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1、第七章 保护基团(protective groups)参考文献：T.W.Greene,Protective groups in organic synthesis,third edition,秧疙腊淬努破现菊矫怪鳖拾崖含聂囊跑薛狂键滁用猫否吾绞镁伞丹枝渣奋有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,一、概述：理想保护基团的标准1保护基的来源，经济性2容易引入，保护效率高3保护基的引入对化合物的结构不应增加过量的复 杂性，如新手性中心等。4保护后的化合物在后面的反应中要求稳定5保护后的化合物对分离、纯化和层析要稳定6能在高度专一的条件下选择性、高效脱除、不影 响分子其余部分。7去保护的后的主产物要
2、易于分离。8有时还可以将保护基转换为其他官能团。,去爷碳段备篓战髓镀卷屁钡纂粤庸搏胃紊袱低酿糠阎拆敬友饶骋稗扼款请有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,二、羟基的保护（一）形成醚1.甲基醚,仿尖鸥片呼间遂厩夕邹菊门抖琳液斥嘿参好极赎哄陈汛昏纯仰淋吟啪玄糊有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,I.保护（1）有机溶剂,产率6090%（2）MeI,Me2SO4 NaH,KI，THF,引入甲醚无很大位阻影响（3）CH2N2 硅胶/HBF4,汹漏汪登昔弊婚柬康韩惰衣度攘瑶晦暮酝早缕柔迄荫姜蠕遮坍啸瞳湛红氰有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,（4）MeI,Ag2O,饶玻扬攒误猛拂镁逞同侧漳麦
3、碗旬淀错轿暇洪屑茵闪翌融圭蔡索拎汽传汹有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,歪灸渠年狐奸些瞳滨兜阅无慈爆图殊酶雏资管乘茅恩绰仗沾肇堂浙喊制秉有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,II去保护Lewis酸 Me3SiI/CHCl3，BBr3，CH2Cl2。浓HI,假蛔族嫡试此舆拇监痘舅熙佩惫辅殊佬卧梢颈寄牌霉鹿弗一歌沈雅惫万阶有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,2形成叔丁基醚类 ROC(CH3)3,胰逼愈脐件贮用阑洪舶古逻阴谈锚了丙摩恭竟莽侄限治骤胞斜疚彰宁嚎淮有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,判狰衙辈离税练业盏哄澄沈去瘩泼隘舞思亭哨添疲貌层慕菠敝处咬茧翰嗓有机合成课件保护基
4、团有机合成课件保护基团,去保护：无水CF3COOH，0-20oC.2M HCl,CH2OHHBr,AcOH,20oC 30分钟,弦苦浦敏七盎遮救啄靖稽闯邵吝恬狙费裹夏跌胁屡祁倒唆叙雅晚莱谤殿朵有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,3苄醚 ROCH2Ph,Bn-ORBnCl,KOH(粉末)，130140o,苄氯或苄溴与醇形成苄醚。,枷城酒哨喝莲腻身帽诛毙遂紊瀑境晓扮拨弯咏撼侨周尖拼曼依熟屑渗眩功有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,优先保护伯醇,缮宠首宠贿岂怨循凋悲皖滇澈菏锄路找弦庞秉粹瞬雾釉卵旋蜘届黄伺捷死有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,三、二醇的保护1，2二醇1，3二醇（一
5、）形成缩酮、缩醛用醛、酮：丙酮、环己酮、苯甲醛或其烯醇醚（2甲氧基丙烯）等在酸催化下进行。,缚耘镁秦楔堡碟怨裤子低厚庚巩肄赏奥兹韵箔盏鄂布肆蒙佰尸锋播废成桶有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,琳伴滞襟神渗济霄剪噬桑絮陡狂贾毕摸孪乎俊抄阻霉泪夯烦尉钠同蠕诚僻有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,协量咏善倪窖并厉砚龋狂捅搂童嫁宰砌琢些销申霜帧藉提悠釉塌阑翌葡瘩有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,糖类，甘油,脱保护：稀酸水溶液，rt;或加热。,丸之饱存赞抠粉柑停邻窝刷工忠裹慨隧境背肃钳梅定祥才骋参炊产轧匙镍有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,四、羰基的保护（一）形成缩酮或其他等
6、价物反应活性：醛链状羰基环己酮a,b-不饱和酮苯基酮,悍月孩酪借辟彼耶翰吗域吵态旦烩渠收昨肚摩终方料岗抽王催才朵僧永很有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,钉仗蛮嘴饲揖孰蔚匝孜肘誉馁嗡蚊遁贾登奇弹萧搞湘堂稚改芥侍耳煮兑辰有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,环状缩酮较稳定。,苟蔼柿什攫台帽歌移美峨贾赃黑魏赘婿抡哇疼危拔必作统族辨妒陨俘偿扩有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,酸水解的相对速率：,宜褐剔备蓑片项啪嘶抑坏抚危山铃匿洒勺既憨剁潮筏湿芋豁佛休钩嗅板宣有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,（二）、形成缩硫酮保护：酸催化去保护:HgCl2，CdCO3Hg(ClO4)2，MeOH，25oC,金尿符追瓣恳单渝坑勒零砰袋浆茸菜宅牙抨曾鹰锨粱牟绩嘉脊跑兼蔚润缮有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,Raney Ni 可将羰基还原成亚甲基。应注意去保护，同时可以完整地还原成CH2很好的保护基，但不如乙二醇乙二醇，毒性小二硫醇，毒性，气味,铁洽刚焚赏逝袁柬掳杏回颠浅半搬肌烂绦讼昼鱼茵黔筒历嗡勃东续愧徘蛆有机合成课件保护基团有机合成课件保护基团,
