薄膜物理

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6、4,1辉光放电与等离子体4,2物质的溅射现象4,3溅射沉积技术,第四章薄膜制备技术,溅射法,第四章薄膜制备技术,溅射法,溅射法利用带电离子在电磁场的作用下获得足够的能量,轰击固体,靶,物质,从靶材表面被溅射出来的原子以一定的动能射向衬底,在。

7、1,第三章薄膜的物理气相沉积,溅射法及其他PVD方法,利用带有电荷的离子在电场中加速后具有一定动能的特点,将离子引向欲被溅射的物质做成的靶电极,在离子能量合适的情况下,入射离子在与靶表面原子的碰撞过程中将后者溅射出来,这些被溅射出来的原子带。

8、第二章薄膜的物理气相沉积,蒸发法,引言第一节物质的热蒸发第二节薄膜沉积的厚度均匀性和纯度第三节真空蒸发装置,引言,一,定义物理气相沉积PhysicalVaporDeposition,PVD,利用某种物理的过程,如热蒸发和溅射,实现物质原子从。

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11、第三章薄膜制备技术,蒸发法,一,真空蒸发法制备薄膜的基本原理,重点,二,真空蒸发的设备三,汽化热和蒸汽压四,蒸发的速率五,元素,化合物,合金蒸发的特点,重点,六,真空蒸发源七,薄膜均匀性和纯度,真空蒸发,一,真空蒸发沉积的物理原理在真空环境。

12、2023,10,13,1,1,第六讲薄膜工艺之物理气相淀积,主讲人,李方强,2023,10,13,2,引言,在集成电路制造工艺中,常常需要在硅片的表面淀积各种固体薄膜,薄膜厚度一般在纳米到微米的数量级,薄膜材料可以是金属,半导体或绝缘体,淀。

13、引言,薄膜沉积的物理方法简介,PVD的概念,在真空度较高的环境下,通过加热或高能粒子轰击的方法使源材料逸出沉积物质粒子,可以是原子,分子或离子,这些粒子在基片上沉积形成薄膜的技术,其技术关键在于,如何将源材料转变为气相粒子,而非CVD的化学。

14、1,7,3薄膜形成过程与生长模式,薄膜生长有三种模式,以岛状生长为主进行讨论,在形成稳定核后,岛状薄膜的形成过程如图,2,1,岛状阶段透射电子显微镜观察到的最小核的尺寸为23nm,核进一步长大成小岛的过程中,平行于基片表面的生长速度大于垂直。

15、第2章 薄膜物理气相沉积蒸发法,主 要 内 容,引 言2.1 物质的热蒸发 2.2 薄膜沉积的厚度均匀性和纯度 2.3 真空蒸发装置,一定义 物理气相沉积Physical Vapor Deposition, PVD 利用某种物理过程,如物质。

16、薄膜物理,桂林理工大学材料科学与工程学院,授课教师,周焕福,引言,盘子,金属板,图版,金银餐具镀,金,银等,电镀,给,装钢板层,阶层外套,动物的,皮毛,植物的,表皮,漆等的,层,涂层涂上,包上,薄,膜,隔膜,薄膜,膜层,胶卷,影片,薄雾,轻。

17、薄膜物理,陕西科技大学材料科学与工程学院,授课教师,蒲永平,引言,盘子,金属板,图版,金银餐具镀,金,银等,电镀,给,装钢板层,阶层外套,动物的,皮毛,植物的,表皮,漆等的,层,涂层涂上,包上,薄,膜,隔膜,薄膜,膜层,胶卷,影片,薄雾,轻。

18、1,薄膜材料与技术1,李美成2008秋季学期,2,教材参考书,电子薄膜材料,曲喜新等编著,科学出版社,1997年11月薄膜科学与技术手册,田民波刘德令编著,机械工业出版社,1991年 薄膜技术,王力衡黄运添郑海涛著,清华大学出版社,1991。

19、薄膜的形成,不同制备方法,其薄膜的形成机制不同,但存在共性问题,本章以真空蒸发制备薄膜为例,讨论薄膜形成问题,凝结过程核形成与生长薄膜形成过程与生长模式溅射薄膜的形成过程薄膜的外延生长薄膜形成过程的计算机模拟,阅读,薄膜的形成凝结过程,凝结。

20、第九章,薄膜物理淀积技术,薄膜沉积的特点,微电子技术中的薄膜种类繁多,一般都不能,也不需要,形成与衬底晶格匹配的晶体,形成非晶或多晶薄膜即可,但要求其界面的应力足够小,其生长的过程大致为,晶核形成,晶粒成长,晶粒聚结,逢道填补,成积膜成长。

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