薄膜的物理制备工艺学真空蒸发镀膜

1、薄膜材料与技术,武涛副教授年秋季学期,薄膜沉积的物理方法,薄膜沉积的物理方法注意,其中除了技术外,都可划入广义的技术范畴,因此本章重点学习蒸发,溅射,离子镀三类基本方法,的概念,在真空度较高的环境下,通过加热或高能粒子轰击的方法使源材料逸出。

2、第二章薄膜的物理制备工艺学,宋春元材料科学与工程学院,薄膜物理与技术,第二章薄膜的物理制备工艺学,2,1薄膜制备方法概述2,2真空蒸发镀膜2,3溅射镀膜2,4离子束镀膜2,5分子束外延技术2,6脉冲激光沉积技术,2,1薄膜制备方法概述,物理。

3、半导体薄膜的制备和性能测试实验的特殊性及教学尝试,1,半导体薄膜的制备实验的特殊性及教学尝试,半导体薄膜的制备和性能测试实验的特殊性及教学尝试,2,四级物理实验的宗旨,按实验内容的基础普遍性,难易程度与学生知识水平相适应分为四级实验一级实验。

4、20221220,第9章IC工艺薄膜物理淀积技术,第9章IC工艺薄膜物理淀积技术,第9章IC工艺薄膜物理淀积技术,Metal Layers in a Chip,第9章IC工艺薄膜物理淀积技术,Multilevel Metallization。

5、第三章薄膜制备技术,蒸发法,一,真空蒸发法制备薄膜的基本原理,重点,二,真空蒸发的设备三,汽化热和蒸汽压四,蒸发的速率五,元素,化合物,合金蒸发的特点,重点,六,真空蒸发源七,薄膜均匀性和纯度,真空蒸发,一,真空蒸发沉积的物理原理在真空环境。

6、第三章薄膜材料的制备,第一节概述第二节物理成膜第三节化学成膜第四节液相反应沉积,第一节概述,薄膜技术在工业上得到广泛应用,特别是在电子材料与元器件工业领域,功能材料领域及超硬化合物薄膜涂覆处理技术领域占有极其重要的地位,有些体积材料中不能得。

7、第1章薄膜制备的真空技术基础,检位院棕达宛敢稽填闯唉烂阐虎挽童蹋甘侮侠苯汝米社介滴肪鸥科跟做咏第一章薄膜制备的真空技术基础第一章薄膜制备的真空技术基础,1,真空的定义,真空泛指压力低于一个大气压的任何气态空间,1,1真空的基本知识,2,真空。

8、半导体薄膜的制备和性能测试实验的特殊性及教学尝试,半导体薄膜的制备实验的特殊性及教学尝试,中国科学技术大学物理系邮政编码,许小亮徐军刘洪图,棘犁粪币素卷巾勃乎歼黎眶虽瘸砂缀肿虎瞬敞熟遵诉财听贰世冈逃蔡拆匝半导体薄膜的制备实验的特殊及教学尝试。

9、1,薄膜材料与技术1,李美成2008秋季学期,2,教材参考书,电子薄膜材料，曲喜新等编著，科学出版社，1997年11月薄膜科学与技术手册，田民波刘德令编著，机械工业出版社，1991年 薄膜技术，王力衡黄运添郑海涛著，清华大学出版社，1991。

10、半导体薄膜的制备和性能测试实验的特殊性及教学尝试,半导体薄膜的制备实验的特殊性及教学尝试,中国科学技术大学物理系邮政编码,许小亮徐军刘洪图,半导体薄膜的制备和性能测试实验的特殊性及教学尝试,四级物理实验的宗旨,按实验内容的基础普遍性,难易程。

11、第三章薄膜制备技术,蒸发法,一,真空蒸发法制备薄膜的基本原理,重点,二,真空蒸发的设备三,汽化热和蒸汽压四,蒸发的速率五,元素,化合物,合金蒸发的特点,重点,六,真空蒸发源七,薄膜均匀性和纯度,真空蒸发,一,真空蒸发沉积的物理原理在真空环境。

12、薄膜的物理气相沉积,1,第二章薄膜的物理气相沉积,I,蒸发法,物理气相沉积,PhysicalVaporDeposition,PVD,利用某种物理过程,如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象,实现物质原子从源物质到薄膜的可。

13、第8章薄膜材料与薄膜技术3,薄膜与高新技术,材料,信息技术与能源称为现代人类文明的三大支柱,国民经济的各部门和高技术领域的发展都不可避免地受到材料发展的制约或推动,新材料的发展水平成为了衡量国家技术水平和综合实力的重要标志,何谓,新材料,简。

14、第八章 薄膜材料的制备,主要内容：,薄膜材料基础薄膜的形成机理物理气相沉积化学气相沉积化学溶液镀膜法液相外延制膜法膜厚的测量与监控,1 薄膜材料基础,1. 薄膜材料的概念,采用一定方法，使处于某种状态的一种或几种物质原材料的基团以物理或化学。

15、10气相沉积技术,教学目的和要求,学习蒸发镀膜,溅射镀膜,离子镀膜,化学气相沉积等气相沉积技术的基本原理,主要特点,常见方法,技术种类,薄膜的形成过程等,重点掌握各种气相沉积技术的基本原理,主要特点,参考书,杨邦朝,王文生,薄膜物理与技术。

16、第二章薄膜制备技术,2,4迪通恒业科技开发的外延制膜技术,2,3富森钛金设备开发的溶液镀膜技术,2,2薄膜的化学气相沉积,2,1薄膜的物理气相沉积,第一节薄膜的物理气相沉积,2,1,1引言,薄膜生长方法是获得薄膜的关键,薄膜材料的质量和性能。

17、第三章薄膜制备技术,第三章薄膜制备技术,气相法,液相法,化学溶液镀膜法,化学镀,电镀,溶胶,凝胶,金属有机物分解,液相外延,水热法,喷雾热解,喷雾水解,膜及自组装,物理气相沉积,化学气相沉积,常压,低压,金属有机物,等离子体,光,热丝,真空。

18、薄膜材料与薄膜技术,王成新,薄膜材料的简单分类,薄膜材料,涂层或厚膜,薄膜,1um,材料保护涂层,材料装饰涂层,光电子学薄膜,微电子学薄膜,其它功能薄膜,1um,力,热,磁,生物等,薄膜材料的制备技术,薄膜材料的制备技术,机械或化学方法,真。

19、第2章 薄膜物理气相沉积蒸发法,主 要 内 容,引 言2.1 物质的热蒸发 2.2 薄膜沉积的厚度均匀性和纯度 2.3 真空蒸发装置,一定义 物理气相沉积Physical Vapor Deposition， PVD 利用某种物理过程，如物质。

20、先进材料制备技术,化材学院李涓,研究生课程,LOGO,1薄膜材料的制备,1,1薄膜的形成机理1,2物理气相沉积1,3化学气相沉积1,4化学溶液镀膜法1,5液相外延制膜法1,6膜厚的测量与监控,先进材料制备技术,LOGO,1,1薄膜的形成机理。