uDS的变化直接影响整个沟道的电场强度,从而影响iD的大小。所以在此区域,随着uDS的增大,iD增大很快。与双极型晶体管不同,在JFET中,栅源电压uGS对iD上升的斜率影响较大,随着|uGS|增大,曲线斜率变小,说明JFET的输出电阻变大。如图1-5所示。,2.恒流区 恒流区相当于双极型晶体管的放大区。其主要特征为:(
4、1)当UPUGS0时,uGS变化,曲线平移,iD与uGS符合平方律关系,uGS对iD的控制能力很强。,(2)UGS固定,uDS增大,iD增大极小。说明在恒流区,uDS对iD的控制能力很弱。这是因为,当uDS较大时,UDG增大,靠近漏区的PN结局部变厚,当|uDS-uGS|UP|时,沟道在漏极附近被局部夹断(称为预夹断),如图所示。此后,uDS再增大,电压主要降到局部夹断区,而对整个沟道的导电能力影响不大。所以uDS的变化对iD影响很小。,3.截止区 当|UGS|UP|时,沟道被全部夹断,iD=0,故此区为截止区。若利用JFET作为开关,则工作在截止区,即相当于开关打开。4.击穿区 随着uDS增
5、大,靠近漏区的PN结反偏电压uDG(=uDS-uGS)也随之增大,绝缘栅场效应管,一.N沟道增强型MOS场效应管1.结构,图 1-6 N沟道增强型MOS场效应管的结构示意图,2.工作原理,图 1-7 UGSUT时形成导电沟道,ID0是uGS=2UT时的iD,3.特性曲线,图1-8 N沟道增强型MOS场效应管的特性曲线,二.N沟道耗尽型MOS场效应管,图 1-9 N沟道耗尽型MOS管的结构示意图,图 1-10 N沟道耗尽型MOS场效应管的特性曲线,图 3-11 MOS场效应管电路符号,表3-1 各种场效应管的符号和特性曲线,表1-1,续表,场效应管的主要参数,一.直流参数 1.饱和漏极电流IDS
6、S(耗尽型和结型)定义是当栅源之间的电压UGS等于零,而漏、源之间的电压UDS大于夹断电压UP时对应的漏极电流。,2.夹断电压UP(耗尽型和结型)其定义为当UDS一定时,使ID减小到某一个微小电流(如50A)时所需的UGS值。,3.开启电压UT(增强型)UT是增强型场效应管的重要参数,它的定义是当UDS一定时,漏极电流ID达到某一数值(例如10A)时所需加的UGS值。,4.直流输入电阻RGS RGS是栅、源之间所加电压与产生的栅极电流之比。由于栅极几乎不索取电流,因此输入电阻很高。结型为106 以上,MOS管可达1010以上。,二.交流参数1.低频跨导gm,跨导gm的单位是mA/V。它的值可由
7、转移特性或输出特性求得。,三.极限参数1.漏极最大允许耗散功率PDmPDm与ID、UDS有如下关系:,这部分功率将转化为热能,使管子的温度升高。PDm决定于场效应管允许的最高温升。,2.漏、源间击穿电压U(BR)DS 在场效应管输出特性曲线上,当漏极电流ID急剧上升产生雪崩击穿时的UDS。工作时外加在漏、源之间的电压不得超过此值。,3.栅源间击穿电压U(BR)GS 结型场效应管正常工作时,栅、源之间的PN结处于反向偏置状态,若UGS过高,PN结将被击穿。对于MOS场效应管,由于栅极与沟道之间有一层很薄的二氧化硅绝缘层,当UGS过高时,可能将SiO2绝缘层击穿,使栅极与衬底发生短路。这种击穿不同
8、于PN结击穿,而和电容器击穿的情况类似,属于破坏性击穿,即栅、源间发生击穿,MOS管立即被损坏。,场效应管的特点,(1)场效应管是一种电压控制器件,即通过UGS来控制ID。(2)场效应管输入端几乎没有电流,所以其直流输入电阻和交流输入电阻都非常高。(3)由于场效应管是利用多数载流子导电的,因此,与双极性三极管相比,具有噪声小、受幅射的影响小、热稳定性较好而且存在零温度系数工作点等特性。,(4)由于场效应管的结构对称,有时漏极和源极可以互换使用,而各项指标基本上不受影响,因此应用时比较方便、灵活。(5)场效应管的制造工艺简单,有利于大规模集成。(6)由于MOS场效应管的输入电阻可高达1015,因此,由外界静电感应所产生的电荷不易泄漏,而栅极上的SiO2绝缘层又很薄,这将在栅极上产生很高的电场强度,以致引起绝缘层击穿而损坏管子。(7)场效应管的跨导较小,当组成放大电路时,在相同的负载电阻下,电压放大倍数比双极型三极管低。,图 3-12 栅极过压保护电路,