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1、附件：科技合作填报模板甬江实验室项目名称:芯片级超高纯化学机械抛光磨料制备和应用技术领域：微电子与光电子项目简介：超高纯纳米氧化硅磨料是实现芯片化学机械平坦化的关键材料，其主要是通过化学反应、机械摩擦的相互协调作用实现在半导体不同材料的高效堆叠。目前，项目已经完成了超高纯纳米氧化硅粒子的规模化可控制备：颗粒尺度IOT50nm；颗粒分布集中，粒径分布指数(PDI)0.15;颗粒形貌为球形和其他异形结构，形貌和表面性质可调控，制备的氧化硅纳米粒子纯度可以实现金属杂质小于400ppbo该技术已经完成了立方米级的放大制备，技术成果可以作为先进制程28nm以上的PoIySi,氧化介质层、鸨(W)、铜(C
2、u)等芯片加工材料以及面向8寸、12寸单晶硅片的精密抛光关键材料。本研究成果可以打破在超高纯纳米氧化硅磨料一直被日本Fuso公司独家垄断的局面，保证我国的集成电路半导体产业链的安全性。知识产权:一种纳米磨料颗粒及其制备方法和在化学机械抛光中的应用，.1,甬江实验室；意向合作方式：口技术转让技术开发口作价入股先用后转口合作开发El引入风投定价方式：面议项目阶段：口实验室开发口样机/样品中试/放大IZl示范应用口技术推广预期产生社会经济价值：在全球芯片CMP领域中，抛光液的市场一直以IOT5%的速度递增。据统计，2022年我国芯片制造过程中抛光液市场达到了15亿人民币，随着我国芯片市场规模的增长，抛光液的市场还会持续增加，折算到目前的高端磨料市场约为2-3亿元人民币。联系方式：/
